JPS61228438A - 感光性組成物 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はジアゾ感光性組成物に関し、更に詳しくはオフ
セット版、凸版、グラビア版及び金属加工、プリント配
線板などの製造に用いる支持体に塗布するネガ型ジアゾ
感光性組成物に関する。
セット版、凸版、グラビア版及び金属加工、プリント配
線板などの製造に用いる支持体に塗布するネガ型ジアゾ
感光性組成物に関する。
感光性物質を支持体上に薄膜塗布して得られた感光板に
透明原画を通して露光し、露光部分と未露光部分とに溶
解性の差異を生じさせ、適当な溶剤にて現像し、感光板
上にレリーフ像を形成させる技術は種々提案されている
。
透明原画を通して露光し、露光部分と未露光部分とに溶
解性の差異を生じさせ、適当な溶剤にて現像し、感光板
上にレリーフ像を形成させる技術は種々提案されている
。
従来、このような目的のため使用される感光性組成物と
してはジアゾ化合物と高分子化合物の組合せが、ネガ型
平版印刷版の場合にはよく知られている。更に、ジアゾ
化合物と組合せて用いられる高分子化合物としては、そ
の分子中に、水酸基、アミノ基、シアノ基、ウレタン基
等の官能基を有する高分子化合物が有効に用いられる。
してはジアゾ化合物と高分子化合物の組合せが、ネガ型
平版印刷版の場合にはよく知られている。更に、ジアゾ
化合物と組合せて用いられる高分子化合物としては、そ
の分子中に、水酸基、アミノ基、シアノ基、ウレタン基
等の官能基を有する高分子化合物が有効に用いられる。
例えば、特公昭57−43890号公報に記載されたご
とくジアゾ樹脂と高分子構造中に芳香族性水酸基を有す
る高分子化合物とからなるもの、例えば特公昭52−7
564号、特公昭55−54929号各公報に記載され
たごとく、ジアゾ化合物と2−オキシアルキル(メタ)
アクリレートモノマーを含む高分子化合物とからなるも
の、ジアゾ化合物と2−オキシアルキル(メタ)アクリ
レートモノマー及びアクリロニトリルモノマーを含む高
分子化合物とからなるもの等の技術が開示されている。
とくジアゾ樹脂と高分子構造中に芳香族性水酸基を有す
る高分子化合物とからなるもの、例えば特公昭52−7
564号、特公昭55−54929号各公報に記載され
たごとく、ジアゾ化合物と2−オキシアルキル(メタ)
アクリレートモノマーを含む高分子化合物とからなるも
の、ジアゾ化合物と2−オキシアルキル(メタ)アクリ
レートモノマー及びアクリロニトリルモノマーを含む高
分子化合物とからなるもの等の技術が開示されている。
しかしながら、ジアゾ化合物と組合せて使用されている
、これら高分子化合物を含む感光性組成物は、金属板、
例えばアルミニウム板に塗設され、平版印刷版として供
される場合、特に疲労した現像液等で処理する場合等、
しばしば現像不良を引起しその結果印刷時に汚れ故障を
引起こす原因となっておシ問題が多い。また、アルカリ
性の水性現像液で多くの印刷版を現像処理した場合その
現像液中に沈殿を生じさせ、自現機のシャワーノズルの
目詰シ、ローラー上への沈殿の付着、更には沈殿物のロ
ーラーから印刷版への転写等によシ、汚れ故障を来たし
ておシ、問題が多い。
、これら高分子化合物を含む感光性組成物は、金属板、
例えばアルミニウム板に塗設され、平版印刷版として供
される場合、特に疲労した現像液等で処理する場合等、
しばしば現像不良を引起しその結果印刷時に汚れ故障を
引起こす原因となっておシ問題が多い。また、アルカリ
性の水性現像液で多くの印刷版を現像処理した場合その
現像液中に沈殿を生じさせ、自現機のシャワーノズルの
目詰シ、ローラー上への沈殿の付着、更には沈殿物のロ
ーラーから印刷版への転写等によシ、汚れ故障を来たし
ておシ、問題が多い。
本発明の目的は、金属支持体上等に塗設して感光性平版
印刷版として用いる場合、特に疲労したアルカリ性水性
現像液にて処理した時、現像不良の起きない、すなわち
汚れの起きない平版印刷版を提供することにある。また
、他の目的は、該感光性平版印刷版を迅速に処理する場
合、汚れのでない平版印刷版を提供することにある。
印刷版として用いる場合、特に疲労したアルカリ性水性
現像液にて処理した時、現像不良の起きない、すなわち
汚れの起きない平版印刷版を提供することにある。また
、他の目的は、該感光性平版印刷版を迅速に処理する場
合、汚れのでない平版印刷版を提供することにある。
更に他の目的は、該感光性平版印刷版を低温の現像液に
て処理する場合、現像不良の起きない、汚れのでない平
版印刷版を提供することにある。
て処理する場合、現像不良の起きない、汚れのでない平
版印刷版を提供することにある。
更に他の目的は、アルカリ性の水性現像液で長期間にわ
たってランニング現像処理した場合、その現像液中に沈
殿物等を生じさせない感光性組成物を提供することにあ
る。
たってランニング現像処理した場合、その現像液中に沈
殿物等を生じさせない感光性組成物を提供することにあ
る。
更に他の目的は、耐刷力のある感光性平版印刷版を提供
することにある。
することにある。
本発明を概説すれば、本発明は感光性組成物に関する発
明であってジアゾ化合物及び高分子化合物を含有する感
光性組成物において、該高分子化合物が、その分子構造
中にアルコール゛性水酸基を有するモノマー及び/又は
芳香族性水酸基を有するモノマーと、カルボキシル基ヲ
有するモノマーとよシの単位を含み、その重量平均分子
量(以下、M、と略記する)aooxlo”〜!L90
X104で、かつM、と数平均分子量との比(以下、分
散比と略記する)が5以下の高分子化合物であることを
特徴とする。
明であってジアゾ化合物及び高分子化合物を含有する感
光性組成物において、該高分子化合物が、その分子構造
中にアルコール゛性水酸基を有するモノマー及び/又は
芳香族性水酸基を有するモノマーと、カルボキシル基ヲ
有するモノマーとよシの単位を含み、その重量平均分子
量(以下、M、と略記する)aooxlo”〜!L90
X104で、かつM、と数平均分子量との比(以下、分
散比と略記する)が5以下の高分子化合物であることを
特徴とする。
以下、本発明を具体的に説明する。
本発明に使用する高分子化合物は、その分子構造中にア
ルコール性水酸基を有するモノマー及び/又は芳香族性
水酸基を有するモノマーと、カルボキシル基を有するモ
ノマーとよりの単位を含むものである。
ルコール性水酸基を有するモノマー及び/又は芳香族性
水酸基を有するモノマーと、カルボキシル基を有するモ
ノマーとよりの単位を含むものである。
アルコール性水酸基を有するモノマーの具体例としては
、下記一般式I: R。
、下記一般式I: R。
(式中、R1は水素原子、アルキル基又は置換アルキル
基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
又はクロロメチル基を示し、馬は水素原子又はメチル基
を示し、nは1〜1゜の整数を示す)で表される(メタ
)アクリル酸エステル類、あるいは(メタ)アクリルア
ミド類が挙げられる。
基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
又はクロロメチル基を示し、馬は水素原子又はメチル基
を示し、nは1〜1゜の整数を示す)で表される(メタ
)アクリル酸エステル類、あるいは(メタ)アクリルア
ミド類が挙げられる。
その例としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート
、2−ヒドロキシペンチル(メタ)アクリレート、2−
ヒドロキシエチルオキシエチル(メタ)アクリレート、
N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリルアミド等が°挙げられる。好
ましいのは2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート
である。
レート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート
、2−ヒドロキシペンチル(メタ)アクリレート、2−
ヒドロキシエチルオキシエチル(メタ)アクリレート、
N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリルアミド等が°挙げられる。好
ましいのは2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート
である。
また、芳香族性水酸基を有するモノマーとしてh、例、
tばN−(a−ヒドロキシフェニル)−(メタ)アクリ
ルアミド、N−(2−ヒドロキシフェニル)−(メタ)
アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシナフチル)−(
メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類の
モノマー、また例えば、〇−1m−又はp−ヒドロキシ
フェニル(メタ)アクリレートモノマー、更K例えば、
o−lm−又はp−ヒドロキシスチレンモノマー等が挙
げられる。好ましいのはN−(4−ヒドロキシフェニル
)−(メタ)アクリルアミドである。
tばN−(a−ヒドロキシフェニル)−(メタ)アクリ
ルアミド、N−(2−ヒドロキシフェニル)−(メタ)
アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシナフチル)−(
メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類の
モノマー、また例えば、〇−1m−又はp−ヒドロキシ
フェニル(メタ)アクリレートモノマー、更K例えば、
o−lm−又はp−ヒドロキシスチレンモノマー等が挙
げられる。好ましいのはN−(4−ヒドロキシフェニル
)−(メタ)アクリルアミドである。
該アルコール性水酸基を有するモノマーがその原料高分
子組成物中に含有する割合は好ましくは30〜80重量
%で、よシ好ましくは40〜60重it%である。他方
、芳香族性水酸基を有するモノマーがその原料高分子組
成物中に含有する割合は好ましくは1〜80重量%で、
よシ好ましくは2〜40重量%である。また、これら両
者の水酸基を有するモノマーは、同一分子中に混合して
用いることも可能であシ、そのトータル含量は好ましく
は31〜90重量%である。
子組成物中に含有する割合は好ましくは30〜80重量
%で、よシ好ましくは40〜60重it%である。他方
、芳香族性水酸基を有するモノマーがその原料高分子組
成物中に含有する割合は好ましくは1〜80重量%で、
よシ好ましくは2〜40重量%である。また、これら両
者の水酸基を有するモノマーは、同一分子中に混合して
用いることも可能であシ、そのトータル含量は好ましく
は31〜90重量%である。
本発明の高分子化合物を構成する単位の原料の1つであ
るカルボキシル基を有するモノマーの例としては、不飽
和基を有するカルボキシル基が挙げられ、その例として
はアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸及びその無水
物、クロトン酸、マレイン酸及びその無水物が挙げられ
る。好ましいのは、アクリル酸、メタクリル酸である。
るカルボキシル基を有するモノマーの例としては、不飽
和基を有するカルボキシル基が挙げられ、その例として
はアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸及びその無水
物、クロトン酸、マレイン酸及びその無水物が挙げられ
る。好ましいのは、アクリル酸、メタクリル酸である。
しかして、本発明の特徴は該カルボキシル基を有するモ
ノマーよシの単位を含むときに、その高分子化合物の分
子量効果が%KaJJ著に発抑されることにあシ興味深
い現象である。
ノマーよシの単位を含むときに、その高分子化合物の分
子量効果が%KaJJ著に発抑されることにあシ興味深
い現象である。
該カルボキシル基、若しくはカルボン酸無水物基を有す
るモノマーの高分子分子中に含有するその割合は、1〜
20モル%が好ましく、よシ好ましくは2〜15モル%
である。
るモノマーの高分子分子中に含有するその割合は、1〜
20モル%が好ましく、よシ好ましくは2〜15モル%
である。
本発明におけるこれらモノマーは他のモノマーと共重合
させて用いることも有効である。
させて用いることも有効である。
共重合させるモノマーの例としては、
(1) アクリロニトリル、メタクリレートリル等(
2) アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、
アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリルe
−2−10ロエチル、グリシジルアクリレート、N−ジ
メチルアミノエチルアクリレート等の(置換)アルキル
アクリレート (3) メチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、
アミルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート
、グリシジルメタクリレート、N−ジメチルアミノエチ
ルメタクリレート等の(置換)アルキルメタクリレート (4) アクリルアミド、メタクリルアミド、N−エ
チルアクリルアミド、N−へキシルメタクリルアミド、
N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−フェニルアク
リルアミド、N−二トロフェニルアクリルアミド、N−
エテル−N−フェニルアクリルアミド・等のアクリルア
ミド若しくはメタクリルアミド類 (5) エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビ
ニルエーテル、フロビルビニルエーテル、フチルビニル
エーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエ
ーテル等ノビニルエーテル類 (6) ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート
、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステ
ル類 (7) スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチ
レン、クロロメチルスチレン等のスチレン類 (8) メチルビニルケトン、エチルビニルケト/、
プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニ
ルケトン類 (9) エチレン、フロピレン、イソブチレン、フタ
ジエン、イソプレン等のオレフィン類αON−ビニルピ
ロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピリジ
ン等 が挙げられるが、その他芳香族性若しくはアルコール性
水酸基を含有するモノマー又はカルボキシル基を有する
モノマーと共重合し得るモノマーであればいずれのモノ
マーでもよい。
2) アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、
アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリルe
−2−10ロエチル、グリシジルアクリレート、N−ジ
メチルアミノエチルアクリレート等の(置換)アルキル
アクリレート (3) メチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、
アミルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート
、グリシジルメタクリレート、N−ジメチルアミノエチ
ルメタクリレート等の(置換)アルキルメタクリレート (4) アクリルアミド、メタクリルアミド、N−エ
チルアクリルアミド、N−へキシルメタクリルアミド、
N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−フェニルアク
リルアミド、N−二トロフェニルアクリルアミド、N−
エテル−N−フェニルアクリルアミド・等のアクリルア
ミド若しくはメタクリルアミド類 (5) エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビ
ニルエーテル、フロビルビニルエーテル、フチルビニル
エーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエ
ーテル等ノビニルエーテル類 (6) ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート
、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステ
ル類 (7) スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチ
レン、クロロメチルスチレン等のスチレン類 (8) メチルビニルケトン、エチルビニルケト/、
プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニ
ルケトン類 (9) エチレン、フロピレン、イソブチレン、フタ
ジエン、イソプレン等のオレフィン類αON−ビニルピ
ロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピリジ
ン等 が挙げられるが、その他芳香族性若しくはアルコール性
水酸基を含有するモノマー又はカルボキシル基を有する
モノマーと共重合し得るモノマーであればいずれのモノ
マーでもよい。
本発明の高分子化合物を合成する方法としては、一般に
公知のラジカル重合法によって容易に合成されるが、従
来公知の方法に比較して、開始剤濃度は高目に、また、
溶媒のモノマーに対する量比は多口にするのが好ましい
。また、必要に応じてボリノ・ロゲン化炭化水素及びメ
ルカプタン類等の連鎖移動剤を添加して用いて重合させ
ることも好ましく用いられる。例えば、アセトンとメタ
ノールの混合溶媒(1:1重量比)にて開始剤としてア
ゾビスイソブチロニトリルを使用する場合はトータルモ
ノマー濃度CM)は2〜b (M) / 1%開始剤濃
度〔!〕は1.5〜4.5モル%が好ましく用いられる
。必要に応じて添加するポリハロゲン化炭化水素の具体
例としては、四塩化炭素、四臭化炭素、クロロホルム、
ジクロロエタン等が挙げられる。メルカプタン類の例と
してはドデシルメルカプタン、ベンジルメルカプタン等
が挙げられる。かくして合成された本発明の高分子化合
物はアルコール性水酸基及び/又は芳香族性水酸基を有
するモノマーと、及び不飽和カルボン酸系モノマーとよ
りの単位を含む高分子化合物は、その分子量が従来のも
のく比較し、比較的低いことが特徴である。すなわち、
一般に公知のゲルパーミェーションクロマトグラフィー
法(以下、GPC法と略記する)Kよる標準ポリスチレ
ン比較分子量にして、本発明の高分子化合物のM、は5
.00×10s〜&90X104でかつ分散比が5以下
であることが特徴である。好ましくはM、が1,00×
104〜aoox1oaでかつ分散比が4以下であるこ
とを特徴とするものである。更に好ましくはM、が1.
50 X 104〜t OOX 104でかつ分散比が
3以下であることを特徴とするものである。
公知のラジカル重合法によって容易に合成されるが、従
来公知の方法に比較して、開始剤濃度は高目に、また、
溶媒のモノマーに対する量比は多口にするのが好ましい
。また、必要に応じてボリノ・ロゲン化炭化水素及びメ
ルカプタン類等の連鎖移動剤を添加して用いて重合させ
ることも好ましく用いられる。例えば、アセトンとメタ
ノールの混合溶媒(1:1重量比)にて開始剤としてア
ゾビスイソブチロニトリルを使用する場合はトータルモ
ノマー濃度CM)は2〜b (M) / 1%開始剤濃
度〔!〕は1.5〜4.5モル%が好ましく用いられる
。必要に応じて添加するポリハロゲン化炭化水素の具体
例としては、四塩化炭素、四臭化炭素、クロロホルム、
ジクロロエタン等が挙げられる。メルカプタン類の例と
してはドデシルメルカプタン、ベンジルメルカプタン等
が挙げられる。かくして合成された本発明の高分子化合
物はアルコール性水酸基及び/又は芳香族性水酸基を有
するモノマーと、及び不飽和カルボン酸系モノマーとよ
りの単位を含む高分子化合物は、その分子量が従来のも
のく比較し、比較的低いことが特徴である。すなわち、
一般に公知のゲルパーミェーションクロマトグラフィー
法(以下、GPC法と略記する)Kよる標準ポリスチレ
ン比較分子量にして、本発明の高分子化合物のM、は5
.00×10s〜&90X104でかつ分散比が5以下
であることが特徴である。好ましくはM、が1,00×
104〜aoox1oaでかつ分散比が4以下であるこ
とを特徴とするものである。更に好ましくはM、が1.
50 X 104〜t OOX 104でかつ分散比が
3以下であることを特徴とするものである。
M、が!L90X10’よシ大きい場合は本発明の効果
が顕著に発揮されなくなシ、他方、−〇〇×101未満
では感光性組成物として供した場合、そのレジスト強度
が小さくなったシ、薬品に対する抵抗性が落ちたシして
、平版印刷版等に用いたとき、耐刷力が低下する傾向に
ある。
が顕著に発揮されなくなシ、他方、−〇〇×101未満
では感光性組成物として供した場合、そのレジスト強度
が小さくなったシ、薬品に対する抵抗性が落ちたシして
、平版印刷版等に用いたとき、耐刷力が低下する傾向に
ある。
また、分散比が5よシ大きくなると、現像の汚れ等の本
発明の効果が極端に落ちると共に1他方ではレジスト強
度も悪くなる傾向にあシ好ましくない。
発明の効果が極端に落ちると共に1他方ではレジスト強
度も悪くなる傾向にあシ好ましくない。
該高分子化合物の感光性組成物に対する含量は、全組成
物に対して30〜99重量%が好ましく、更に好ましく
は40〜97重量%である。
物に対して30〜99重量%が好ましく、更に好ましく
は40〜97重量%である。
本発明に使用するジアゾ化合物には、芳香族ジアゾニウ
ム塩と例えば活性カルボニル含有化合物、殊にホルムア
ルデヒドとの縮合物で代表されるジアゾ樹脂が含まれ、
その中で有機溶媒可溶性のジアゾ樹脂が好ましい。
ム塩と例えば活性カルボニル含有化合物、殊にホルムア
ルデヒドとの縮合物で代表されるジアゾ樹脂が含まれ、
その中で有機溶媒可溶性のジアゾ樹脂が好ましい。
ジアゾ樹脂としては、例えばp−ジアゾジフェニルアミ
ンとホルムアルデヒド又はアセトアルデヒドの縮合物と
、ヘキサフルオロリン酸塩、テトラフルオロホウ酸塩と
の有機溶媒可溶の反応生成物であるジアゾ樹脂無機塩、
また米国特許第3300309号明細書に記載されてい
るような、前記縮合物とスルホン酸類例えばパラトルエ
ンスルホン酸又はその塩、ホスフィン酸類例えばベンゼ
ンホスフィン酸又はその塩、ヒドロキシル基含有化合物
例えば2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸
又はその塩等の反応生成物である有機溶媒可溶性ジアゾ
樹脂有機酸塩等が挙げられる。
ンとホルムアルデヒド又はアセトアルデヒドの縮合物と
、ヘキサフルオロリン酸塩、テトラフルオロホウ酸塩と
の有機溶媒可溶の反応生成物であるジアゾ樹脂無機塩、
また米国特許第3300309号明細書に記載されてい
るような、前記縮合物とスルホン酸類例えばパラトルエ
ンスルホン酸又はその塩、ホスフィン酸類例えばベンゼ
ンホスフィン酸又はその塩、ヒドロキシル基含有化合物
例えば2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸
又はその塩等の反応生成物である有機溶媒可溶性ジアゾ
樹脂有機酸塩等が挙げられる。
好ましい例としては、下記一般式■:
(式中、烏、曳及び馬は水素原子、アルキル基又はアル
コキシ基例えば、メチル基、エチル基、メトキシ基若し
くはエトキシ基等を示し、Rは水素原子、アルキル基例
えば、メチル基、エチル基若しくはプロピル基等、又は
フェニル基を示し、XはPF、又はBP、を示し、nは
1〜200の数を示す)で表され、かつ該式におけるn
が5以上である樹脂を20モル%以上、好ましくは20
〜60モル%含有するものがある。
コキシ基例えば、メチル基、エチル基、メトキシ基若し
くはエトキシ基等を示し、Rは水素原子、アルキル基例
えば、メチル基、エチル基若しくはプロピル基等、又は
フェニル基を示し、XはPF、又はBP、を示し、nは
1〜200の数を示す)で表され、かつ該式におけるn
が5以上である樹脂を20モル%以上、好ましくは20
〜60モル%含有するものがある。
本発明に係る感光性組成物中のジアゾ樹脂の含有量は、
好ましくは1〜70重量う、更に好ましくは3〜60重
量%である。
好ましくは1〜70重量う、更に好ましくは3〜60重
量%である。
更に本発明において使用し得る添加剤としては、染料が
ある。これは画像を可視画化することと目的としたもの
で、アクリジン染料、シアニン染料、ステリル染料、ト
リフェニルメタン染料やフタロシアニンなどの顔料、ま
た露光による可視画化を目的とする光発色性物質(アジ
ド化合物、スピロピラン系化合物)を添加することがで
きる。例えば、ビクトリアピュアーブルーBOH、ビク
トリアブルーペースIP−4R。
ある。これは画像を可視画化することと目的としたもの
で、アクリジン染料、シアニン染料、ステリル染料、ト
リフェニルメタン染料やフタロシアニンなどの顔料、ま
た露光による可視画化を目的とする光発色性物質(アジ
ド化合物、スピロピラン系化合物)を添加することがで
きる。例えば、ビクトリアピュアーブルーBOH、ビク
トリアブルーペースIP−4R。
クリスタルバイオレット、ビクトリアブルー、メチルバ
イオレット、オイルブルー603、ローダリンブルーフ
コンク、グイアクリルスーパーブラック等が挙げられる
が、これらに限られるものではない。染料は、感光性組
成物中に通常約15〜約10重′Ik%、好ましくけ約
1〜5重量島含有させる。
イオレット、オイルブルー603、ローダリンブルーフ
コンク、グイアクリルスーパーブラック等が挙げられる
が、これらに限られるものではない。染料は、感光性組
成物中に通常約15〜約10重′Ik%、好ましくけ約
1〜5重量島含有させる。
本発明の感光性組成物には、更に種々の添加物を加える
ことができる。
ことができる。
例えば、塗布性を改良するためのアルキルエーテル類(
例、tばエチルセルロース、メチルセルロース)、フッ
素系界面活性剤類や、ノニオン系界面活性剤〔例えば、
プルロニックL−64(旭電化株式会社製)〕、塗膜の
柔軟性、耐摩耗性を賦与するための可塑剤(例えばブチ
ルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブ
チル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、7タル酸
ジヘキシル、7タル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル
、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸
テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸
のオリゴマー)、画像部の感脂性を向上させるための感
脂化剤(例えば、特開昭55−527号公報記載のスチ
レン−無水マレイン酸共重合体のアルコールによるハー
フェステル化物等)、安定剤〔例えば、ポリアクリル酸
、酒石酸、リン酸、亜リン酸、有機酸(アクリル酸、メ
タクリル酸、クエン酸、シュウ酸、ベンゼンスルホン酸
、ナフタレンスルホン酸、4−メトキシ−2−ヒドロキ
シベンゾフェノン−5−スルホン酸%))等が挙げられ
る。これらの添加剤の添加量はその使用対象目的によっ
て異なるが、一般に全固形分に対して、0.01〜30
重量%である。
例、tばエチルセルロース、メチルセルロース)、フッ
素系界面活性剤類や、ノニオン系界面活性剤〔例えば、
プルロニックL−64(旭電化株式会社製)〕、塗膜の
柔軟性、耐摩耗性を賦与するための可塑剤(例えばブチ
ルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブ
チル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、7タル酸
ジヘキシル、7タル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル
、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸
テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸
のオリゴマー)、画像部の感脂性を向上させるための感
脂化剤(例えば、特開昭55−527号公報記載のスチ
レン−無水マレイン酸共重合体のアルコールによるハー
フェステル化物等)、安定剤〔例えば、ポリアクリル酸
、酒石酸、リン酸、亜リン酸、有機酸(アクリル酸、メ
タクリル酸、クエン酸、シュウ酸、ベンゼンスルホン酸
、ナフタレンスルホン酸、4−メトキシ−2−ヒドロキ
シベンゾフェノン−5−スルホン酸%))等が挙げられ
る。これらの添加剤の添加量はその使用対象目的によっ
て異なるが、一般に全固形分に対して、0.01〜30
重量%である。
このような感光性組成物を支持体上に設層するKは、上
述のジアゾ化合物、高分子化合物並びに必要に応じ種々
の添加剤の所定量を適当な溶媒(メチルセロソルブ、メ
チルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、アセト
ン、メチルエチルケトン、メタノール、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、水又はこれらの混合物
等)中に溶解させ感光液を調製し、これを支持体上に塗
布、乾燥すればよい。塗布する際の感光性組成物の濃度
は1〜50重債鴨の範囲とすることが望ましい。この場
合、感光性組成物の塗布量は、おおむね0.2〜10
t/yn”程度とすればよい。
述のジアゾ化合物、高分子化合物並びに必要に応じ種々
の添加剤の所定量を適当な溶媒(メチルセロソルブ、メ
チルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、アセト
ン、メチルエチルケトン、メタノール、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、水又はこれらの混合物
等)中に溶解させ感光液を調製し、これを支持体上に塗
布、乾燥すればよい。塗布する際の感光性組成物の濃度
は1〜50重債鴨の範囲とすることが望ましい。この場
合、感光性組成物の塗布量は、おおむね0.2〜10
t/yn”程度とすればよい。
本発明の感光性組成物を塗布する支持体としては、種々
なものが使用されるが、感光性平版印刷版に使用する場
合は、特にアルミニウム板が好ましい。しかし、アルミ
ニウム板を無処理のまま使用すると、感光性組成物の接
着性が悪く、また、感光性組成物が分解する欠点がある
。
なものが使用されるが、感光性平版印刷版に使用する場
合は、特にアルミニウム板が好ましい。しかし、アルミ
ニウム板を無処理のまま使用すると、感光性組成物の接
着性が悪く、また、感光性組成物が分解する欠点がある
。
この欠点をなくすため、従来、種々の提案がなされてい
る。
る。
例えば、アルミニウム板の表面を砂目立てした後、ケイ
酸塩で処理する方法(米国特許第2114066号)、
有機酸塩で処理する方法(米国特許第2714066号
)、ホスホン酸及びそれらの窮導体で処理する方法(米
国特許第3220832号)、ヘキサフルオロジルコン
酸カリウムで処理する方法(米国特許第2946685
号)、陽極酸化する方法及び陽極酸化後、アルカリ金属
ケイ酸塩の水溶液で処理する方法(米国特許第31B1
461号)等がある。
酸塩で処理する方法(米国特許第2114066号)、
有機酸塩で処理する方法(米国特許第2714066号
)、ホスホン酸及びそれらの窮導体で処理する方法(米
国特許第3220832号)、ヘキサフルオロジルコン
酸カリウムで処理する方法(米国特許第2946685
号)、陽極酸化する方法及び陽極酸化後、アルカリ金属
ケイ酸塩の水溶液で処理する方法(米国特許第31B1
461号)等がある。
本発明において感光性組成物を設層するアルミニウム板
(アルミナ積層板を含む、以下同じ)は、表面を脱脂し
た後、ブラシ研磨法、ボール研磨法、化学研磨法、電解
エツチング法が用いられ、好ましくは深くて均質な砂目
の得られる電解エツチング法で砂目立てされる。陽極酸
化処理は例えばリン酸、クロム酸、ホウ酸、硫酸等の無
機塩若しくはシュウ酸等の有機酸の単独、あるいはこれ
らの酸2種以上を混合した水溶液中で、好ましくは硫酸
水溶液中でアルミニウム板を陽極として電流を通じるこ
とによって行われる。陽極酸化被膜量は5〜60〜/d
−が好ましく、更に好ましくは5〜30ダ/d−である
。本発明に適用される好ましい封孔処理はケイ酸ナトリ
ウム水溶液、濃度11〜3%、温度80〜95℃で10
秒〜2分間浸漬して行われ、よシ好ましくはその後に4
0〜95℃の水IC10秒〜2分間浸漬して処理される
。
(アルミナ積層板を含む、以下同じ)は、表面を脱脂し
た後、ブラシ研磨法、ボール研磨法、化学研磨法、電解
エツチング法が用いられ、好ましくは深くて均質な砂目
の得られる電解エツチング法で砂目立てされる。陽極酸
化処理は例えばリン酸、クロム酸、ホウ酸、硫酸等の無
機塩若しくはシュウ酸等の有機酸の単独、あるいはこれ
らの酸2種以上を混合した水溶液中で、好ましくは硫酸
水溶液中でアルミニウム板を陽極として電流を通じるこ
とによって行われる。陽極酸化被膜量は5〜60〜/d
−が好ましく、更に好ましくは5〜30ダ/d−である
。本発明に適用される好ましい封孔処理はケイ酸ナトリ
ウム水溶液、濃度11〜3%、温度80〜95℃で10
秒〜2分間浸漬して行われ、よシ好ましくはその後に4
0〜95℃の水IC10秒〜2分間浸漬して処理される
。
支持体上に塗布された感光材料は、従来の常法が適用さ
れる。すなわち、線画像、網点画像等を有する透明原画
を通して感光し、次いで、水性現像液で現像することに
よシ、原画に対してネガのレリーフ像が得られる。露光
に好適な光源としては、カーボンアーク灯、水銀灯、キ
セノンランプ、メタルハライドランプ、ストロボ等が挙
げられる。
れる。すなわち、線画像、網点画像等を有する透明原画
を通して感光し、次いで、水性現像液で現像することに
よシ、原画に対してネガのレリーフ像が得られる。露光
に好適な光源としては、カーボンアーク灯、水銀灯、キ
セノンランプ、メタルハライドランプ、ストロボ等が挙
げられる。
本発明に係る感光性印刷版の現像処理に用いられる現像
液社公知のいずれのものであっても良いが、好ましくは
以下のものがよい。すなわち本発明に係る感光性印刷版
を現像する現像液は、特定の有機溶媒と、アルカリ剤と
、水とを必須成分として含有する。ここに特定の有機溶
媒とは、現像液中に含有させたとき上述の感光性組成物
層の非露光部(非画像部)を溶解又は膨潤することがで
き、しかも常温(20℃)において水に対する溶解度が
10重f%以下の有機溶媒をいう。このような有機溶媒
としては上記のような特性を有するものでありさえすれ
ばよく、以下のもののみに限定されるものではないが、
これらを例示するならば、例えば酢酸エチル、酢酸プロ
ピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、エチレ
ングリコールモノブチルアセテート、乳酸ブチル、レブ
リン酸ブチルのヨウナカルボン酸エステル雪エテルブチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン
のようなケトン類纂エチレングリコールモツプチルエー
テル、エチレングリコールベンジルエーテル、エチレン
グリコールモノフェニルエーテル、ベンジルアルコール
、メチルフェニルカルビノール、n−アミルアルコール
、メチルアミルアルコールのようなアルコール類纂キシ
レンのようなアルキル置換芳香族炭化水素富メチレンジ
クロライド、エチレンジクロライド、モノクロロベンゼ
ンのようなハロゲン化炭化水素などがある。これら有機
溶媒は一種以上用いてもよい。これら有機溶媒の中では
、エチレングリコールモノフェニルエーテルとベンジル
アルコールが特に有効である。また、これら有機溶媒の
現像液中における含有量は、おおむね1〜20重量%で
あり、特に2〜10重量%のときよシ好ましい結果を得
る。
液社公知のいずれのものであっても良いが、好ましくは
以下のものがよい。すなわち本発明に係る感光性印刷版
を現像する現像液は、特定の有機溶媒と、アルカリ剤と
、水とを必須成分として含有する。ここに特定の有機溶
媒とは、現像液中に含有させたとき上述の感光性組成物
層の非露光部(非画像部)を溶解又は膨潤することがで
き、しかも常温(20℃)において水に対する溶解度が
10重f%以下の有機溶媒をいう。このような有機溶媒
としては上記のような特性を有するものでありさえすれ
ばよく、以下のもののみに限定されるものではないが、
これらを例示するならば、例えば酢酸エチル、酢酸プロ
ピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、エチレ
ングリコールモノブチルアセテート、乳酸ブチル、レブ
リン酸ブチルのヨウナカルボン酸エステル雪エテルブチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン
のようなケトン類纂エチレングリコールモツプチルエー
テル、エチレングリコールベンジルエーテル、エチレン
グリコールモノフェニルエーテル、ベンジルアルコール
、メチルフェニルカルビノール、n−アミルアルコール
、メチルアミルアルコールのようなアルコール類纂キシ
レンのようなアルキル置換芳香族炭化水素富メチレンジ
クロライド、エチレンジクロライド、モノクロロベンゼ
ンのようなハロゲン化炭化水素などがある。これら有機
溶媒は一種以上用いてもよい。これら有機溶媒の中では
、エチレングリコールモノフェニルエーテルとベンジル
アルコールが特に有効である。また、これら有機溶媒の
現像液中における含有量は、おおむね1〜20重量%で
あり、特に2〜10重量%のときよシ好ましい結果を得
る。
他方、現像液中に含有されるアルカリ剤としては、
(4) ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化カ
リウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二又は
第三リン酸のナトリウム又はアンモニウム塩、メタケイ
酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の無機ア
ルカリ剤 ■) モノ、ジ又はトリメチルアミン、モノ、ジ又はト
リエチルアミン、モノ又はジイソプロピルアミン、n−
ブチルアミン、モノ、ジ又はトリエタノールアミン、モ
ノ、ジ又はトリイソプロパツールアミン、エチレンイミ
ン、エチレンジアミン等の有機アミン化合物等が挙げら
れる。
リウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二又は
第三リン酸のナトリウム又はアンモニウム塩、メタケイ
酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の無機ア
ルカリ剤 ■) モノ、ジ又はトリメチルアミン、モノ、ジ又はト
リエチルアミン、モノ又はジイソプロピルアミン、n−
ブチルアミン、モノ、ジ又はトリエタノールアミン、モ
ノ、ジ又はトリイソプロパツールアミン、エチレンイミ
ン、エチレンジアミン等の有機アミン化合物等が挙げら
れる。
好ましいのは(ト)の有機アミン化合物であシ特に好ま
しいのはジ又はトリエタノールアミンである。
しいのはジ又はトリエタノールアミンである。
これらアルカリ剤の現像液中における含有量は通常aO
S〜4重量%で、好ましくは(L5〜2重量%である。
S〜4重量%で、好ましくは(L5〜2重量%である。
また、保存安定性、耐刷性等をよシ以上に高めるために
は、水溶性亜硫酸塩を現像液中に含有させることが好ま
しい。このような水溶性亜硫酸塩としては、亜硫酸のア
ルカリ又はアルカリ土類金属塩が好ましく、例えば亜硫
酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫
酸マグネシウム等がある。これらの亜硫酸塩の現像液組
成物における含有量は通常Q、05〜4重量%で、好ま
しくは11〜1重量%である。
は、水溶性亜硫酸塩を現像液中に含有させることが好ま
しい。このような水溶性亜硫酸塩としては、亜硫酸のア
ルカリ又はアルカリ土類金属塩が好ましく、例えば亜硫
酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫
酸マグネシウム等がある。これらの亜硫酸塩の現像液組
成物における含有量は通常Q、05〜4重量%で、好ま
しくは11〜1重量%である。
また、上述の有機溶媒の水への溶解を助けるために一定
の可溶化剤を含有させることもできる。このような可溶
化剤としては、本発明の所期の効果を実現するため、用
いる有機溶媒よ)水易溶性で、低分子のアルコール、ケ
トン類を用いるのがよい。また、アニオン活性剤、両性
活性剤等も用いることができる。このようなアルコール
、ケト/類としては、例えばメタノール、エタノール、
プロパツール、ブタノール、アセトン、メチルエチルケ
トン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレ
ンクリコールモノエチルエーテル、メトキシブタノール
、エトキシブタノール、4−メトキシ−4−メチルブタ
ノール、N−メチルピロリドン等を用いることが好まし
い。また、活性剤としては例えばイソプロピルナフタレ
ンスルホン酸ナトリウム、n−ブチルナフタレンスルホ
ン酸ナトリウム、N−メチル−N−ペンタデシルアミノ
酢酸ナトリウム、ラウリルサル7エートナトリウム塩等
が好ましい。これらアルコール、ケトン類等の可溶化剤
の使用量については特に制限はないが、一般に現像液全
体く対し約30mt%以下とすることが好ましい。本発
明の特徴は上記の水系アルカリ現像にて現像する際に、
その高分子化合物の分子量効果が顕著に発揮されること
にあシ、興味深い事実である。
の可溶化剤を含有させることもできる。このような可溶
化剤としては、本発明の所期の効果を実現するため、用
いる有機溶媒よ)水易溶性で、低分子のアルコール、ケ
トン類を用いるのがよい。また、アニオン活性剤、両性
活性剤等も用いることができる。このようなアルコール
、ケト/類としては、例えばメタノール、エタノール、
プロパツール、ブタノール、アセトン、メチルエチルケ
トン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレ
ンクリコールモノエチルエーテル、メトキシブタノール
、エトキシブタノール、4−メトキシ−4−メチルブタ
ノール、N−メチルピロリドン等を用いることが好まし
い。また、活性剤としては例えばイソプロピルナフタレ
ンスルホン酸ナトリウム、n−ブチルナフタレンスルホ
ン酸ナトリウム、N−メチル−N−ペンタデシルアミノ
酢酸ナトリウム、ラウリルサル7エートナトリウム塩等
が好ましい。これらアルコール、ケトン類等の可溶化剤
の使用量については特に制限はないが、一般に現像液全
体く対し約30mt%以下とすることが好ましい。本発
明の特徴は上記の水系アルカリ現像にて現像する際に、
その高分子化合物の分子量効果が顕著に発揮されること
にあシ、興味深い事実である。
本発明に係る感光性印刷版は、像様露光した後、上述の
現像液に接触させた夛、あるいはこすったりすれば、約
10℃〜40℃にて10〜60秒後には、感光性組成物
層の露光部に悪影響を及ぼすことなく、非露光部の感光
性組成物が完全に除去されることになる。
現像液に接触させた夛、あるいはこすったりすれば、約
10℃〜40℃にて10〜60秒後には、感光性組成物
層の露光部に悪影響を及ぼすことなく、非露光部の感光
性組成物が完全に除去されることになる。
次に1本発明に使用される高分子°化合物の代表的なも
のKついて合成例を示す。
のKついて合成例を示す。
合成例1
N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド17
.9?、アクリロニトリル1&1f。
.9?、アクリロニトリル1&1f。
エチルアクリレート74.41F、メタクリル酸a7?
(それぞれのモル比は8:24:60:8)を蒸留アセ
トン180mj、蒸留メタノール180−に溶解させ(
トータルモノマー濃度:五5モル/ / ) 、アゾビ
スインブチロニトリル6.2f((1):3モル%)を
添加し、窒素気流中、還流状態で8時間重合反応を行っ
た。反応終了後、反応液を濃縮し、大量の水中にかくは
ん下投入し、生じた白色沈殿をF取乾燥し、共重合体−
1の110fを得た。
(それぞれのモル比は8:24:60:8)を蒸留アセ
トン180mj、蒸留メタノール180−に溶解させ(
トータルモノマー濃度:五5モル/ / ) 、アゾビ
スインブチロニトリル6.2f((1):3モル%)を
添加し、窒素気流中、還流状態で8時間重合反応を行っ
た。反応終了後、反応液を濃縮し、大量の水中にかくは
ん下投入し、生じた白色沈殿をF取乾燥し、共重合体−
1の110fを得た。
次に示すGPO条件で測定し結果を次に示した。
M、 :L90X104、分散比:1.98GPO測定
条件 GI’O装置:日立社製635型GPC装置カラム
: ショデツクスム802×ム803×ム804流
量 : テトラヒドロフラン1.5d/分分子量換算
:標準ポリスチレン換算 〔東洋ソーダ(株)製造〕 合成例2 合成例1におけるアゾビスインブチロニトリルの量を1
b2tの代シに五5を添加した以外はすべて同様に処理
し、共重合体−2の115fを得た。crpc測定の結
果は、以下のごとくであった。
条件 GI’O装置:日立社製635型GPC装置カラム
: ショデツクスム802×ム803×ム804流
量 : テトラヒドロフラン1.5d/分分子量換算
:標準ポリスチレン換算 〔東洋ソーダ(株)製造〕 合成例2 合成例1におけるアゾビスインブチロニトリルの量を1
b2tの代シに五5を添加した以外はすべて同様に処理
し、共重合体−2の115fを得た。crpc測定の結
果は、以下のごとくであった。
My : a70X10’、分散比: 1.4 B合成
例3 N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド49
.6f、アクリロニトリル51h1t。
例3 N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド49
.6f、アクリロニトリル51h1t。
エチルアクリレート84t1メタクリル酸1′12t(
それぞれのモル比は14:34:42:10)を蒸留ア
セトン190mj、蒸留メタノール190、lI7!に
溶解させ(トータル七ツマー濃度=53モル/l)、ア
ゾビスイソブチロニトリル12tを投入しく (1)
:五7モル%)、窒素気流中、還流状態で8時間重合反
応を行った。反応終了後、合成例1と同様に水に落とし
て分離した。
それぞれのモル比は14:34:42:10)を蒸留ア
セトン190mj、蒸留メタノール190、lI7!に
溶解させ(トータル七ツマー濃度=53モル/l)、ア
ゾビスイソブチロニトリル12tを投入しく (1)
:五7モル%)、窒素気流中、還流状態で8時間重合反
応を行った。反応終了後、合成例1と同様に水に落とし
て分離した。
168tの白色状樹脂(共重合体−3)が得られた。前
例と同様分子量を測定し、以下に示した。
例と同様分子量を測定し、以下に示した。
My : 2.50X1G’ 、分散比:S3合成例4
2−とドロキシエチルメタクリレート150t1アクリ
ロニトリル60f1メチルメタクリレート79.5F、
メタクリル酸1α5F(それぞれのモル比は37:35
:24:4)を蒸留ジオキサン700tに溶解させ(ト
ータルモノマー濃度: 4.6モル/j)ベンゾイルパ
ーオキシド151を徐々に投入しく (1) : 2モ
ル%)、窒素気流中、還流状態で8時間重合反応を行っ
た。反応終了後、ヒドロキノン(L5Fを投入し、減圧
下、溶媒を留去し、粘度が上昇したところで、ステンレ
スプレート上に流し出し真空乾燥を行った。270fの
板状樹脂(共重合体−4)が得られた。GPO測定値を
以下に示す。
ロニトリル60f1メチルメタクリレート79.5F、
メタクリル酸1α5F(それぞれのモル比は37:35
:24:4)を蒸留ジオキサン700tに溶解させ(ト
ータルモノマー濃度: 4.6モル/j)ベンゾイルパ
ーオキシド151を徐々に投入しく (1) : 2モ
ル%)、窒素気流中、還流状態で8時間重合反応を行っ
た。反応終了後、ヒドロキノン(L5Fを投入し、減圧
下、溶媒を留去し、粘度が上昇したところで、ステンレ
スプレート上に流し出し真空乾燥を行った。270fの
板状樹脂(共重合体−4)が得られた。GPO測定値を
以下に示す。
M、 : 4.80X10’、分散比:2.2合成例5
2−ヒドロキシエチルメタクリレート40 t。
N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド20
f、アクリロニトリル50 f、メチルメタクリレート
70f1メタクリル酸20?、(それぞれのモル比は1
3:5:41:31:10)を蒸留ジオキサン520f
ILtに溶解させ(トータルモルflNl r 4.6
モル/lアゾビスイソブチロニトリル11.7 fを添
加し、鼠累気流中、還流状態で8時間重合反応を行った
。反応終了後、大量の水中に投入し白色状の樹脂(共重
合体−5)を157f得た。測定値を以下に示す。
f、アクリロニトリル50 f、メチルメタクリレート
70f1メタクリル酸20?、(それぞれのモル比は1
3:5:41:31:10)を蒸留ジオキサン520f
ILtに溶解させ(トータルモルflNl r 4.6
モル/lアゾビスイソブチロニトリル11.7 fを添
加し、鼠累気流中、還流状態で8時間重合反応を行った
。反応終了後、大量の水中に投入し白色状の樹脂(共重
合体−5)を157f得た。測定値を以下に示す。
My : 400X10’ 、分散比:21合成例6
合成例5においてアゾビスイソブチロニトリルの量を5
.B5fとした以外はすべて同様に処理し、白色状樹脂
(共重合体−6)162tを得た。測定値を以下に示す
。
.B5fとした以外はすべて同様に処理し、白色状樹脂
(共重合体−6)162tを得た。測定値を以下に示す
。
M、 : 5.90×104 、分散比=1.8合成例
7 2−とドロキシエチルメタクリレート5a5t1アクリ
ロニトリル5.3f1エチルメタクリレ−) 59 t
、メタクリル酸cp、 s y (それぞれのモル比は
45:10:54:11)を蒸留ジオキサン200−に
溶解させ(トータルモル濃度:5モル/l)、アゾビス
イソブチロニトリル5.4f((1):五3モル%)、
四塩化炭素10tを投入し、窒素気流下還流状態で8時
間重合反応を行った。反応終了後、ヒドロキノン0.5
2を投入し、減圧下、溶媒を留去し、ステンレスプレー
ト上に流し出し、真空乾燥を行った。
7 2−とドロキシエチルメタクリレート5a5t1アクリ
ロニトリル5.3f1エチルメタクリレ−) 59 t
、メタクリル酸cp、 s y (それぞれのモル比は
45:10:54:11)を蒸留ジオキサン200−に
溶解させ(トータルモル濃度:5モル/l)、アゾビス
イソブチロニトリル5.4f((1):五3モル%)、
四塩化炭素10tを投入し、窒素気流下還流状態で8時
間重合反応を行った。反応終了後、ヒドロキノン0.5
2を投入し、減圧下、溶媒を留去し、ステンレスプレー
ト上に流し出し、真空乾燥を行った。
91tの板状樹脂(共重合体−7)が得られた。
測定値を以下に示す。
M、 : 4.60X104 、分散比:10次に比較
すべき共重合体の合成例を示す。
すべき共重合体の合成例を示す。
比較合成例−1
合成例1で使用したアゾビスイソブチロニトリル&2f
(〔I〕:3モル%)を減量し1.03F((1):(
L5モル%)Kした他は合成例1と全く同様に処理し白
色状の樹脂(比較共重合体−1)118tを得た。GP
Oのデータを以下に示す。
(〔I〕:3モル%)を減量し1.03F((1):(
L5モル%)Kした他は合成例1と全く同様に処理し白
色状の樹脂(比較共重合体−1)118tを得た。GP
Oのデータを以下に示す。
My : Z80X10’ 、分散比: 1.55比較
合成例−2 特公昭57−43890号公報の実施例1記載の方法と
同一の方法(以下に示す)で合成した(比較共重合体−
2)。GPO結果を以下に示す。
合成例−2 特公昭57−43890号公報の実施例1記載の方法と
同一の方法(以下に示す)で合成した(比較共重合体−
2)。GPO結果を以下に示す。
(合成条件)
2−とドロキシエチルメタクリレート
599 30メチルメタクリレ−)
489 AF3メタクリル酸
&0?7アゾビスイソフ゛テロニトリル
Q、4jl((I):0
.2Aモルラ) ジオキサン 1ad()−タM3濃度:
&33七グl) M、 : 1.10X10’ 、分散比:2.6比較合
成例3 特公昭55−54929号公報の実施例1に記載の方法
と同一の方法(以下に示す)で合成した(比較共重合体
−3)。GPO結果を以下に示す。
599 30メチルメタクリレ−)
489 AF3メタクリル酸
&0?7アゾビスイソフ゛テロニトリル
Q、4jl((I):0
.2Aモルラ) ジオキサン 1ad()−タM3濃度:
&33七グl) M、 : 1.10X10’ 、分散比:2.6比較合
成例3 特公昭55−54929号公報の実施例1に記載の方法
と同一の方法(以下に示す)で合成した(比較共重合体
−3)。GPO結果を以下に示す。
(合成条件)
アクリロニトリル 60
1 55メチルメタクリレ−)
79.5f 25) p りIJ
ル酸1 (LSf 4過酸化ベンゾイル
1.5P((1):α2モル%) ジオキサ7 4001F()−タ、ルモノ
シ猷:54七ダl) M、 : 9.14X104 、分散比二63比較合成
例4 合成例5で使用したアゾビスイソブチロニトリル1t7
f((1): 5モル%)を減量し五9f((1):1
モル%)にしたほかは合成例5と全く同様に処理し、白
色状の樹脂(比較共重合体−4)160fを得た。GP
Oのデータを以下に示す。
1 55メチルメタクリレ−)
79.5f 25) p りIJ
ル酸1 (LSf 4過酸化ベンゾイル
1.5P((1):α2モル%) ジオキサ7 4001F()−タ、ルモノ
シ猷:54七ダl) M、 : 9.14X104 、分散比二63比較合成
例4 合成例5で使用したアゾビスイソブチロニトリル1t7
f((1): 5モル%)を減量し五9f((1):1
モル%)にしたほかは合成例5と全く同様に処理し、白
色状の樹脂(比較共重合体−4)160fを得た。GP
Oのデータを以下に示す。
M、 : &00X104 、分散比:2.0比較合成
例5 合成例1で使用したアゾビスイソブチロニトリルtzr
((1):3モル%)を増量し9.5 f((I):t
sモル%)にし、更に四塩化炭素10v1 ドデシルメ
ルカプタン2tを投入したほかは合成例1と同様に重合
を行った。
例5 合成例1で使用したアゾビスイソブチロニトリルtzr
((1):3モル%)を増量し9.5 f((I):t
sモル%)にし、更に四塩化炭素10v1 ドデシルメ
ルカプタン2tを投入したほかは合成例1と同様に重合
を行った。
粘稠状の樹脂(比較共重合体−5)801Fを得た。G
PC結果を以下に示す。
PC結果を以下に示す。
M、 : t50X108 、分散比:五2比較合成例
6 特公昭52−7364号公報、実施例2に記載の合成法
(以下に示す)に基づき比較共重合体−6を合成した。
6 特公昭52−7364号公報、実施例2に記載の合成法
(以下に示す)に基づき比較共重合体−6を合成した。
(合成法)
3角フラスコにβ−ヒドロキシエチルメタクリレート7
0t、メチルメタクリレート30t1ベンゾインメチル
エーテルQ、5S’、及び、ジオキサン200fを加え
て、戸外の日光光線に4日間露光シて、β−ヒドロキシ
エチルメタクリレート/メチルメタクリレート共重合体
(比較共重合体−6)を合成した。(収is o t
)GPC結果を以下に示す。
0t、メチルメタクリレート30t1ベンゾインメチル
エーテルQ、5S’、及び、ジオキサン200fを加え
て、戸外の日光光線に4日間露光シて、β−ヒドロキシ
エチルメタクリレート/メチルメタクリレート共重合体
(比較共重合体−6)を合成した。(収is o t
)GPC結果を以下に示す。
M、 : 5.52X104 、分散比:2.8比較合
成例7 比較合成例6の合成処方にて、開始剤のベンゾインメチ
ルエーテルa、5fを0.25tに変更した他は比較合
成例6と同様にして合成を行い、比較共重合体−7を得
た。(収量1st)GP(3結果を以下に示す。
成例7 比較合成例6の合成処方にて、開始剤のベンゾインメチ
ルエーテルa、5fを0.25tに変更した他は比較合
成例6と同様にして合成を行い、比較共重合体−7を得
た。(収量1st)GP(3結果を以下に示す。
M、 : a21X10’ 、分散比=2.9〔実施例
〕 以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されない。
〕 以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されない。
実施例1
厚さ1241111のアルミニウム板を3%水酸化す)
IJウム水溶液中に浸漬して、脱脂し、水洗後1%塩
酸及び1%ホウ酸水溶液中25℃で3A/a−%5分間
電解エツチングし、水洗した。
IJウム水溶液中に浸漬して、脱脂し、水洗後1%塩
酸及び1%ホウ酸水溶液中25℃で3A/a−%5分間
電解エツチングし、水洗した。
次に19%水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、水洗後4
0%硫酸水溶液中30℃で1.5A/a%”、2分間陽
極酸化し水洗した。更に、90℃でメタケイ酸ソーダ1
%液にて30秒間処理し、その後、水洗、乾燥を行い砂
目立てされたアルミニウム板を作成した。
0%硫酸水溶液中30℃で1.5A/a%”、2分間陽
極酸化し水洗した。更に、90℃でメタケイ酸ソーダ1
%液にて30秒間処理し、その後、水洗、乾燥を行い砂
目立てされたアルミニウム板を作成した。
次に、該アルミニウム板に次のような組成を有する感光
液をホエラーを用いて塗布を行った。
液をホエラーを用いて塗布を行った。
更に100℃で2分間乾燥を行い感光性平版印刷版を得
た。
た。
〔感光液−1〕
0共重合体−1−一−−&Or
Op−ジル乙タエニルアミンとノラホル(ル4モト(モ
を比1:11.9)との縮合樹脂のへ中サフルオロリン
酸塩0 ジュリ−r−AC−1OL (日本紬薬(株)
製) −−−0,36fOビクトリアピュアブルー
BOH−−−−Q、rJ ?り〔保土ケ谷化学(株)製
造〕 Oメチルセロソルブ −一−−100m乾燥
後の塗布量はt6f/%3であった。
を比1:11.9)との縮合樹脂のへ中サフルオロリン
酸塩0 ジュリ−r−AC−1OL (日本紬薬(株)
製) −−−0,36fOビクトリアピュアブルー
BOH−−−−Q、rJ ?り〔保土ケ谷化学(株)製
造〕 Oメチルセロソルブ −一−−100m乾燥
後の塗布量はt6f/%3であった。
次に、該感光性平版印刷版を以下に示す条件で露光し、
次いで、以下に示す条件にて現像を行った。また下記現
像液で20 th” /lとなるようにランニング現像
を行い、現像液中の沈殿の有無を確認した。
次いで、以下に示す条件にて現像を行った。また下記現
像液で20 th” /lとなるようにランニング現像
を行い、現像液中の沈殿の有無を確認した。
更に1得られた平版印刷版を印刷機1ハイデルGTO”
K取付けて印刷し、非画線部の汚れ及び現像不良によっ
て起こる、綱部の1カラミ”を観察した。結果を他の例
と共に後記表1に示した。
K取付けて印刷し、非画線部の汚れ及び現像不良によっ
て起こる、綱部の1カラミ”を観察した。結果を他の例
と共に後記表1に示した。
く露光条件〉
距離:1惰
時 間 :30秒
フィルム原稿:約1/2の部分がベタ部で残ルが50%
の網点 く現像条件〉 現像液 自現機 15℃〜30℃ 現像時間 15秒〜4゛5秒 実施例2〜7 実施例1において感光液1で使用した共重合体−1に代
えて共重合体−2,3,4,5,6,7を用いた。
の網点 く現像条件〉 現像液 自現機 15℃〜30℃ 現像時間 15秒〜4゛5秒 実施例2〜7 実施例1において感光液1で使用した共重合体−1に代
えて共重合体−2,3,4,5,6,7を用いた。
他は実施例1と全く同様の作業を繰返した。
結果を表1に示した。
比較例1〜5
実施例1において感光液1で使用した共重合体−1に代
えて比較共重合体−1,2、\へ5を用いた。
えて比較共重合体−1,2、\へ5を用いた。
他は実施例1と全く同様の作業を繰返した。
結果を表1に示した。
なお、比較例5においては、一応製版はできたものの、
レジスト部が現像液に侵され気味であった。
レジスト部が現像液に侵され気味であった。
表1の結果から明らかなように1本発明の比較的低分子
量の高分子化合物を使用した場合は、ランニング疲労に
よって起きる現像不良に基づく汚れの発生が大幅に改良
されていることが明らかである。特に、15℃という低
温でかつ15秒現像という迅速現像をした場合にその効
果が顕著であることがわかる。また、Mvが590×1
04より上では、低温での迅速現像性が極端に悪くなる
のに加えて、疲労現像液中へ樹脂状の沈殿が発生し、自
現機のシャワー目詰り等の故障を起こし、実技上問題を
起こす。他方、Mwが5、00 X 10mより小さい
場合は、現像性は問題がないものの、平版印刷版として
供する場合は、耐刷力が悪く問題が多い。
量の高分子化合物を使用した場合は、ランニング疲労に
よって起きる現像不良に基づく汚れの発生が大幅に改良
されていることが明らかである。特に、15℃という低
温でかつ15秒現像という迅速現像をした場合にその効
果が顕著であることがわかる。また、Mvが590×1
04より上では、低温での迅速現像性が極端に悪くなる
のに加えて、疲労現像液中へ樹脂状の沈殿が発生し、自
現機のシャワー目詰り等の故障を起こし、実技上問題を
起こす。他方、Mwが5、00 X 10mより小さい
場合は、現像性は問題がないものの、平版印刷版として
供する場合は、耐刷力が悪く問題が多い。
また分散比が5を超える場合は、特に迅速現像処理にお
ける現像不良が起きやすく、汚れ故障を起こしやすいこ
とが明らかである。
ける現像不良が起きやすく、汚れ故障を起こしやすいこ
とが明らかである。
実施例8〜14
実施例1から実施例7において製造した感光性平版印刷
版を、現像液を下記の組成に変更して、他は実施例と同
様に実験を行った。また、印刷においては、500枚ご
とにウルトラプレートクリーナー〔ムBOケミカル(株
)製造、EIK液製造(株)販売〕にてクリーニングを
行いレジストが着肉不良となるまでの回数を記した。結
果を表2に示した。
版を、現像液を下記の組成に変更して、他は実施例と同
様に実験を行った。また、印刷においては、500枚ご
とにウルトラプレートクリーナー〔ムBOケミカル(株
)製造、EIK液製造(株)販売〕にてクリーニングを
行いレジストが着肉不良となるまでの回数を記した。結
果を表2に示した。
(現像液)
比較例6〜10
比較例1〜5において製造した感光性平版印刷版を、実
施例8と同様に現像液を代えて実験を行った。結果を表
2に示した。
施例8と同様に現像液を代えて実験を行った。結果を表
2に示した。
なお、比較例10においては、比較例5と同じく、現像
液によってレジスト部が侵され気味であった。
液によってレジスト部が侵され気味であった。
表2から明らかなように、ベンジルアルコール系の現像
液においても、実施例1〜7、比較例1〜5と同様の高
分子化合物の分子量効果が顕著に存在することが明らか
である。
液においても、実施例1〜7、比較例1〜5と同様の高
分子化合物の分子量効果が顕著に存在することが明らか
である。
比較例11
実施例1の感光液1の共重合体1の代シに1比較共重合
体6を使用し、その他は実施例1と同様に塗布、乾燥し
、製版及び印刷実験を行った。その結果、疲労現像液(
15m”/l 、 20−/l)にて、現像時間60秒
以上、現像温度25℃以上(て現像はできたものの45
秒以下の現像時間では現像不良を起こした。
体6を使用し、その他は実施例1と同様に塗布、乾燥し
、製版及び印刷実験を行った。その結果、疲労現像液(
15m”/l 、 20−/l)にて、現像時間60秒
以上、現像温度25℃以上(て現像はできたものの45
秒以下の現像時間では現像不良を起こした。
次に、特公昭52−7364号公報、実施例2記載の下
記の現像液にてランニング現像を行い、結果を表3に示
した。
記の現像液にてランニング現像を行い、結果を表3に示
した。
(現像液)
比較例12
比較例11で用いた比較共重合体60代シに1比較共重
合体7を用いて同様に実験を行った。
合体7を用いて同様に実験を行った。
その結果、比較例11と同様、現像時間60秒以上、現
像温度25℃以上にては現像ができたものの、45秒以
下の現像時間では現像不良を起こした。次に比較例11
と同様、ケイ酸ソーダ40%水溶液を含む現像液にてラ
ンニング現像を行い、結果を表5に示した。
像温度25℃以上にては現像ができたものの、45秒以
下の現像時間では現像不良を起こした。次に比較例11
と同様、ケイ酸ソーダ40%水溶液を含む現像液にてラ
ンニング現像を行い、結果を表5に示した。
表3の結果から明らかなように、本発明の特徴である高
分子化合物の分子量効果は、その分子中にカルボキシル
基を有するときに、特に大きく発揮されることがわかる
。
分子化合物の分子量効果は、その分子中にカルボキシル
基を有するときに、特に大きく発揮されることがわかる
。
以上説明したように1本発明の感光性組成物を使用すれ
ば、普通の使用方法においてはもちろんのこと、特に迅
速処理又は低温現像等においても、現像液中における沈
殿物の発生及び地汚れの発生がないという顕著な効果が
奏せられる。
ば、普通の使用方法においてはもちろんのこと、特に迅
速処理又は低温現像等においても、現像液中における沈
殿物の発生及び地汚れの発生がないという顕著な効果が
奏せられる。
Claims (1)
- 1、ジアゾ化合物及び高分子化合物を含有する感光性組
成物において、該高分子化合物が、その分子構造中にア
ルコール性水酸基を有するモノマー及び/又は芳香族性
水酸基を有するモノマーと、カルボキシル基を有するモ
ノマーとよりの単位を含み、その重量平均分子量が5.
00×10^3〜5.90×10^4で、かつ重量平均
分子量と数平均分子量との比が5以下の高分子化合物で
あることを特徴とする感光性組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6843785A JPS61228438A (ja) | 1985-04-02 | 1985-04-02 | 感光性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6843785A JPS61228438A (ja) | 1985-04-02 | 1985-04-02 | 感光性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61228438A true JPS61228438A (ja) | 1986-10-11 |
Family
ID=13373681
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6843785A Pending JPS61228438A (ja) | 1985-04-02 | 1985-04-02 | 感光性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61228438A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000186119A (ja) * | 1998-10-15 | 2000-07-04 | Mitsui Chemicals Inc | 共重合体、その製造方法、及びこれを含有する溶液 |
| WO2000029906A3 (en) * | 1998-11-18 | 2000-10-05 | Clariant Int Ltd | Antireflective composition for a deep ultraviolet photoresist |
| JP2005539098A (ja) * | 2002-03-11 | 2005-12-22 | ジョンソン・アンド・ジョンソン・ビジョン・ケア・インコーポレイテッド | 低多分散性ポリhema組成物 |
| JP2007246585A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Jsr Corp | 側鎖不飽和重合体、感放射線性樹脂組成物および液晶表示素子用スペーサー |
-
1985
- 1985-04-02 JP JP6843785A patent/JPS61228438A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000186119A (ja) * | 1998-10-15 | 2000-07-04 | Mitsui Chemicals Inc | 共重合体、その製造方法、及びこれを含有する溶液 |
| WO2000029906A3 (en) * | 1998-11-18 | 2000-10-05 | Clariant Int Ltd | Antireflective composition for a deep ultraviolet photoresist |
| JP2005539098A (ja) * | 2002-03-11 | 2005-12-22 | ジョンソン・アンド・ジョンソン・ビジョン・ケア・インコーポレイテッド | 低多分散性ポリhema組成物 |
| US7816460B2 (en) | 2002-03-11 | 2010-10-19 | Johnson & Johnson Vision Care, Inc. | Low polydispersity poly-HEMA compositions |
| JP2007246585A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Jsr Corp | 側鎖不飽和重合体、感放射線性樹脂組成物および液晶表示素子用スペーサー |
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