JPS61276140A

JPS61276140A - 光デイスク

Info

Publication number: JPS61276140A
Application number: JP60116652A
Authority: JP
Inventors: Toshikatsu Komizu; 香水　敏勝
Original assignee: Nippon Kogaku KK
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1985-05-31
Filing date: 1985-05-31
Publication date: 1986-12-06

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の技術分野〕本発明は、高密度情報記録媒体として注目されているレ
ーザディスク、ビデオディスク、ディジタルオーディオ
ディスク、光磁気ディスク、ＤＲＡＭディスクなどの光
学的手段によって情報の記録、情報の再生、情報の記録
再生又は情報の消去記録再生を行う光ディスクの構造の
改良に関するものである〇〔発明の背景〕情報社会の進展に伴なって高密度の情報記録媒体が要望
されているが、その１つとして元ディスクがあり、ビデ
オディスクあるいはディジタルオーディオディスクとし
て実用化されている。

第６図には、従来の光ディス、りの製造工程の一例が示
されている。この図において、まず、適当な大きさの原
盤例えばガラス基板１０が用意される。このガラス基板
１０は、例えば第７図に示すように適当な内在の中心穴
を有している。第７図には、−ｇｔ−破断して断面が示
されているが、この断面における各工程の状・態が第６
図（Ａ）ないしくＧ）に示されている。まず同図（Ａ）
に示すように、ガラス基板１０の主表面上にフォトレジ
スト１２１＠−に塗布する。次に、適宜の光学手段例え
ばＶ−ザ手段によって必要なパターン状に露光が行なわ
れ、フォトレジスト１２のエツチングが行なわれる（同
図ＣＢ）＃照）０次に、所定のパターン状に形成されたフォトレジスト１
２ｆ：有するガラス基板１０の主表面上に、例えばニッ
ケル（Ｎｌ　）の薄膜１４ｔ−スパッタリングなどの方
法で形成する（同図（Ｃ）参照）。そしてこのニッケル
薄膜１．ｌｔ、極と（、てニッケルのメッキすなわちニ
ッケル電鋳が行々われ、マスタ１６が形成される（同図
１’Ｄ）参照）。この工程後マスタ１６はガラス基板１
０からはがされる（同図ｒＥ）参照）。前述したように
、フオレジスト１２には、必要なパターンが形成されて
いるため、マスタ１６には、そのパターンに対しネガの
関係にあるパターンが凹凸によって形成されている。

次に、このマスタ１６に対し、別体の表面層としての適
当なプラスチック材料例えば光照射によって硬化する高
分子材料（以下単にｒＺＰ材」と略称する）１８ｔ−用
いてモールド加工を行う（同図（Ｆ）参照）、、マスタ
１６のパターンはネガであるから、２Ｐ材１８のパター
ンはポジとなる（同図（Ｇ）参照）。

以上の工程の（１２Ｐ材１８のパターン面すなわちビッ
ト側に記録膜２０が形成され、更には、接着剤２２によ
って保護板２４あるいは基板２６に記録膜２０が挾持さ
れるようにして貼り合せられ、元ディスクが第８図に示
すように完成する。

しかしながら、以上のような従来の光゛ディスクの構造
においては、例えば第８図の矢印Ｆ１．　Ｆ２で示すよ
うに、光ディスクの外周端あるいは内周端における各層
の界面から水分が記録膜２０の方向に侵入し、記録ｌＡ
２０を劣化させるという工部合がある。また、各層間の
密着性、σ貼り合せ強度も、十分なものとはいえない。

〔発明の目的〕

本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、水分
の侵入による記録膜の劣化を低減してその寿命の低下を
防止するとともに、各層間の密着性、貼り合せ強度の向
上も図ることができる光ディスクを提供することｔその
目的とするものである。

〔発明の概要〕

本発明者は、先に記録膜を劣化させる水分は特に表面層
の表面（接着剤層との界面）に市って外部からシワシワ
と侵入することを見い出し、この侵入金遅くらせるＫは
、外部と記録膜との閣の道程を長くすればよいことを着
想し、本発ＩＪＡｔ−成すに至った。

即ち、本発明は輪帯状の記録膜が形成された表面層例え
ば２Ｐ材層（基板と別体でも一体でもよい）の外周側又
は内周側領域の少なくとも一方に円周方向の溝又は突条
パターンを形成し、それにより放射方向からの侵入経路
を延長したことを特徴とする光ディスクを提供する。

この溝パターンは、ガラス原盤を用いてスタンパ會作成
するときに形成されるか、あるいはカッタ二手段等によ
り直接スタンノくに形成される。溝又は突条パターンの
形としては、例えば同心円状もしくはスパイラル状又は
それらの部分的組み合わせの溝が用いられる。このノく
ターンにより、光ディスクの各層間の界面における外気
と記録領域の距離が増大し、また層間の接触面積も増大
する０〔実施例〕以下、第１図ないし第５図を参照しながら、本発明の実
施例について説明する。

まず、適当なガラス板３０を用意する。このガラス板６
０としては、例えば外径が２２０ｍ、厚さが６■のソー
ダライム環のものを使用する。そして、このガラス板３
００片側表面上に、例えばＡＺ１３５０などのフォトレ
ジスト３２を例、ｔば１μ漠　の厚さにスピンコードす
る（第１図ＣＡ）参＠）。

そしてこのフォトレジスト３２上に、例えばクロム（Ｃ
ｒ）３４ｔ−１００ＯＡの厚さく真空蒸着などの方法に
よって形成する（同図（Ａ）参照）。

次に、アルゴンＶ−ザ３６を適宜の光学手段を用いて１
μｍの径のビームとしてクロム膜６４に照射しＣ同図（
Ａ）参照）、ガラス板３０上の径が４０ないし５０＃ｌ
ｌ及び１９４ないし２００ｍの＠部付近ノｄ囲ｉｃ、＃
ｉ［幅１μｍ、ピッチ２μ惧のスパイラル状にクロム層
６４を蒸発させる（同図ｒＢ）参照）。

そして、クロム層３４をマスクとして、フォトンシスト
３２に対し露光を行い、現像全行う（同図（Ｃ）参照）
。これにより、フォトレジスト３２のパターンは、クロ
ム層６４と同様になり、パターンに后ってガラス板３０
の表面が露出するようになる。ぞして、この露出したガ
ラス面に対し、ＣＨＦ３　ｔ”用いてドライエツチング
を行い、例えば１μ溝の溝３８を形成し、フォトレジス
ト６２全除去する（同図ｒＤ）参照）。前述したように
、クロム層３４に形成されたパターンはスパイラル状で
あるから、溝パターン３８もスパイラル状となる。

次に、ガラス板５０の表面上に再度フォトレジスト４０
　ｆｔ、例えば１５００Ａの厚さにスピンコードする（
同図（Ｅ）ｉ照）。そして、ガラス板３０の径７０ない
し１９０−の範囲に、１．６μｍピッチの溝パターン状
にアルゴンンーサ４２による露光を行い（同図（Ｅ）参
照）、更にその後現像を行う（同図（Ｆ）参照）。以上
のようにしてフォトレジスト４０にパターンを形成した
後、再びドライニッチジグを行って深さ７００Ａのガイ
ド用トラック溝４４を形成し、この後にフォトレジスト
４０を除去するＣ同図（Ｇ）参照）。以上のようにして
外周側及び内周側端部に溝パターン６８を有し、中央部
分にガイドトランク溝４４を有するガラス原盤４６が完
成する。

次に、第６図（Ｃ）ないしＣＦ、）において説明したよ
うに、ガラス原盤４６に対してニッケルの薄膜ラスバッ
タリングなどの方法で形成し、これを電極として例えば
０．３　ｍの厚さとなるようにニッケル電鋳が行なわれ
る。そしてニッケル部分をガラス厚盤４６から剥離する
と、スタンパ４８が形成される（同図（Ｈ）参照）。

次に、適当なガラス基板例えば外径２００ｍｍ。

内径６５Ｗ１厚さ１．２　ｔｍのガラス基板５０上に、
２Ｐ材５２Ｔｔ介して上記スタンパ４８を対峙させ、光
照射を行って溝パターン３８及びガイドトラック溝４４
に対応する溝を形成する（第２図参照）。

そしてガイドトラック溝４４に対応したガイド溝［５４
上すなわち記録領域となる径が９０ないし１９０■の範
囲金含む６０ないし１９２１１１＋の範囲に、適当なｉ
スク手段を用いて輪帯状記録膜５６を形成する。記録膜
５６は、例えば、８１Ｃ６ＤＯＡ。

ＧｄＦ＠Ｃｏ　５００Ａ、　ＴｂＦｅ　５００Ａ％５ｉ
ｎｓ　１０００Ａ及びＡｔ１０００Ａ　ｔ−真空蒸着な
どの方法により連続して形成したものである。そしてこ
の記録膜５６の形成後、この記録膜５６側に紫外線硬化
型の接着剤５８ｆ、用いてガラス基板５０と同じ大きさ
のポリカーボネート板６０を保護板として接着し、光デ
ィスクが完成する。なお、ガラス基板５０の外周側及び
内周側端部付近には、ガラス原盤４６の溝パターン３８
に対応する溝パターン６２が形成されている。

次に、上記実施例の作用について説明する。第２図に示
すように、光ディスクの外周側及び内周側には、溝パタ
ーン６２が各々形成されている。

このため、別体の表面層の２Ｐ材５２と接着剤５８との
界面部分の長さすなわち界面を通過する記録膜５６と外
気との距離が増大している。このため、水分が記録膜５
６に達しにくくなる。

第３図には、時間の経過に対する記録膜５６のビットエ
ラーレートが示されており、グラフＬＡＵ何ら溝パター
ン６２全形成しない場合であり、グラフＬＢｉｊ本実施
例の場合である。このグラフは、光ディスクを、温度６
０℃、相対湿度９０％ＲＨの雰囲気中に放置してビット
エラーの発生状態を調べたものである。第３図から明ら
かなように、溝パターン６２を設けたことによってビッ
トエラーの発生が低減され、寿宿が長くなっている。

また、上記実施例によれば、ガラス基板５０の上の２Ｐ
材５２に対し、ガイド溝部５４ｔ−形成すると同時に溝
パターン６２が形成されるので、例えば、接着剤５日で
ポリカーボネート板６０ｔ−接着する前にカッターなど
を用いて溝パターンを形成する方法と比較すると、ガイ
ド溝部５４や記録［５６ｔ−傷つけたりするおそれがな
いという効果がある。

次に、本発明の他の実施例について、第４図及び第５図
ｔｍ参照しながら説明する。

第４図（Ａ）には、通常の方法で形成しｅ＝ニッケルス
タンパ７０が示されている。このスタンパ７０のうち、
ガイドトラック溝形成用の溝７２のある範囲すなわち元
ディスクにおいて情報記録領域となる部分を形成する範
囲は、径が９０ないし１９０■の輪帯状領域である。こ
の領域を除いた径４０ないし５０ｍ、１９４ないし２０
０■の領域に、ダイヤモンドカッ４−７４　ｋ用いて１
列えば深さ１μｍ、幅１．５μ講、ピッチ２μｍのスパ
イラル又は同心円状のＶ形溝パターン７６を各々形成す
る（第４図（Ｂ）参照）０この上うにしたスタンパ７０ｆ：用いて上述した実ｔｌ
ｌＡ列と同様の方法で光デイスク全作製する。第５図に
はその断面が示されており、第２図に飛したものと同様
の構成部分については同一の符号が用いられている。光
ディスクの外周側及び内周側には、スタンパ７０のｖｍ
ａｘパターン７６に対応する逆Ｖ字形突条パターン７８
が各々形成される。

この＠５図に示す元ディスクについてビットエラー発生
の経時変化を調べたところ、はぼａｇｓ図と同様の結果
が得られ、突条パターン７８の作用によって記録膜５６
の寿命が長くなっていることが確認された。

また、上記実施例では、ダイヤモンドカッター７４に使
用してスタンパ７０ＫＶ形溝７６ｔ−形成したが、ダイ
ヤモンドカッター７４のかわりに、例えばサンドベーパ
を用いてスタンパ７０に凹凸を形成したものについても
、同様の結果が得られている。

なお、本発明は何ら、上記実施例に限定されるものでは
なく、上述した各部の寸法などや図示した形状に限定さ
れるものではな（、必要に応じて適宜変更してよい。

また、上記実施例では、２Ｐ＃を使用したがプラスチッ
クの射出成形を利用するようにしてもよ一部０〔発明の効果〕以上説明したように、本発明による光ディスクによれば
、光ディスクの記録領域以外の外周側及び内周側端部領
域に、凹凸パターンを形成し、層界面における外気と記
録領域との距離を実質上増大させることとしたので、水
分の侵入が低減され、耐久性が向上して長寿命化が図ら
れるとともに、接触面積が増大して層間の貼り合せ残置
が増大して密着性も向上するという効果がある。

また、かかる凹凸パターンをスタンパにあらかじめパタ
ーンを形成し、これに作成することとしているので、記
録領域に損傷を与えるなどの不都合が生じないという効
果もある。

【図面の簡単な説明】

第１図（Ａ）ないしくＨ）は本発明にかかる光ディスク
の形成工程を示す断面図、＠２図は本発明の一笑施例を
示す一部破断した断面図、第３図／Ｉ′１８ｇ２図の実
施例におけるビットエラー発生の経時変化を示すグラフ
、第４図（Ａ）、　（Ｂ）は本発明の他の実施例のスタ
ンパの作成工程を示す断面図、第５図は本発明の他の実
施例を示す一部破断した断面図、第６図（Ａ）ないしＣ
Ｇ）は従来の元ディスクの作成工程の一例を示す断面図
、第７図はガラス原盤を示す一部破断した斜視図、第８
図は従来の元ディスクの一例を示す一部破断した断面図
である。〔主要部分の符号の説明〕３８・・・溝、４６・・・ガラス原盤、４８・・・スタ
ンパ、５０・・・ガラス基板（円形基板の一例）、５２
・・・２Ｐ材（別体表面層の一例）、５６・・・記録膜
、５８・・・接着剤、６２・・・溝ハ゛ター・ン、７８
・・・突条パターン。代理人　弁理士　　佐　藤　正　年第３図第４図第５図（巳）（Ｆ）第６図

Claims

【特許請求の範囲】

別体又は一体の表面層を有する円形基板上に輪帯状の記
録膜を形成してなる光ディスクに於いて、前記表面層の
うち記録膜の外周側又は内周側領域に円周方向の溝又は
突条パターンを形成したことを特徴とする光ディスク。