JPS61230118A - 液晶パネル - Google Patents

液晶パネル

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Publication number
JPS61230118A
JPS61230118A JP60071616A JP7161685A JPS61230118A JP S61230118 A JPS61230118 A JP S61230118A JP 60071616 A JP60071616 A JP 60071616A JP 7161685 A JP7161685 A JP 7161685A JP S61230118 A JPS61230118 A JP S61230118A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gate line
pixel electrode
overlaps
laser
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60071616A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuji Kawachi
裕二 河内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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Publication of JPS61230118A publication Critical patent/JPS61230118A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は画素電原をもつ液晶パネルに関する。
〔発明の概要〕
本発明は画素電極部をもつ薄膜トランジスタにおいて、
前記1IIii!!電極部のゲートラインに重なる部分
と重ならない部分の結合部分のゲートラインに平行な成
分の寸法が30踊以内にすること忙より、前記ゲートラ
インと前記画素電極のゲートラインと重なる部分とh%
、その間にある絶縁@ at局部的に存在せず短絡した
場合、前記画素電極のゲートラインと重なる部分をレー
ザーで切秒離す修正作業を容易に+るものである。
〔従来の技術〕
従来の画素電極をもつアクティブマトリ9クスパネルで
は1図3に示す様に画素電極部10の形状はゲートライ
ン6に重なる部分と重ならなめ部分けAからBまで一体
′化した状態でありた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
そのため埴3図で/F/)ライン6と画素電極100間
にある絶縁模が局部的に存在せず短絡し次場合、修正す
るのKlriレーザーで切断で舞る範囲が30μ情以内
でAB間の距離に比べ小さく困難であった。又大面積に
レーザーをあてることは液晶の品1fK影41を与える
という問題を有してい友、本発明ではこの間ljlを解
決することを目的とする。
〔問題を解決するための手段〕
本発明の液晶パネルは、画素電極をもつ薄膜トランジス
タ1用いたアクティブマトリクスパネルVrおいて、前
記画素電極の形状^tゲートラインと重なる部分と重な
らない部分との結合部のゲートラインと平行な成分の寸
法hZ3aμm以内であることを特徴とする。
〔作用〕
第1図の画素電極5の櫟な形状であわば、ゲートライン
1と短絡し几場合結合部00Åを切断すれば畏〈修正が
容易になっ几。
〔実施例〕
第2図は本発明にかける断面図でありで工程を追いなh
tら謂、明する。
透明ガラス基板11上にソース、ドレイン優域となる1
11層目の多結晶シリコン層12を化学的気相成長法C
0VD法)により形成しパターニングを行なう。ゲート
酸化膜形成後ゲー11となる第2層目の多結晶シリコン
層14?形成しパターニングを行な5゜その後p(リン
)イオン打ち通入でソース、ドレイン傾城を形成し、O
VD法で層間絶縁膜15を形成する。そしてパターン形
成工稈でコン々々トホールを作り、画素電極とソースラ
インを透明導電膜である工TO膜をスパ9り法で形成し
パターニングを行な)。
tJ11図hz平面図であって、第1層目の多結晶シリ
コンでソース部2とドレイン部3を形成し、第2層目の
多結晶シリコンでゲートライン1を形成する。画素電極
である透明導電膜5の形状は、ゲートラインに重なる部
分と重ならない部分との結合部Cのゲートラインと平行
な成分の寸法が30μm以内なので、修正工程でレーザ
ーを用V1てゲートラインに重なる部分を切h−Fるこ
とが容易になっ友。
〔発明の効果〕
本発明は以上説明し危機に画素電衡部の形状がゲートラ
インに重なる部分と重ならない部分の結合部のゲートラ
インに平行な成分の寸法を30μm以内にすること虻よ
ってレーザーを用いての修正を容易にすることができ、
修正工程の工数の低減を可能にする、
【図面の簡単な説明】
t111図は本発明の薄膜トランジスタの平面図。 第2図は本発明の薄膜トランジスタの断面図。 第3図は従来の薄膜トランジスタの平面図。 1.6・・・・・・ゲートライン 2.7・・・・・・ソース部 3.8・・・・・・ドレイン部 4.9・・・・・・ソースライン 5.10・・・・・・画素電極 11 ・・・・・・透明ガラス基板 12・・・・・・填1層目の多結晶シリコン13・・・
・・・層間絶縁膜 14・・・・・・!ii!2層目の多結晶シリコン15
・・・・・・透明導電膜 以  上 出膠人 株式会社 諏訪精工舎 代叩人 弁理士 最上 務 /−X/11 薄8屡ト巧ンラ1スゲn#面図 $2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)画素電極をもつ薄膜トランジスタを用いたアクテ
    ィブマトリクスパネルにおいて、前記画素電極の形状が
    ゲートラインと重なる部分と重ならない部分との結合部
    のゲートラインと平行な成分の寸法が30μm以内であ
    ることを特徴とする液晶パネル。
JP60071616A 1985-04-04 1985-04-04 液晶パネル Pending JPS61230118A (ja)

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JP60071616A JPS61230118A (ja) 1985-04-04 1985-04-04 液晶パネル

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JPS61230118A true JPS61230118A (ja) 1986-10-14

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01291215A (ja) * 1988-05-18 1989-11-22 Toshiba Corp 液晶表示装置
US5164851A (en) * 1990-02-05 1992-11-17 Sharp Kabushiki Kaisha Active matrix display device having spare switching elements connectable to divisional subpixel electrodes

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01291215A (ja) * 1988-05-18 1989-11-22 Toshiba Corp 液晶表示装置
US5164851A (en) * 1990-02-05 1992-11-17 Sharp Kabushiki Kaisha Active matrix display device having spare switching elements connectable to divisional subpixel electrodes

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