JPS61231010A - 光学式デイスク基板の製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、レーザー光線の反射または透過により、記
録された信号の読み出しを行う光学式情報記録用ディス
ク（以下、「光学式ディスク」と称する）に関する。

〔背景技術〕

光学式ディスクには、基板樹脂としてアクリル樹脂を用
いたビデオディスク、ポリカーボネート樹脂を用いたコ
ンパクトディスクがそれぞれ市販されているが、これら
のディスクは、情報を凹凸のビットとして基板に刻んだ
再生専用型である。

さらに進んだ光学式ディスクとして、トラッキング用の
案内溝（以下、「グループ」と称する）の上に形成され
た記録材料の光反射率あるいは光透過率をレーザー光の
照射により変化させることにより情報の記録再生を行う
ＤＲＡＷ型、および記録／再生・消去の繰り返しが可能
なＥ−ＤＲＡＷ型がある。

Ｅ−ＤＲＡＷ型光学式ディスクの場合には、記縁材料と
して垂直磁化可能な磁性材料を用いてレーザー光の照射
によって磁化方向を反転させることにより、情報記録を
行う光磁気ディスクも知られている。いずれにしても、
ＤＲＡＷ型およびＥ・ＤＲＡＷ型光学式ディスクの場合
には、情報記録を行う際に記録材料の結晶−非結晶転移
、あるいは磁化方向の反転等を行わすため、レーザー光
の照射により記録材料を短時間ではあるが数百℃以上に
加熱する必要がある。

したがって、このような高温状態になる記録材料に隣接
する光学式ディスク基板としては、高温状態においても
グループが熱変形しない（ここでいう熱変形は、通常の
荷重下での熱変形ではないので、このような熱変形を以
下「熱ダレ」と称する）ような高度な耐熱性が要求され
る。

従来、再生専用型光学式ディスクの基板材料として、第
１の要件である光学特性に優れたメタクリル樹脂、ポリ
カーボネート樹脂等の熱可塑性樹脂が用いられているが
、このような熱可塑性樹脂を用いてＥ−ＤＲＡＷ型光学
式ディスクの基板を得ると、記録および消去時にその高
温のため樹脂が軟化しグループが変形してしまうという
欠点がある。それゆえ、このような熱可塑性樹脂を、記
録／再生・消去がくり返し行われ、その信鯨性が要求さ
れるＥ−ＤＲＡＷ型光学式ディスクの基板材料として用
いることが出来ない。

〔発明の目的〕

この発明は、このような現状に鑑みて、記録および消去
時におけるレーザー光の照射による熱のためにグループ
が熱ブレを起こすことのない高度な耐熱性（以下、「耐
熱ダレ性」と称する）を有し、メタクリル樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂と同等の光学的性質を持つ光学式ディス
ク基板を得ることができる光学式ディスク基板の製法を
提供するものである。

〔発明の開示〕

このような目的を達成するために、発明者らは、繰り返
し行う記録および消去時の熱に耐え、グループの熱ブレ
が生じない光学式ディスクの基板材料について種々検討
した結果、架橋結合を有しており、もはや熱可塑性を有
しないタイプの樹脂の場合に耐熱ダレ性がよいことを見
い出した。

このような架橋結合を形成する樹脂について鋭意検討を
行ったところ、発明者らは、ジアリルフタレート樹脂を
はじめとする、下記の一般式、であられされる化合物か
らなる群から選ばれた少なくとも１種のもののモノマー
および／またはプレポリマーを基板材料の必須成分とし
、これを熱硬化させて得られる樹脂が、 ■　成形基板の複屈折が４０ｎｍ以下と小さく光線透過
率も良好である、 ■　熱変形温度が高く、耐熱ダレ性も良好である■　吸
水率がきわめて小さく、吸水による基板の反りや記録材
料に対する悪影響がない、■　速硬化性であり、生産性
が高い、 ■　機械的特性が良好である、 といった利点を有しており、Ｅ−ＤＲＡＷ型の光学式デ
ィスク基板用の樹脂として適当であることを見い出し、
この発明を完成するに至った。

したがって、この発明は、つぎの一般式、＼される２価
の原子団である。

であられされる化合物からなる群から選ばれた少なくと
も１種のもののモノマーおよび／またはプレポリマーを
基板材料の必須成分とし、この基板材料を、スタンパが
装着されている成形用型内において熱硬化成形する光学
式ディスク基板の製法を、その要旨としている。以下に
、この発明の詳細な説明する。

この発明にかかる光学式ディスク基板の製法において、
基板材料の必須成分としては、つぎの一般式、 で表される化合物からなる群から選ばれた少なくとも１
種のもののモノマー、および／または、このようなモノ
マーを重合（共重合も含める）して得られるプレポリマ
ーがそれぞれ単独で用いられたり、あるいは、２種以上
が併用される。ここで、「Ｘ」は、水素またはメチル基
（ＣＨ３’）などのアルキル基であり、ｒＲＪは、 ゲン置換体のそれぞれの炭素原子（１つまたは異なる２
つ）に結合している水素原子２個を除いて誘導される２
価の原子団である。特に限定するわけではないが、モノ
マーとしては、たとえば、ジアリルオルソフタレート、
ジアリルイソフタレートなどがあり、プレポリマーとし
ては、たとえば、ジアリルフタレート樹脂などがある。

以下、前記モノマーおよび／または前記プレポリマーを
ジアリルフタレート樹脂系化合物と称して説明を進めて
い（、なお、前記ジアリルフタレート樹脂系化合物とラ
ジカル重合可能なモノマーを用いることも可能である。

このようなモノマーは、架橋密度を調整するなどの目的
で用いられ、前記ジアリルフタレート樹脂系化合物のア
リル基とラジカル重合することができるものであり、た
とえば、つぎの一般式、 であられされる化合物からなる群から選ばれた少なくと
も１種のもののモノマー、アリルメタクリレートなどの
単官能モノマーおよび／または多官能モノマーがそれぞ
れ単独で用いられたり、もしくは、２種以上併用される
が、これらに限定されるものではない。

プレポリマーの分子量は、重合開始剤の混合しやすさ、
成形のしやすさ等からｓ、ｏｏｏ〜６０．０００のもの
が好ましい。

このようなジアリルフタレート樹脂系化合物にラジカル
重合開始剤を混合して、一般の熱硬化樹脂と同様にして
、たとえば、８０〜１２０℃で可塑化したのち、グルー
プの転写を行うスタンバが装着された金型など成形用型
内において、たとえば、１５０〜１８０℃の温度で成形
することにより光学式ディスク基板を得ることができる
。このとき、ジアリルフタレート樹脂系化合物のアリル
基どうしが架橋反応を起こし、３次元網目構造をもった
樹脂となり、記録および消去時のレーザー光の熱に耐え
て熱ダレを生じないようになる。成形法としては、直圧
成形、トランスファー成形、射出成形などのいずれでも
良いが、射出成形が能率がよい、ラジカル重合開始剤と
しては、特に限定はないが、たとえば、有機過酸化物な
どが用いられる。

また、光学式ディスク基板の変色を防止するため、あら
かじめフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤等を
混合したり、金型からの離型性を良くするような目的で
ステアリン酸等の脂肪酸および脂肪酸エステル等の離型
剤を混合しておいてもよい。

このようにして成形された光学式ディスク基板は、記録
および消去時のレーザー光によるグループ等の熱ブレを
引き起こさず、メタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂
と同等の光学的性質を持ち、複屈折も小さく、低吸湿で
あり、機械的性質も優れている。

つぎに、実施例によりこの発明を説明するが、この発明
は実施例に限定されない。

（実施例１） ジアリルオルソフタレート樹脂（大阪曹達■ダイソーダ
ツブＡ）１００重量部およびジクミルパーオキサイド１
重量部からなるペレットを１２０℃にて加熱溶融し、１
５０℃に加熱したスタンバを装着した金型内に注入し、
５分間加熱硬化し、光学式ディスク基板のレプリカ（複
製）を得た。

（実施例２） ジアリルオルソフタレート樹脂（大阪曹達■ダイツーダ
ンプＫ）を用いて実施例１と同様にして光学式ディスク
基板のレプリカを得た。

（比較例１） 市販のメタクリル樹脂（三菱レイコン■アクリペッ）Ｖ
Ｈ）を用いて射出成形で実施例と同様の光学式ディスク
基板を得た。

（比較例２） 市販のポリカーボネート樹脂（三菱化成工業−ノバレッ
タス）を用いて射出成形で実施例と同様の光学式ディス
ク基板を得た。

実施例および比較例で得た光学式ディスク基板のガラス
転移点、耐熱ダレ性、複屈折性、光線透過率、吸水率、
曲げ強度の各特性について測定した結果を第１表に示し
た。

なお、ガラス転移温度は、粘弾性スペクトロメータを用
い、測定周波数を１０ＨｚとしてＥ’（損失弾性率）の
ピークより求めた。耐熱ダレ性は、記録膜を蒸着したデ
ィスク基板にレーザー光を照射し、記録および消去を１
００回行った後にグループの変形の有無を調べた。複屈
折の有無は、ボーラリスコープで目視により調べた。光
線透過率は、分光光度計を用いて７００〜８５０ｒｖの
波長で測定した。吸水率は、ＡＳＴＭ　Ｄ　５７０、曲
げ弾性率は、ＡＳＴＭ　Ｄ　７９０に従って測定した。

（以　下　余　白） 第　　　１　　　表 第１表かられかるように、この発明の実施例の光学式デ
ィスク基板は、従来例たる比較例に比べ、耐熱ダレ性が
すぐれ、吸水率が低く吸湿性も良好であり、他方、光学
的性質（光線透過率、複屈折）、機械的性質（曲げ強度
）は従来例と同程度であった。

〔発明の効果〕

この発明の光学式ディスク基板の製法によると、レーザ
ー光による記録および消去のくり返し使用に充分耐えう
る耐熱ダレ性を有し、光学特性にも優れた光学式ディス
ク基板を得ることができ、このような光学式ディスク基
板を用いれば、耐熱ダレ性、光学特性に優れた光学式デ
ィスクの製造が可能になる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 つぎの一般式、 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ここで、Ｘは、Ｈまたはアルキル基であり、Ｒは、ベ
   ンゼン、シクロヘキセン、シクロヘキサン、ノルボルナ
   ン、７，７−ジクロロノルボルナン、ならびに、これら
   のアルキルおよび／またはハロゲン置換体のそれぞれの
   炭素原子に結合している水素原子２個を除いて誘導され
   る２価の原子団である。） であらわされる化合物からなる群から選ばれた少なくと
   も１種のもののモノマーおよび／またはプレポリマーを
   基板材料の必須成分とし、この基板材料を、スタンパが
   装着されている成形用型内において熱硬化成形する光学
   式ディスク基板の製法。