JPS61233406A - 垂直磁気ヘツド - Google Patents
垂直磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS61233406A JPS61233406A JP60074651A JP7465185A JPS61233406A JP S61233406 A JPS61233406 A JP S61233406A JP 60074651 A JP60074651 A JP 60074651A JP 7465185 A JP7465185 A JP 7465185A JP S61233406 A JPS61233406 A JP S61233406A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- magnetic
- film
- magnetic head
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、情報の記録、再生を行なうだめの垂直磁気記
録ヘッドに関するものであ゛る。
録ヘッドに関するものであ゛る。
従来の技術
従来の垂直磁気ヘッドとしては例えば特公昭５７−１２
７８１号公報や特開昭５８−１３９３２３号公報に示さ
れているような構成が知られている。
７８１号公報や特開昭５８−１３９３２３号公報に示さ
れているような構成が知られている。
その概要について第６図及び第６図を借りて説明すると
、第６図は補助磁極励磁型ヘッドとして用いる場合で、
非磁性基板からなる第１の基板１上に、高透磁率磁性薄
膜からなる主磁極膜２が形成されている。この主磁極膜
２が非磁性基板からなる第２の基板３で挾まれて接着さ
れ、磁気記録媒体４との接触面が滑らかに仕上げられて
いる。而してこの垂直磁気ヘッドとコイル５ｆ、備えた
補助磁極６との間に磁気記録媒体４全走行させ、記録、
再生を行なう。また第６図は主磁極励磁型ヘッドとして
用いる場合で、上記と同様に第１の基板１上に主磁極膜
２が形成さｎｌこの主磁極膜２が一部に磁性体を用いた
第２の基板３で挾まれて接着され、主磁極膜２の回りに
記録再生用のコイル７が巻かれ、磁気記録媒体４との接
触面が滑らかに仕上げられている。而してこの垂直磁気
ヘッドと補助ブロック８との間に磁気記録媒体４を走行
させ、記録、再生を行なう。
、第６図は補助磁極励磁型ヘッドとして用いる場合で、
非磁性基板からなる第１の基板１上に、高透磁率磁性薄
膜からなる主磁極膜２が形成されている。この主磁極膜
２が非磁性基板からなる第２の基板３で挾まれて接着さ
れ、磁気記録媒体４との接触面が滑らかに仕上げられて
いる。而してこの垂直磁気ヘッドとコイル５ｆ、備えた
補助磁極６との間に磁気記録媒体４全走行させ、記録、
再生を行なう。また第６図は主磁極励磁型ヘッドとして
用いる場合で、上記と同様に第１の基板１上に主磁極膜
２が形成さｎｌこの主磁極膜２が一部に磁性体を用いた
第２の基板３で挾まれて接着され、主磁極膜２の回りに
記録再生用のコイル７が巻かれ、磁気記録媒体４との接
触面が滑らかに仕上げられている。而してこの垂直磁気
ヘッドと補助ブロック８との間に磁気記録媒体４を走行
させ、記録、再生を行なう。
かかる磁気ヘッドにおいて主磁極膜２を第１の基板１上
に形成する場合、第７図に示すように基板１００に複数
個の主磁極＠２を形成し、これを分割することによって
作成している。
に形成する場合、第７図に示すように基板１００に複数
個の主磁極＠２を形成し、これを分割することによって
作成している。
この際、従来の垂直磁気ヘッドにあっては基板１０ｏは
第８図に示すように基板取付台１０１に固定し、これに
研削用の砥石１０２を対向させ、両者を接触させて回転
させることにより研削を行なっている。この研削により
基板１００ｖ表面には第９図に示すようにその長手方向
に対して傾いた凹凸状の研削跡１０３が形成される。こ
の基板１００の表面を表面粗さが約５０Å以下になるよ
うに鏡面研摩を行ない、この表面にコバルト・ジルコニ
ウム・ニオブのアモルファス膜を主磁極膜２として形成
し、その磁化容易軸方向９の分布を調べた結果、第１０
図に示すように研削跡１０３に沿うように傾斜されてい
た。
第８図に示すように基板取付台１０１に固定し、これに
研削用の砥石１０２を対向させ、両者を接触させて回転
させることにより研削を行なっている。この研削により
基板１００ｖ表面には第９図に示すようにその長手方向
に対して傾いた凹凸状の研削跡１０３が形成される。こ
の基板１００の表面を表面粗さが約５０Å以下になるよ
うに鏡面研摩を行ない、この表面にコバルト・ジルコニ
ウム・ニオブのアモルファス膜を主磁極膜２として形成
し、その磁化容易軸方向９の分布を調べた結果、第１０
図に示すように研削跡１０３に沿うように傾斜されてい
た。
この基板１ｏｏと他の基板とにより主磁極膜２を挾持し
、所望の形状に切断して、第６図又は第６図に示した垂
直磁気ヘッドを形成するわけであるが、垂直磁気ヘッド
が、高密度記録においても高出力を得るためには主磁極
膜２の磁化容易軸方向９を磁気記録媒体４と平行な方向
とし、即ち、磁化困難軸方向を用いる必要がある。しか
しながら従来の垂直磁気ヘッドにあっては、基板１００
内で主磁極膜２の磁化容易軸方向９が定まっていないの
で、基板１ｏＯごとに磁化容易軸方向９を調べて望みの
方向に基板１００’ｉ切断して使用していた。
、所望の形状に切断して、第６図又は第６図に示した垂
直磁気ヘッドを形成するわけであるが、垂直磁気ヘッド
が、高密度記録においても高出力を得るためには主磁極
膜２の磁化容易軸方向９を磁気記録媒体４と平行な方向
とし、即ち、磁化困難軸方向を用いる必要がある。しか
しながら従来の垂直磁気ヘッドにあっては、基板１００
内で主磁極膜２の磁化容易軸方向９が定まっていないの
で、基板１ｏＯごとに磁化容易軸方向９を調べて望みの
方向に基板１００’ｉ切断して使用していた。
発明が解決しようとする問題点
しかし、上記従来の垂直磁気ヘッドでは基板１００ごと
に主磁極膜２の磁化容易軸方向９を調べる必要があるの
で、製作に手数を要し、また一度に複数個形成する場合
、必ずしも基板１００内。
に主磁極膜２の磁化容易軸方向９を調べる必要があるの
で、製作に手数を要し、また一度に複数個形成する場合
、必ずしも基板１００内。
で一様な方向に磁化容易軸が揃っているとは限らないの
で、基板１ｏＯ等の有効利用率が低くなるばかりでなく
、品質の良いものが得難い等の問題があった。
で、基板１ｏＯ等の有効利用率が低くなるばかりでなく
、品質の良いものが得難い等の問題があった。
そこで、本発明は、磁化容易軸方向を予め所望の方向に
設嚢することができて容易に製作することができ、また
基板の有効利用率を向上させることができ、しかも品質
を向上させることができるようにした垂直磁気ヘッドを
提供しようとするものである。
設嚢することができて容易に製作することができ、また
基板の有効利用率を向上させることができ、しかも品質
を向上させることができるようにした垂直磁気ヘッドを
提供しようとするものである。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するだめの本発明は、基板上に軟磁性
薄膜が形成さｎ１上記基板における軟磁性薄膜側表面に
、設定すべき軟磁性薄膜の磁化容易軸方向に沿うように
凹凸が形成されているものである。
薄膜が形成さｎ１上記基板における軟磁性薄膜側表面に
、設定すべき軟磁性薄膜の磁化容易軸方向に沿うように
凹凸が形成されているものである。
作用
本発明は上記した構成により基板表面の凹凸が軟磁性薄
膜に影響を与え、磁化容易軸方向を決定する。即ち軟磁
性薄膜の凹部または凸部に沿って磁気的なエネルギーの
高低が生じ、軟磁性薄膜内に異方性が生じる。この異方
性を積極的に利用して軟ｉ注薄膜の磁化容易軸方向を制
御する。
膜に影響を与え、磁化容易軸方向を決定する。即ち軟磁
性薄膜の凹部または凸部に沿って磁気的なエネルギーの
高低が生じ、軟磁性薄膜内に異方性が生じる。この異方
性を積極的に利用して軟ｉ注薄膜の磁化容易軸方向を制
御する。
実施例
以下、本発明の実施例を図面に基いて詳細に説明する。
第１図は補助磁極励磁型ヘッドとして用いた実施例で、
アルミナ・チタンカーバイトの焼結体よりなる第１の基
板１上に軟磁性薄膜であるコバルト・シリコニウム・ニ
オブのアモルファスの主磁極膜２が形成さｎている。こ
の主磁極膜２の磁化容易軸方向９は磁気記録媒体４面と
平行に設定されており、第２の基板３で挾まれて接着さ
れ、磁気記録媒体４との接触面が球面状に滑らかに研摩
されている。而してこの垂直磁気ヘッドとコイル６を備
えた補助磁極６との間に磁気記録媒体４を走行させ、記
録、再生を行なう。
アルミナ・チタンカーバイトの焼結体よりなる第１の基
板１上に軟磁性薄膜であるコバルト・シリコニウム・ニ
オブのアモルファスの主磁極膜２が形成さｎている。こ
の主磁極膜２の磁化容易軸方向９は磁気記録媒体４面と
平行に設定されており、第２の基板３で挾まれて接着さ
れ、磁気記録媒体４との接触面が球面状に滑らかに研摩
されている。而してこの垂直磁気ヘッドとコイル６を備
えた補助磁極６との間に磁気記録媒体４を走行させ、記
録、再生を行なう。
そして上記本実施例の垂直磁気ヘッドを製作するには、
先ず第２図に示すように基板１００を基板取付台１ｏに
固定して長手方向に移動させ、回転している砥石１１を
接触させて研削する、所謂平面研削盤による研削加工を
行なう。この研削によシ第３図に示すように基板１００
の長手方向と平行に研削跡１２が生じる。このようにし
て研削された基板１００の研削側表面を鏡面研摩した後
、この研摩面に主磁極膜をスパッタリング法により形成
した後、所望のトラック幅にエツチングする◎然る後、
第２の基板３を接着して第１図に示すように切断する。
先ず第２図に示すように基板１００を基板取付台１ｏに
固定して長手方向に移動させ、回転している砥石１１を
接触させて研削する、所謂平面研削盤による研削加工を
行なう。この研削によシ第３図に示すように基板１００
の長手方向と平行に研削跡１２が生じる。このようにし
て研削された基板１００の研削側表面を鏡面研摩した後
、この研摩面に主磁極膜をスパッタリング法により形成
した後、所望のトラック幅にエツチングする◎然る後、
第２の基板３を接着して第１図に示すように切断する。
第２図及び第３図に示すように研削された基板１ｏＯを
表面粗さが約６０Å以下になるように鏡面研摩を行ない
、次にこの表面にコバルト・ジルコニウム・ニオブのア
モルファス膜ヲスパッタリフグ法によシ成膜したときの
主磁極膜２の磁化容易軸方向ｅの分布は第４図に示すよ
うに基板１ｏ。
表面粗さが約６０Å以下になるように鏡面研摩を行ない
、次にこの表面にコバルト・ジルコニウム・ニオブのア
モルファス膜ヲスパッタリフグ法によシ成膜したときの
主磁極膜２の磁化容易軸方向ｅの分布は第４図に示すよ
うに基板１ｏ。
の長手方向と平行になっておシ、磁化容易軸方向９は基
板１００の研削跡１２による凹凸と良く一致しておシ、
両者の相関が明確である。従って上記第１図に示す垂直
磁気ヘッドにおいても主磁極膜２の磁化容易軸方向９は
矢印に示すように磁気記録媒体４と平行になるように組
み立てることができる。従って製作が容易で、基板の有
効な利用がはかれ、さらに高密度記録時にも高出力が得
られる。
板１００の研削跡１２による凹凸と良く一致しておシ、
両者の相関が明確である。従って上記第１図に示す垂直
磁気ヘッドにおいても主磁極膜２の磁化容易軸方向９は
矢印に示すように磁気記録媒体４と平行になるように組
み立てることができる。従って製作が容易で、基板の有
効な利用がはかれ、さらに高密度記録時にも高出力が得
られる。
上記実施例は補助磁極励磁型ヘッドの場合について述べ
たが本発明は第６図に示した主磁極励磁型ヘッドの場合
においても主磁極膜の下地となる基板の表面に主磁極膜
の磁化容易軸に沿うように凹凸を設けることにより同じ
ように適用できる。
たが本発明は第６図に示した主磁極励磁型ヘッドの場合
においても主磁極膜の下地となる基板の表面に主磁極膜
の磁化容易軸に沿うように凹凸を設けることにより同じ
ように適用できる。
発明の効果
以上の説明より明らかなように本発明によれば、基板上
に軟磁性薄膜を形成し、上記基板における軟磁性薄膜側
表面に設定すべき軟磁性薄膜の磁化容易軸力向に沿うよ
うに凹凸全形成しているので、主磁極膜の磁化容易軸を
基板の研削方向により制御することができる。従って基
板内で磁化容易軸方向を予め決めることができるので、
容易に製作することができる。また基板内で一様な方向
に磁化容易軸が揃うので、基板の有効利用率全向上させ
ることができ、しかも品質を向上させることができる。
に軟磁性薄膜を形成し、上記基板における軟磁性薄膜側
表面に設定すべき軟磁性薄膜の磁化容易軸力向に沿うよ
うに凹凸全形成しているので、主磁極膜の磁化容易軸を
基板の研削方向により制御することができる。従って基
板内で磁化容易軸方向を予め決めることができるので、
容易に製作することができる。また基板内で一様な方向
に磁化容易軸が揃うので、基板の有効利用率全向上させ
ることができ、しかも品質を向上させることができる。
第１図は本発明の一実施例における補助磁極励磁型ヘッ
ドの斜視図、第２図は本発明の垂直磁気ヘッドに用いる
基板の研削方法の説明図、第３図はその研削方法によシ
形成された基板上の研削跡を示す平面図、第４図はその
基板上に成膜した主磁極膜の磁化容易軸方向の分布図、
第５図乃、至第１Ｑ図は従来の垂直磁気ヘッドの一実施
例を示し、第６図は補助磁極励５Ｂ型ヘッドとして用い
る例を示す斜視図、第６図は主磁極励磁型ヘッドとして
用いる例を示す断面図、第７図は基板上に成膜した主磁
極膜のようすを示す斜視図、第８図は従来の垂直磁気ヘ
ッドに用いる基板の研削方法の説明図、第９図はその研
削方法により形成された基板上の研削跡を示す平面図、
第１０図は従来の基板上に成膜した主磁極膜の磁化容易
軸方向の分布図である。 １・・・・・・第１の基板、２・・・・・・主磁極膜（
軟磁性薄膜）、３・・・・・・第２の基板、４・・・・
・・磁気記録媒体、６・・・・・・補助磁極、７・・・
・・・コイル、８・・・・−・補助ブロック、９・・・
・・・磁化容易軸方向、１１・・・・・・砥石、１２・
・・・・・研削跡（凹凸）。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１基筒
２ 図 ｌ′ト【級 ｌ２−研削跡 筒 ３ 図 （２）−一一基子
互ｆ″″′千１６１長 ８゛−４ネ帛」カブｖ−ｐ７ 第７図 ωｏ−基板
ドの斜視図、第２図は本発明の垂直磁気ヘッドに用いる
基板の研削方法の説明図、第３図はその研削方法によシ
形成された基板上の研削跡を示す平面図、第４図はその
基板上に成膜した主磁極膜の磁化容易軸方向の分布図、
第５図乃、至第１Ｑ図は従来の垂直磁気ヘッドの一実施
例を示し、第６図は補助磁極励５Ｂ型ヘッドとして用い
る例を示す斜視図、第６図は主磁極励磁型ヘッドとして
用いる例を示す断面図、第７図は基板上に成膜した主磁
極膜のようすを示す斜視図、第８図は従来の垂直磁気ヘ
ッドに用いる基板の研削方法の説明図、第９図はその研
削方法により形成された基板上の研削跡を示す平面図、
第１０図は従来の基板上に成膜した主磁極膜の磁化容易
軸方向の分布図である。 １・・・・・・第１の基板、２・・・・・・主磁極膜（
軟磁性薄膜）、３・・・・・・第２の基板、４・・・・
・・磁気記録媒体、６・・・・・・補助磁極、７・・・
・・・コイル、８・・・・−・補助ブロック、９・・・
・・・磁化容易軸方向、１１・・・・・・砥石、１２・
・・・・・研削跡（凹凸）。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１基筒
２ 図 ｌ′ト【級 ｌ２−研削跡 筒 ３ 図 （２）−一一基子
互ｆ″″′千１６１長 ８゛−４ネ帛」カブｖ−ｐ７ 第７図 ωｏ−基板
Claims (1)
- 基板上に軟磁性薄膜が形成され、上記基板における軟磁
性薄膜側表面に、設定すべき軟磁性薄膜の磁化容易軸方
向に沿うように凹凸が形成されていることを特徴とする
垂直磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60074651A JPS61233406A (ja) | 1985-04-09 | 1985-04-09 | 垂直磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60074651A JPS61233406A (ja) | 1985-04-09 | 1985-04-09 | 垂直磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61233406A true JPS61233406A (ja) | 1986-10-17 |
Family
ID=13553341
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60074651A Pending JPS61233406A (ja) | 1985-04-09 | 1985-04-09 | 垂直磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61233406A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5910290A (ja) * | 1982-07-09 | 1984-01-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気抵抗効果素子 |
-
1985
- 1985-04-09 JP JP60074651A patent/JPS61233406A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5910290A (ja) * | 1982-07-09 | 1984-01-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気抵抗効果素子 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0546010B2 (ja) | ||
| JP3366582B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH0664730B2 (ja) | 磁気記録体 | |
| JP3319586B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドとそれを用いたハードディスクドライブ装置 | |
| JPH02240818A (ja) | 浮動型磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2975784B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH05282619A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JP3252583B2 (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPS5945616A (ja) | 垂直磁気記録再生ヘツド | |
| JP3028109B2 (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS60136004A (ja) | 垂直磁化記録用ヘツドの製造方法 | |
| JPS6371908A (ja) | 複合型録画再生用磁気ヘツド | |
| JPH0798820A (ja) | 磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS62246112A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH0227506A (ja) | 複合型磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPS60119610A (ja) | 垂直記録用単磁極型磁気ヘツド | |
| JPS61214106A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS61220106A (ja) | 垂直磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS5975435A (ja) | 垂直磁化記録媒体及びその製法 | |
| JPH0773408A (ja) | 磁気ヘッド及びそれを搭載した磁気記録再生装置 | |
| JPH04129005A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JP2000322705A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH04229405A (ja) | 複合ヘッドの製造方法 | |
| JPH01236410A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH04221408A (ja) | 積層型磁気ヘッドおよびその製造方法 |