JPS61267928A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPS61267928A JPS61267928A JP11086085A JP11086085A JPS61267928A JP S61267928 A JPS61267928 A JP S61267928A JP 11086085 A JP11086085 A JP 11086085A JP 11086085 A JP11086085 A JP 11086085A JP S61267928 A JPS61267928 A JP S61267928A
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 45
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 16
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 7
- 230000003685 thermal hair damage Effects 0.000 abstract description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 abstract description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 3
- -1 polyethylene Polymers 0.000 abstract description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 abstract description 3
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 15
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 4
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000005347 demagnetization Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、垂直磁気記録用の磁気記録媒体に関し、有機
質支持基体上に非磁性金属膜を形成し、この非磁性金属
膜上に垂直異方性膜を形成することにより、スパッタ法
或いは蒸着法により有機質支持基体上に垂直異方性膜を
形成する場合に、非磁性金属膜により有機質支持基体の
熱負けを防止し、高保持力の垂直異方性膜を形成できる
ようにしたものである。
質支持基体上に非磁性金属膜を形成し、この非磁性金属
膜上に垂直異方性膜を形成することにより、スパッタ法
或いは蒸着法により有機質支持基体上に垂直異方性膜を
形成する場合に、非磁性金属膜により有機質支持基体の
熱負けを防止し、高保持力の垂直異方性膜を形成できる
ようにしたものである。
従来の技術
従来、磁気記録方式には、面内記録方式と垂直記録方式
とがある０面内記録方式は、磁気記録媒体の移動方向と
平行に、その媒体を磁化し、磁化の長さと強さで音や映
像の情報を記憶する方式である。ところが、面内記録に
は減磁作用が附随しており、記録密度を増すためには、
磁気記録媒体を薄膜化する必要がある。しかし、磁気記
録媒体の薄膜化には限界があり、その記録密度の増加に
はすでに限界が見えている。この記録の高密度化に応じ
られるものとして、近年、垂直記録方式が再度注目され
、多くの提案がなされている。
とがある０面内記録方式は、磁気記録媒体の移動方向と
平行に、その媒体を磁化し、磁化の長さと強さで音や映
像の情報を記憶する方式である。ところが、面内記録に
は減磁作用が附随しており、記録密度を増すためには、
磁気記録媒体を薄膜化する必要がある。しかし、磁気記
録媒体の薄膜化には限界があり、その記録密度の増加に
はすでに限界が見えている。この記録の高密度化に応じ
られるものとして、近年、垂直記録方式が再度注目され
、多くの提案がなされている。
垂直記録方式は磁気記録媒体を媒体面と垂直に磁化して
記録する方法であり、記録密度を増す上に減磁作用とい
う原理上の制限はない、このため、面内記録方式より著
しく高密度の磁気記録が可能である。
記録する方法であり、記録密度を増す上に減磁作用とい
う原理上の制限はない、このため、面内記録方式より著
しく高密度の磁気記録が可能である。
垂直磁気記録媒体としては、第３図に示すように、ポリ
エチレン、テレフタレート等でなる有機質支持基体ｌ上
に旧−Ｆｅ合金等でなる高透磁率層２を形成し、この高
透磁率層２の上に例えばＧｏとＣｒとを主成分とする合
金膜でなる垂直異方性膜３を形成した二層膜構造のもの
が最も一般的であるが、最近、第４図に示すように、有
機質支持基体１の上に直接的に垂直異方性膜３を形成し
たものが注目されている。高透磁率層２及び垂直異方性
膜３はスパッタ法或いは蒸着法によって形成するのか−
・般的である。
エチレン、テレフタレート等でなる有機質支持基体ｌ上
に旧−Ｆｅ合金等でなる高透磁率層２を形成し、この高
透磁率層２の上に例えばＧｏとＣｒとを主成分とする合
金膜でなる垂直異方性膜３を形成した二層膜構造のもの
が最も一般的であるが、最近、第４図に示すように、有
機質支持基体１の上に直接的に垂直異方性膜３を形成し
たものが注目されている。高透磁率層２及び垂直異方性
膜３はスパッタ法或いは蒸着法によって形成するのか−
・般的である。
第５図は二層膜構造の垂直磁気記録媒体のスパッタ法に
よる成膜方法を示す図で、アンワインダ−５から引き出
された有機質支持基体１を。
よる成膜方法を示す図で、アンワインダ−５から引き出
された有機質支持基体１を。
冷却ドラム６の外周の約半周に密着させると共に、冷却
ドラム６から案内ローラ７．８及び９へと順次連接させ
、案内ローラ８−９間では冷却体１０から一定の間隔ｄ
１で離れるように案内し。
ドラム６から案内ローラ７．８及び９へと順次連接させ
、案内ローラ８−９間では冷却体１０から一定の間隔ｄ
１で離れるように案内し。
更にワインダー１１で巻取るようになっている。
そして冷却ドラム６の外周面に密着させである部分で、
スパッタリングによってターゲット１２から叩き出され
た原料粒子を、有機質支持基体ｌの表面に付着させて高
透磁率層２を成膜し、次に案内ローラ８−９間でターゲ
ラ）１３から叩き出されたＧｏ−Ｃｒ合金粒子を高透磁
率層２の上に付着させてＧｏ−Ｃｒ合金膜でなる垂直異
方性膜３を成膜する。
スパッタリングによってターゲット１２から叩き出され
た原料粒子を、有機質支持基体ｌの表面に付着させて高
透磁率層２を成膜し、次に案内ローラ８−９間でターゲ
ラ）１３から叩き出されたＧｏ−Ｃｒ合金粒子を高透磁
率層２の上に付着させてＧｏ−Ｃｒ合金膜でなる垂直異
方性膜３を成膜する。
冷却ドラム６に支持支持基体１を密着させて高透磁率層
２を成膜するのは、スパッタリングに伴って発生する熱
的ダメージから有機質支持基体ｌを保護し、その熱的変
形及び熱溶解を防止するためである。
２を成膜するのは、スパッタリングに伴って発生する熱
的ダメージから有機質支持基体ｌを保護し、その熱的変
形及び熱溶解を防止するためである。
垂直異方性膜３をスパッタリング成膜する場合に、冷却
体ｌＯから一定の間隔ｄ１だけ離した部分で行なうのは
、冷却体ｌＯによって支持基体１に冷却作用を与えてス
パッタリングに伴う熱的ダメージを防止すると同時に、
スパッタ粒子が支持基体ｌに付着した場合にその熱が瞬
時に逃げるを防止して、充分な結晶化温度を維持し、保
持力の高い垂直異方性膜３を形成するためである。二層
膜構造の垂直磁気記録媒体の場合には、垂直異方性膜３
を形成する段階で既に高透磁率層２が形成されているの
で、この高透磁率層２がスパッタリングに伴う熱的ダメ
ージから支持基体１を保護する保護膜となる。このこと
が、垂直異方性膜３を形成する場合に、冷却体１０から
間隔ｄ１だけ離して、保持力の高い垂直異方性膜３を形
成することを可能にしている。
体ｌＯから一定の間隔ｄ１だけ離した部分で行なうのは
、冷却体ｌＯによって支持基体１に冷却作用を与えてス
パッタリングに伴う熱的ダメージを防止すると同時に、
スパッタ粒子が支持基体ｌに付着した場合にその熱が瞬
時に逃げるを防止して、充分な結晶化温度を維持し、保
持力の高い垂直異方性膜３を形成するためである。二層
膜構造の垂直磁気記録媒体の場合には、垂直異方性膜３
を形成する段階で既に高透磁率層２が形成されているの
で、この高透磁率層２がスパッタリングに伴う熱的ダメ
ージから支持基体１を保護する保護膜となる。このこと
が、垂直異方性膜３を形成する場合に、冷却体１０から
間隔ｄ１だけ離して、保持力の高い垂直異方性膜３を形
成することを可能にしている。
発明が解決しようとする問題点
上述のように、二層膜構造の垂直磁気記録媒体において
は、高透磁率層２を利用して熱的ダメージから支持基体
ｌを保護すると同時に、垂直異方性膜を形成すべきスパ
ッタ粒子を、合金層を形成するのに必要な結晶化温度に
保ち、保持力の高い垂直異方性膜３を形成することが可
能である。
は、高透磁率層２を利用して熱的ダメージから支持基体
ｌを保護すると同時に、垂直異方性膜を形成すべきスパ
ッタ粒子を、合金層を形成するのに必要な結晶化温度に
保ち、保持力の高い垂直異方性膜３を形成することが可
能である。
ところが、第４図に示す単層膜構造の垂直磁気記録媒体
は、垂直異方性膜３を有機質支持基体１上に直接的に形
成する構造であるから、垂直異方性膜３をスパッタリン
グ成膜する場合に、スパッタリングに伴う熱的ダメージ
から有機質支持基体ｌを保護する手段がない。このため
、仮に第５図に示す成膜工程のうち、冷却体１０から間
隔ｄ１だけ離して垂直異方性膜３を形成する製造工程を
採用した場合、有機質支持基体１が熱的に変形し溶解す
る等の熱負けの問題を生じてしまう。
は、垂直異方性膜３を有機質支持基体１上に直接的に形
成する構造であるから、垂直異方性膜３をスパッタリン
グ成膜する場合に、スパッタリングに伴う熱的ダメージ
から有機質支持基体ｌを保護する手段がない。このため
、仮に第５図に示す成膜工程のうち、冷却体１０から間
隔ｄ１だけ離して垂直異方性膜３を形成する製造工程を
採用した場合、有機質支持基体１が熱的に変形し溶解す
る等の熱負けの問題を生じてしまう。
この熱負けの問題を解決するため、第５図に示す成膜工
程のうち、冷却ドラム６に支持基体ｌを密着させて成膜
する工程を、垂直異方性膜３のスパッタリング成膜に適
用した場合、冷却ドラム６による放熱作用によりスパッ
タ粒子の温度降下が大きくなり、充分な結晶化温度が維
持できなくなるため、保持力の高い垂直異方性膜３を形
成することが困難になる。
程のうち、冷却ドラム６に支持基体ｌを密着させて成膜
する工程を、垂直異方性膜３のスパッタリング成膜に適
用した場合、冷却ドラム６による放熱作用によりスパッ
タ粒子の温度降下が大きくなり、充分な結晶化温度が維
持できなくなるため、保持力の高い垂直異方性膜３を形
成することが困難になる。
問題点を解決するための手段
上述する従来の問題点を解決するため１本発明に係る磁
気記録媒体は、第１図に示すように、有機質支持基体１
上に非磁性金属膜４を形成し、この非磁性金属膜４上に
垂直異方性膜３を形成したことを特徴とする。
気記録媒体は、第１図に示すように、有機質支持基体１
上に非磁性金属膜４を形成し、この非磁性金属膜４上に
垂直異方性膜３を形成したことを特徴とする。
前記有機質支持基体ｌは従来と同様にポリエチレン、テ
レフタレート等で形成し、垂直異方性膜３はＣＯとＣｒ
とを主成分とする合金膜として形成し、非磁性金属膜４
は例えば銅等によって形成する。
レフタレート等で形成し、垂直異方性膜３はＣＯとＣｒ
とを主成分とする合金膜として形成し、非磁性金属膜４
は例えば銅等によって形成する。
作用
上記構成の磁気記録媒体において、非磁性金属膜４は、
垂直異方性膜３に対する磁気的影響を無視でき、しかも
優れた耐熱性及び放熱性が得られる。このため、この非
磁性金属膜４が、垂直異方性膜３のスパッタリング成膜
に伴う熱的ダメージから、有機質支持基体ｌを保護する
保！ｌ１ｆＩとなり、垂直異方性膜３を形成する場合に
、二層膜構造の場合と同様に、冷却体から一定の間隔で
離して行なう成膜手段を採用し、スパッタ粒子の温度を
、合金膜を形成するのに必要な結晶化温度に維持し、保
持力の高い垂直異方性膜３を形成することが可能になる
。
垂直異方性膜３に対する磁気的影響を無視でき、しかも
優れた耐熱性及び放熱性が得られる。このため、この非
磁性金属膜４が、垂直異方性膜３のスパッタリング成膜
に伴う熱的ダメージから、有機質支持基体ｌを保護する
保！ｌ１ｆＩとなり、垂直異方性膜３を形成する場合に
、二層膜構造の場合と同様に、冷却体から一定の間隔で
離して行なう成膜手段を採用し、スパッタ粒子の温度を
、合金膜を形成するのに必要な結晶化温度に維持し、保
持力の高い垂直異方性膜３を形成することが可能になる
。
第２図は本発明に係る磁気記録媒体の製造工程を概略的
に示す図である０図において第５図と同一の参照符号は
同一性ある構成部分を示している。第５図に示した従来
の工程と異なる点は、冷却ドラム６の部分でのスパッタ
リング成膜において、ターゲット１４として非磁性金属
材料を使用し、非磁性金属膜をスパッタリング成膜する
ことである。このような非磁性金属材料としては、例え
ば銅等がある。
に示す図である０図において第５図と同一の参照符号は
同一性ある構成部分を示している。第５図に示した従来
の工程と異なる点は、冷却ドラム６の部分でのスパッタ
リング成膜において、ターゲット１４として非磁性金属
材料を使用し、非磁性金属膜をスパッタリング成膜する
ことである。このような非磁性金属材料としては、例え
ば銅等がある。
発明の効果
以上述べたように、本発明に係る磁気記録媒体は、スパ
ッタ法或いは蒸着法により有機質支持基体上に垂直異方
性膜を形成する場合に、非磁性金属膜により有機質支持
基体の熱負けを防止し、高保持力の垂直異方性膜を形成
できるようにした垂直磁気記録用の磁気記録媒体を提供
することができる。
ッタ法或いは蒸着法により有機質支持基体上に垂直異方
性膜を形成する場合に、非磁性金属膜により有機質支持
基体の熱負けを防止し、高保持力の垂直異方性膜を形成
できるようにした垂直磁気記録用の磁気記録媒体を提供
することができる。
第１図は本発明に係る磁気記録媒体の構造を概略的に示
す断面図、第２図は同じくその製造工程を示す図、第３
図は従来の磁気記録媒体の構造を示す断面図、第４図は
同じく別の従来冷における断面図、第５図は第３図に示
した磁気記録媒体の製造工程を示す図である。 ｌ・・・有機質支持基体 ３＠・Φ垂直異方性膜 ４−・・非磁性金属膜 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図 手続補正書 昭和６１年３月１７日 昭和６０年特許願第１１０８６０号 ２、発明の名称 磁気記録媒体 ３、補正をする者 事件との関係 和ｌ田Ｊ暇人 住所 東京都中央区日本橋−丁目１３番１号婆
（３０６）ティーディーケイ横９３Ｎ士慢猪大歳寛
す断面図、第２図は同じくその製造工程を示す図、第３
図は従来の磁気記録媒体の構造を示す断面図、第４図は
同じく別の従来冷における断面図、第５図は第３図に示
した磁気記録媒体の製造工程を示す図である。 ｌ・・・有機質支持基体 ３＠・Φ垂直異方性膜 ４−・・非磁性金属膜 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図 手続補正書 昭和６１年３月１７日 昭和６０年特許願第１１０８６０号 ２、発明の名称 磁気記録媒体 ３、補正をする者 事件との関係 和ｌ田Ｊ暇人 住所 東京都中央区日本橋−丁目１３番１号婆
（３０６）ティーディーケイ横９３Ｎ士慢猪大歳寛
Claims (1)
- （１）有機質支持基体上に非磁性金属膜を形成し、この
非磁性金属膜上に垂直異方性膜を形成したことを特徴と
する磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11086085A JPS61267928A (ja) | 1985-05-22 | 1985-05-22 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11086085A JPS61267928A (ja) | 1985-05-22 | 1985-05-22 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61267928A true JPS61267928A (ja) | 1986-11-27 |
Family
ID=14546503
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11086085A Pending JPS61267928A (ja) | 1985-05-22 | 1985-05-22 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61267928A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63300428A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
| EP1102336A4 (en) * | 1999-04-08 | 2004-07-07 | Dainippon Printing Co Ltd | BATTERY PACKAGING MATERIAL, BATTERY CARRYING BAG AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME |
| US7399386B2 (en) * | 2001-07-17 | 2008-07-15 | Fuji Electric Device Technology Co., Ltd. | Magnetic recording medium, method of manufacturing the same and magnetic recording apparatus |
-
1985
- 1985-05-22 JP JP11086085A patent/JPS61267928A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63300428A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
| EP1102336A4 (en) * | 1999-04-08 | 2004-07-07 | Dainippon Printing Co Ltd | BATTERY PACKAGING MATERIAL, BATTERY CARRYING BAG AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME |
| US7285334B1 (en) | 1999-04-08 | 2007-10-23 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Material for packaging cell, bag for packaging cell, and its production method |
| US7399386B2 (en) * | 2001-07-17 | 2008-07-15 | Fuji Electric Device Technology Co., Ltd. | Magnetic recording medium, method of manufacturing the same and magnetic recording apparatus |
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