JPS61233426A - 磁気デイスクの製造方法 - Google Patents
磁気デイスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS61233426A JPS61233426A JP7473885A JP7473885A JPS61233426A JP S61233426 A JPS61233426 A JP S61233426A JP 7473885 A JP7473885 A JP 7473885A JP 7473885 A JP7473885 A JP 7473885A JP S61233426 A JPS61233426 A JP S61233426A
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- Japan
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- magnetic
- ferrite
- recording
- film
- spin coating
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- Recording Or Reproducing By Magnetic Means (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
バリウムフェライトからなる垂直磁性膜を記録媒体とす
る磁気ディスクは今まで単層構造をとり、リングヘッド
を用いて記録と再生が行われている。
る磁気ディスクは今まで単層構造をとり、リングヘッド
を用いて記録と再生が行われている。
本発明は下地層として低抗磁力、高残留磁化をもつ磁性
層をスピンコート法で備えることにより垂直単磁極ヘッ
ドを用いて高出力化を達成するものである。
層をスピンコート法で備えることにより垂直単磁極ヘッ
ドを用いて高出力化を達成するものである。
本発明はバリウムフェライトを記録層とする磁気ディス
クの量産性に優れた製造方法に関する。
クの量産性に優れた製造方法に関する。
磁気ディスクはアルミニウム合金などの非磁性金属から
なる円板上に磁性記録媒体がスピンコート法、真空蒸着
法、スパッタ法、メッキ法などの方法により薄膜化して
形成されている。
なる円板上に磁性記録媒体がスピンコート法、真空蒸着
法、スパッタ法、メッキ法などの方法により薄膜化して
形成されている。
すなわち記録媒体が三二酸化鉄(γ−Fe203通称フ
ェライト)やバリウム・フェライト(BaO・FezO
コ以下略してBaフェライト)のような酸化物からなる
ものについてはスピンコート法が用いられており、一方
ニッケル・コバルト・’ffq (N i ・Co−
P)やコバルト・クローム(Co−Cr)のような磁性
合金膜を用いるものについてはスパッタ法やメッキ法が
用いられている。
ェライト)やバリウム・フェライト(BaO・FezO
コ以下略してBaフェライト)のような酸化物からなる
ものについてはスピンコート法が用いられており、一方
ニッケル・コバルト・’ffq (N i ・Co−
P)やコバルト・クローム(Co−Cr)のような磁性
合金膜を用いるものについてはスパッタ法やメッキ法が
用いられている。
ここで磁性膜は磁化の配向方向が膜面に対して平行なも
のと直角なものがあり、水平磁性膜および垂直磁性膜と
して区別されている。
のと直角なものがあり、水平磁性膜および垂直磁性膜と
して区別されている。
さて、従来はr−Fe203やNi−Co1などを使用
する水平磁性膜が主として使用されてきたが、高密度化
の見地から垂直磁性膜が注目され実用化が進められてい
る。
する水平磁性膜が主として使用されてきたが、高密度化
の見地から垂直磁性膜が注目され実用化が進められてい
る。
この理由は、
反磁界による自己減磁作用が水平磁性膜では強められる
のに対し、垂直磁性膜では弱められる。
のに対し、垂直磁性膜では弱められる。
1ビツトの磁化領域に働く反磁界がその両隣りの磁化領
域による外部磁界により水平記録の場合には強められ、
垂直記録の場合には弱められる。
域による外部磁界により水平記録の場合には強められ、
垂直記録の場合には弱められる。
1ビツトの磁化領域をもつ残留磁気モーメントは垂直記
録の方が水平記録よりも大きくできる。
録の方が水平記録よりも大きくできる。
などの理由による。
垂直磁性膜の記録媒体としては酸化物磁性体としてBa
フェライトを用いるもの、また金属磁性体としてCo−
Crを用いるものが代表的である。
フェライトを用いるもの、また金属磁性体としてCo−
Crを用いるものが代表的である。
ここで前者は大方晶系の微粒子で平板状であり、板径が
板厚よりも充分に大きく、且つ磁化が板面に垂直である
。
板厚よりも充分に大きく、且つ磁化が板面に垂直である
。
そのためにBaフェライトは膜面に垂直配向し易い。
このBaフェライトの性質を生かしてスパッタ法で基板
上に垂直磁性膜を形成することが試みられたが、スパッ
タ法では基板温度を530℃以上にしないと垂直磁化膜
が得られない。
上に垂直磁性膜を形成することが試みられたが、スパッ
タ法では基板温度を530℃以上にしないと垂直磁化膜
が得られない。
従って基板材料として耐熱性の基板を使用する必要があ
り、実際的でない。
り、実際的でない。
これらのことからBaフェライトは粒径が0.1 μm
以下の微粉末を分散剤、バインダ、溶剤などと混練して
磁性塗料を作り、これをディスク基板上にスピンコート
して薄膜を形成している。
以下の微粉末を分散剤、バインダ、溶剤などと混練して
磁性塗料を作り、これをディスク基板上にスピンコート
して薄膜を形成している。
またCo−Cr垂直磁性膜はスパッタ法により形成され
ている。
ている。
さて、磁性膜が垂直磁化している磁気ディスクに情報の
記録・再生を行うには第3図に示すように垂直単磁極ヘ
ッド1を使用するのが効果的であり、従来のCo−Cr
磁性膜2を記録媒体として用いるものについては低抗磁
力で高残留磁化をもつ磁性材料例えばパーマロイ膜3を
下地層として設けている。
記録・再生を行うには第3図に示すように垂直単磁極ヘ
ッド1を使用するのが効果的であり、従来のCo−Cr
磁性膜2を記録媒体として用いるものについては低抗磁
力で高残留磁化をもつ磁性材料例えばパーマロイ膜3を
下地層として設けている。
この理由は垂直単磁極ヘッド1からの磁力線4を吸引し
、Co−Cr磁性膜2を通る磁力線の垂直成分を成るべ
く多くするためである。
、Co−Cr磁性膜2を通る磁力線の垂直成分を成るべ
く多くするためである。
ここでCo−Cr磁性膜2と下地層として用いられてい
るパーマロイ膜3は共にスパッタ技術を用いて処理され
ているので製造上から都合がよい。
るパーマロイ膜3は共にスパッタ技術を用いて処理され
ているので製造上から都合がよい。
然し、記録媒体としてBaフェライトを用いる場合に下
地層としてパーマロイ膜を使用するのは工程の面から好
ましくない。
地層としてパーマロイ膜を使用するのは工程の面から好
ましくない。
その理由はBaフェライト磁性膜はスピンコート法で形
成されるのに対し、パーマロイ膜はスパッタ法或いは真
空蒸着法で形成されるため工程が異なり、従って製造コ
ストの上昇につながり好ましくない。
成されるのに対し、パーマロイ膜はスパッタ法或いは真
空蒸着法で形成されるため工程が異なり、従って製造コ
ストの上昇につながり好ましくない。
そこで第2図に示すように磁気ディスクの記録層として
Baフェライトのような酸化物磁性膜5を用いる場合、
従来は下地層を設けない単層構造とすると共にリングヘ
ッド6を使用していた。
Baフェライトのような酸化物磁性膜5を用いる場合、
従来は下地層を設けない単層構造とすると共にリングヘ
ッド6を使用していた。
然し、この場合は磁力線の通過方向が斜めとなるために
垂直成分が少なく、そのため垂直磁化膜が磁化されにく
いこと以外に磁化領域が拡がり、高密度記録の目的が達
成されない。
垂直成分が少なく、そのため垂直磁化膜が磁化されにく
いこと以外に磁化領域が拡がり、高密度記録の目的が達
成されない。
さて、磁気ディスクに磁気ヘッドを用いて行う情報の記
録或いは再生は0.3μm程度の微少間隙を隔て\磁気
ヘッドが浮上して行われているが、スタートとストップ
時には磁気ヘッドが記録層を摩擦し、また高速回転中に
もヘッドタッチと云う接触現象が起こり易く、そのため
記録層には耐摩耗性が要求されている。
録或いは再生は0.3μm程度の微少間隙を隔て\磁気
ヘッドが浮上して行われているが、スタートとストップ
時には磁気ヘッドが記録層を摩擦し、また高速回転中に
もヘッドタッチと云う接触現象が起こり易く、そのため
記録層には耐摩耗性が要求されている。
この点について酸化物磁性膜と金属磁性膜とを比較する
と後者は耐摩耗性が劣っており、これらのことから記録
層として酸化物磁性膜を使用し、高密度記録が行える磁
気ディスクの実用化が要望されている。
と後者は耐摩耗性が劣っており、これらのことから記録
層として酸化物磁性膜を使用し、高密度記録が行える磁
気ディスクの実用化が要望されている。
以上記したように高密度記録を行い、また耐摩耗性の優
れた記録層を形成するには垂直磁化配向した酸化物磁性
膜を記録層として用い、垂直単磁極ヘッドを用いるのが
よいが、量産工程に適し、且つ効率よく記録と再生が可
能な磁気ディスクの製造方法を見いだすことが問題であ
る。
れた記録層を形成するには垂直磁化配向した酸化物磁性
膜を記録層として用い、垂直単磁極ヘッドを用いるのが
よいが、量産工程に適し、且つ効率よく記録と再生が可
能な磁気ディスクの製造方法を見いだすことが問題であ
る。
上記の問題は垂直単磁極ヘッドを用いて情報の記録と再
生とを行う磁気ディスクにおいて、酸化物磁性膜からな
る記録層の下に低抗磁力の酸化物磁性膜からなる下地層
をスピンコート法により形成することを特徴とする磁気
ディスクの製造方法により達成することができる。
生とを行う磁気ディスクにおいて、酸化物磁性膜からな
る記録層の下に低抗磁力の酸化物磁性膜からなる下地層
をスピンコート法により形成することを特徴とする磁気
ディスクの製造方法により達成することができる。
本発明は垂直単磁極ヘッドを使用するには低抗磁力、高
残留磁化をもつ下地層を設けることが必要であるが、こ
の下地層を鉄(Fe)フェライト(通称マグネタイ)+
Fe304)+ マンガン・亜鉛(Mn−Zn)フェラ
イトなどの酸化物磁性膜を用いて形成するものである。
残留磁化をもつ下地層を設けることが必要であるが、こ
の下地層を鉄(Fe)フェライト(通称マグネタイ)+
Fe304)+ マンガン・亜鉛(Mn−Zn)フェラ
イトなどの酸化物磁性膜を用いて形成するものである。
第1図は本発明を実施した磁気ディスクの構成を示すも
ので、基板7の上にスピンコート法により下地層8を設
けた後、同様にスピンコート法によりBaフェライトを
主成分とする記録層9を形成するものである。
ので、基板7の上にスピンコート法により下地層8を設
けた後、同様にスピンコート法によりBaフェライトを
主成分とする記録層9を形成するものである。
このようにすると下地層8と記録層9の形成を同一の装
置を用いて連続して行えるので工程上都合がよく、従っ
て僅かなコストアップで済み、垂直単磁極ヘッドlを用
いて高密度記録を行うことが可能となる。
置を用いて連続して行えるので工程上都合がよく、従っ
て僅かなコストアップで済み、垂直単磁極ヘッドlを用
いて高密度記録を行うことが可能となる。
下地層8を構成する磁性粉として抗磁力が60oeのマ
グネタイト粉を、また記録層9を構成する磁性粉として
は粒径が0.1〜0.2μmのBaフェライト粉を使用
してマグネタイト磁性塗料とBaフェライト磁性塗料を
作成した。
グネタイト粉を、また記録層9を構成する磁性粉として
は粒径が0.1〜0.2μmのBaフェライト粉を使用
してマグネタイト磁性塗料とBaフェライト磁性塗料を
作成した。
表は重量部で表した塗料の組成である。
表
磁気ディスクの製造方法としてAt合金からなる基板7
の上にマグネタイト磁性塗料をスピンコート法により塗
布し、これを180℃で30分に互って低温焼成して膜
厚が0.3μmの下地層8を形成した後、この上に従来
と同様な方法でBaフェライト磁性塗料をスピンコート
法で塗布して記録層9を形成し、これを250℃で30
分の焼成を行ってキュ了した。
の上にマグネタイト磁性塗料をスピンコート法により塗
布し、これを180℃で30分に互って低温焼成して膜
厚が0.3μmの下地層8を形成した後、この上に従来
と同様な方法でBaフェライト磁性塗料をスピンコート
法で塗布して記録層9を形成し、これを250℃で30
分の焼成を行ってキュ了した。
ここで下地層8を低温焼成した理由は不完全硬化させ未
反応成分を残して置くことにより記録層9との密着性を
向上させるためである。
反応成分を残して置くことにより記録層9との密着性を
向上させるためである。
このように約6008の低抗磁力の下地1’ii8を設
けることにより、垂直単磁極ヘッドの使用が可能となり
、リングヘッドを使用した従来の場合と較べ、二倍以上
の再生出力を得ることができた。
けることにより、垂直単磁極ヘッドの使用が可能となり
、リングヘッドを使用した従来の場合と較べ、二倍以上
の再生出力を得ることができた。
以上記したように本発明の実施により、垂直単磁極ヘッ
ドの使用が可能となり、高密度記録が行われると共に再
生出力が向上する。
ドの使用が可能となり、高密度記録が行われると共に再
生出力が向上する。
第1図は本発明を実施した磁気ディスクの断面構成図、
第2図は従来の単層構造をとる磁気ディスクの断面構成
図、 第3図は従来の二層構造をとる磁気ディスクの断面構成
図、 である。 図において、 1は垂直単磁掻ヘッド、 2はGo−Cr磁性膜、3
はパーマロイ膜、 4は磁力線、5は酸化物磁性
膜、 6はリングヘッド、7は基板、
8は下地層、9は記録層、 である。 才i&==、う32鼻諜し3石か9Lチンスク宴3 a
図、 第3図は従来の二層構造をとる磁気ディスクの断面構成
図、 である。 図において、 1は垂直単磁掻ヘッド、 2はGo−Cr磁性膜、3
はパーマロイ膜、 4は磁力線、5は酸化物磁性
膜、 6はリングヘッド、7は基板、
8は下地層、9は記録層、 である。 才i&==、う32鼻諜し3石か9Lチンスク宴3 a
Claims (1)
- 垂直単磁極ヘッドを用いて情報の記録と再生とを行う磁
気ディスクにおいて、酸化物磁性膜からなる記録層の下
に低抗磁力の酸化物磁性膜からなる下地層をスピンコー
ト法により形成することを特徴とする磁気ディスクの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7473885A JPS61233426A (ja) | 1985-04-09 | 1985-04-09 | 磁気デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7473885A JPS61233426A (ja) | 1985-04-09 | 1985-04-09 | 磁気デイスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61233426A true JPS61233426A (ja) | 1986-10-17 |
Family
ID=13555877
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7473885A Pending JPS61233426A (ja) | 1985-04-09 | 1985-04-09 | 磁気デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61233426A (ja) |
-
1985
- 1985-04-09 JP JP7473885A patent/JPS61233426A/ja active Pending
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