JPH0545140B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、チエンバの内壁の洗滌が十分に行な
える高周波プラズマ発光分析装置に関する。

従来の技術 本出願人が出願した実願昭59−98750号（実開
昭61−14356号）明細書第２図に示された高周波
プラズマ発光分析装置等に用いられる試料霧化器
においては、分析対象が変る毎に、球形チエンバ
に設けられた洗滌注入ポートから洗滌液を注入
し、洗滌液注入ポートから噴出される洗滌液をチ
エンバの内壁面に沿つて流下させ、これにより洗
滌を行ない、チエンバの底部に流下した洗滌液を
吸出管により吸出し、外部に排出している。

発明が解決しようとする問題点 しかしながら、前記装置のチエンバは球形状に
形成されているため、その内壁面の傾斜面がゆる
やかとなつており、従つて洗滌注入ポートから注
入された洗滌液がその内壁面に沿つて流下する速
度が遅く、洗滌効果が不十分となる。このため、
洗滌を十分に行なうためには多量の洗滌液を流す
必要があり、洗滌液を吸出管により吸出し、外部
に排出する時間を含めて洗滌時間がかなり長くな
る。

そこで、本発明は、前記した従来技術の問題点
にかんがみ、少量の洗滌液で、短かい洗滌時間に
てチエンバの内壁面の洗滌を十分に行なうことが
できる高周波プラズマ発光分析装置を提供するこ
とを目的とする。

問題点を解決するための手段 本発明は、前記目的を達成するため、なす形チ
エンバと、前記チエンバの側面に配設されたトー
チポートと、前記チエンバの側面であつて、かつ
トーチポート配設位置下方に設けられたネブライ
ザと、前記チエンバの底部に設けられた試料液体
排出ポートと、前記チエンバの頭部に装着されて
おり、かつ試料液体導入管が固設されそして洗滌
液液圧により押下される可動ポートと該可動ポー
トに洗滌液を供給するための洗滌液ポートとを有
する試料液体洗滌液導入部とを備える高周波プラ
ズマ発光分析装置にある。

作 用 洗滌液導入ポートより洗滌液を供給し、その液
圧により可動ポートを押下し、これから噴出され
る洗滌液をなす形チエンバの内壁に沿つて流速を
増しながら流下させて洗滌を行なう。

実施例 以下に、本発明の実施例を、その側断面を示す
第１図に基づいて説明する。

同図において、１はパイレツクスガラス製のな
す形チエンバ、１ａはその側面に設けられた係止
片であり、２は支持架台、２ａはその側方に設け
られた係止片であり、係止片１ａと２ａとにコイ
ルばね３が装架され、なす形チエンバ１を支持架
台２に係止している。４はなす形チエンバ１の側
面上方に設けられたトーチポートであり、５は石
英製のトーチで、冷却ガス導入管５ａとプラズマ
ガス導入管５ｂが設けられている。６はなす形チ
エンバ１の底部に設けられた試料液体排出ポー
ト、７は試料液体である。８は試料液体導入孔８
ａとキヤリアガス導入孔８ｂとを有するパイレツ
クスガラス製のネブライザで、トーチポート４の
配設位置の下方であつて、なす形チエンバ１の同
一側面に設けられ、パツキング９を介して装着さ
れている。１０は三方弁であり、これを介して可
撓性の管状体１１がネブライザ８の試料液体導入
孔８ａと試料液体排出ポート６との間に連接され
ている。

１２はなす形チエンバ１の頭部に設けられた試
料液体洗滌液導入部で、試料液体導入管１３が固
設されており、かつ洗滌液の液圧により押下さ
れ、弁として機能するガラス製の可動ポート１４
と、この可動ポート１４を囲繞するガラス製の洗
滌液導入ポート１５との二重管構造により構成さ
れている。そして、可動ポート１４の側面上部と
洗滌液導入ポート１５の外周側面とにコイルばね
１６の両端が固設されており、コイルばね１６の
付勢力により可動ポート１５を上方に押上げ、こ
れを閉止している。１７はクリツプで、試料液体
洗滌液導入部１２をなす形チエンバ１に係止して
いる。

次に本実施例装置の作用を説明する。まず、試
料液体の霧化について説明すると、試料液体導入
管１３からなす形チエンバ１に導入された試料液
体７はその内壁に付着することなく底部に落下す
る。キヤリアガス導入孔８ｂからキヤリアガスを
導入すると、その負圧吸引作用により試料液体７
は試料液体排出ポート６から三方弁１０と、管状
体１１とを介し試料液体導入孔８ａに供給され、
ネブライザ８により霧化され、なす形チエンバ１
に導入される。霧化された試料粒子のうち所定値
以下の粒径を持つものはトーチポート４を介して
トーチ５に導入され、トーチ５に発生されるプラ
ズマ炎により加熱、励起され、その発光光を不図
示の光度計によりスペクトル波長とその強度を測
定し、試料の定性、定量を行なう。所定値以上の
粒径を持ち、思い試料粒子は落下し、試料液体排
出ポート６を介してネブライザ８に送られ、ここ
で霧化されてなす形チエンバ１に再び噴出され
る。

次に、なす形チエンバ１の内壁の洗滌作用につ
いて説明すると、試料液体導入管１３からの試料
液体の導入を停止し、三方弁１０を切換え、ネブ
ライザ８への流路を断ち、点線で示す流路を形成
させる。洗滌液導入ポート１５から洗滌液を導入
すると、その水圧により可動ポート１４がコイル
ばね１６の付勢力に抗して点線で示すように試料
液体導入管１３と共に押下げられ、弁が開放され
る。これにより、洗滌液は可動ポート１４の周囲
から勢よく噴出され、実線で示すようになす形チ
エンバ１の内壁に沿つて流下して行く。なす形チ
エンバ１の内壁の傾斜角は大であるから、可動ポ
ート１４から噴出される洗滌液は流速を増しつつ
流下して行き、これによりなす形チエンバ１の内
壁は十分に洗滌される。洗滌を終了した洗滌液は
試料液体排出ポート６と、管状体１１と、三方弁
１０を介して外部に排出される。

なお、ネプライザ８と管状体１１も合わせて洗
滌したい場合には、三方弁１０の流路を実線で示
すように切換え、キヤリアガス導入孔８ａからキ
ヤリアガスを導入する。キヤリアガスの導入によ
るその負圧吸引作用により、なす形チエンバ１の
底部にある洗滌液は試料液体排出ポート６から三
方弁１０と、管状体１１とを介して試料液体導入
孔８ａに導入され、霧状となつてなす形チエンバ
１内に導入され、ネブライザ８と管状体１１が洗
滌される。なお、この場合は、循環する洗滌液を
外部に排出し、新たな洗滌液を導入すると、一層
洗滌効果が上がる。

発明の効果 以上説明したように本発明によると、なす形チ
エンバの頭部に設けられた試料液体洗滌液導入部
の洗滌液導入ポートを介して洗滌液を導入し、そ
の液圧により可動ポートを押下げ、可動ポートか
ら噴出する洗滌液をなす形チエンバの内壁に沿つ
て流下させる構成となし、さらにチエンバがなす
形形状をなしているためその内壁の傾斜角が従来
装置の球形チエンバのそれよりも大であるから、
可動ポートから噴出され、なす形チエンバの内壁
に沿つて流れる洗滌液の流速が従来装置による場
合よりも一層大となり、これにより洗滌効果を増
大させることができる。従つて、従来装置のもの
に比し、少量の洗滌液で、かつ短かい洗滌時間で
なす形チエンバの内壁を十分に洗滌することがで
きる。また、なす形チエンバの頭部に設けられた
試料液体洗滌液導入部の試料液体導入管から流下
させる構成であるから、なす形チエンバの内壁に
試料液体を付着させることなく、導入することが
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例装置の側断面図であ
る。 １はなす形チエンバ、４はトーチポート、６は
試料液体排出ポート、８はネブライザ、８ａと８
ｂはネブライザ８の試料液体導入孔とキヤリアガ
ス導入孔、１１は管状体、１２は試料液体洗滌液
導入部、１４は可動ポート、１５は洗滌液導入ポ
ートを示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ なす形チエンバと、 前記チエンバの側面に配設されたトーチポート
   と、 前記チエンバの側面であつて、かつトーチポー
   ト配置位置下方に設けられたネブライザと、 前記チエンバの底部に設けられた試料液体排出
   ポートと、 前記チエンバの頭部に装着されており、かつ試
   料液体導入管が個設されそして洗滌液液圧により
   押下される可動ポートと該可動ポートに洗滌液を
   供給するための洗滌液ポートとを有する試料液体
   洗滌液導入部と を備える高周波プラズマ発光分析装置。 ２ 前記試料液体排出ポートとネブライザとを連
   接する管状体を備える前記特許請求の範囲１記載
   の高周波プラズマ発光分析装置。