JPS61236634A - 表示装置用透明電極の製造法 - Google Patents
表示装置用透明電極の製造法Info
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- JPS61236634A JPS61236634A JP7569785A JP7569785A JPS61236634A JP S61236634 A JPS61236634 A JP S61236634A JP 7569785 A JP7569785 A JP 7569785A JP 7569785 A JP7569785 A JP 7569785A JP S61236634 A JPS61236634 A JP S61236634A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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- G02F1/1343—Electrodes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
表示装置用素子として硝子基板」二に透明導電画像膜を
吹付法により形成する従来の方法は、次の如くである。
吹付法により形成する従来の方法は、次の如くである。
第１図に示すように４００℃〜６００℃に加熱した硝子
基板ｆ１．ｌ １に金属塩溶液（例えば塩化第二錫を主
成分とするメタノール溶液）を噴霧して基板の一側全面
に透明な導電皮膜（３）を例えば０５〜０７μｍの厚み
に形成する。
基板ｆ１．ｌ １に金属塩溶液（例えば塩化第二錫を主
成分とするメタノール溶液）を噴霧して基板の一側全面
に透明な導電皮膜（３）を例えば０５〜０７μｍの厚み
に形成する。
次に第２図に示すように、この導電性皮膜（３）上に感
光性樹脂（２）を全面に塗布しこの感光性樹脂（２）上
に電極画像の原板を密着して露光させた後非露光部を水
洗いで除去し、第３図に示すような感光樹脂画像膜（２
）を形成する。
光性樹脂（２）を全面に塗布しこの感光性樹脂（２）上
に電極画像の原板を密着して露光させた後非露光部を水
洗いで除去し、第３図に示すような感光樹脂画像膜（２
）を形成する。
次にこの感光樹脂画像膜（２）をマスクとして露出して
いる導電性皮膜（３）を例えば亜鉛−塩酸の還元法にて
エツチングして除き第４図に示すような導電性画像皮膜
（コ）を形成する。
いる導電性皮膜（３）を例えば亜鉛−塩酸の還元法にて
エツチングして除き第４図に示すような導電性画像皮膜
（コ）を形成する。
最後に感光性樹脂画像膜ぼ）を剥離液で処理して除き、
第５図に示すように透明な導電性画像皮膜（顔をガラス
基板（１）」−に形成させるものである。
第５図に示すように透明な導電性画像皮膜（顔をガラス
基板（１）」−に形成させるものである。
この様な従来の方法は、次の点で欠点がある。
１）エツチング処理の際、導電性画像皮膜のサイドエツ
チング現象は避けられず、微細、精密な画像の作成を妨
げる。
チング現象は避けられず、微細、精密な画像の作成を妨
げる。
２）エツチング液の保守、廃液の処理等に公害防止の設
備や心くばりが必要で、工程も増える為コスト高になる
。
備や心くばりが必要で、工程も増える為コスト高になる
。
本発明は、前記の如き従来の欠点を除去した透明電柘の
製造方法で、第６図に示すように硝子基板ｆｉ） Ｊ：
に感光性樹脂膜（２）を−側全面に形成し、その」二に
導電性画像の原板（４）（原板のパターンは所望の導電
性画像膜のパターンとは逆になる）を重ねて露光、現像
を行い、第７図に示すように導電性画像皮膜を形成した
い部分の基板面を露出させる。
製造方法で、第６図に示すように硝子基板ｆｉ） Ｊ：
に感光性樹脂膜（２）を−側全面に形成し、その」二に
導電性画像の原板（４）（原板のパターンは所望の導電
性画像膜のパターンとは逆になる）を重ねて露光、現像
を行い、第７図に示すように導電性画像皮膜を形成した
い部分の基板面を露出させる。
次に基板（１）を加熱しながらアルコール溶液や低級エ
ステル溶液に混合した金属塩の溶液を吹付け、第８図に
示すような導電性皮膜（３）を−側全面に形成する。
ステル溶液に混合した金属塩の溶液を吹付け、第８図に
示すような導電性皮膜（３）を−側全面に形成する。
その後基板（１）を冷却させて感光性樹脂の角画像膜（
））をその」二に形成されている導電性皮膜（３）と−
緒に水洗或はその他の簡便な方法（研磨等）で除去すれ
ば第９図に示す所望の導電性皮膜の正画像（３′）が基
板（１）上に形成されて残るものである。
））をその」二に形成されている導電性皮膜（３）と−
緒に水洗或はその他の簡便な方法（研磨等）で除去すれ
ば第９図に示す所望の導電性皮膜の正画像（３′）が基
板（１）上に形成されて残るものである。
この方法では、従来法に較べてエツチング処理が不要に
なり、感光性樹脂をエツチングマスクとして利用するこ
ともなくなり、先に挙げた従来法の欠点が全て解消され
微細、精密な導電性画像皮膜の形成に有効であり、製造
工程も簡単になる。
なり、感光性樹脂をエツチングマスクとして利用するこ
ともなくなり、先に挙げた従来法の欠点が全て解消され
微細、精密な導電性画像皮膜の形成に有効であり、製造
工程も簡単になる。
以下本発明の実施例を詳述する。
Ａ）感光性樹脂
１日本感光紙工業株式会社製 Ｍ−６ Ｂ）金属塩溶液 塩化第二錫 ・・・・・・ １３重量％三塩化アン
チモン・・・・・ ２×１０ 重量％メチルアルコール
・・・ ８６重量％ 前記Ａ、Ｂの２溶液を使用して第６図〜第９図に示す作
業を行った。
１日本感光紙工業株式会社製 Ｍ−６ Ｂ）金属塩溶液 塩化第二錫 ・・・・・・ １３重量％三塩化アン
チモン・・・・・ ２×１０ 重量％メチルアルコール
・・・ ８６重量％ 前記Ａ、Ｂの２溶液を使用して第６図〜第９図に示す作
業を行った。
ソーダライム系硝子基板（１）」−にＡ液をメイヤバー
コートの方法で２μｍの厚さに全面塗布し、５０℃、１
０分間の乾燥を行なって第６図に示すような感光性樹脂
層（２）を形成した。
コートの方法で２μｍの厚さに全面塗布し、５０℃、１
０分間の乾燥を行なって第６図に示すような感光性樹脂
層（２）を形成した。
この感光樹脂層（２）上に画像原板（４）を当て８秒間
の密着露光を行い未露光部を水で現像して洗い流し、エ
アーナイフで乾燥させ第７図に示すような感光樹脂画像
（２′）を形成した。
の密着露光を行い未露光部を水で現像して洗い流し、エ
アーナイフで乾燥させ第７図に示すような感光樹脂画像
（２′）を形成した。
この基板を吹付装置中に入れ５００℃に加熱し、Ｂ液を
３０秒間噴霧して酸化錫の透明な導電性皮膜（３）を形
成した。（第８図） 次にこの基板を吹付装置から取出し冷却した後、感光樹
脂膜（））とその上の酸化錫皮膜（３）を水洗いのみで
除去し導電性画像皮膜（３′ｌを得た。
３０秒間噴霧して酸化錫の透明な導電性皮膜（３）を形
成した。（第８図） 次にこの基板を吹付装置から取出し冷却した後、感光樹
脂膜（））とその上の酸化錫皮膜（３）を水洗いのみで
除去し導電性画像皮膜（３′ｌを得た。
この場合感光樹脂膜（２）は０５μｍ位迄減少したが灰
化像としての損傷はなく、形成された画像皮膜の形部れ
はなかった。
化像としての損傷はなく、形成された画像皮膜の形部れ
はなかった。
Claims (1)
- 硝子基板上に感光性樹脂を塗布し、乾燥後露光し続いて
現像することにより、導電性膜を付着させたい部分だけ
硝子面を露出させ、この硝子基板を４５０℃以上の高温
に加熱し、例えば、塩化第二錫を主成分とするメタノー
ル溶液を吹きつけ、その後基板を冷却させた後感光性樹
脂の残存部分を除去することを特徴とする表示素子用透
明電極の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7569785A JPS61236634A (ja) | 1985-04-09 | 1985-04-09 | 表示装置用透明電極の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7569785A JPS61236634A (ja) | 1985-04-09 | 1985-04-09 | 表示装置用透明電極の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61236634A true JPS61236634A (ja) | 1986-10-21 |
Family
ID=13583662
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7569785A Pending JPS61236634A (ja) | 1985-04-09 | 1985-04-09 | 表示装置用透明電極の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61236634A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6425986A (en) * | 1987-07-21 | 1989-01-27 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Selective formation of silicon dioxide film |
| EP0697377A3 (en) * | 1994-08-18 | 1996-09-18 | Honjo Sorex Co Ltd | Process for producing a glass substrate coated with a finely structured Nesa glass membrane |
-
1985
- 1985-04-09 JP JP7569785A patent/JPS61236634A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6425986A (en) * | 1987-07-21 | 1989-01-27 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Selective formation of silicon dioxide film |
| EP0697377A3 (en) * | 1994-08-18 | 1996-09-18 | Honjo Sorex Co Ltd | Process for producing a glass substrate coated with a finely structured Nesa glass membrane |
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