JPS6127973A - ピリミジノン誘導体、その製造法及びその用途 - Google Patents
ピリミジノン誘導体、その製造法及びその用途Info
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- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は新規ピリミジノン誘導体に関する。
きらに詳しくは、この発明は薬理活性を有する新規ピリ
ミジノン誘導体およびその塩、その製造法、それを含有
する医薬組成物に関する。
ミジノン誘導体およびその塩、その製造法、それを含有
する医薬組成物に関する。
従って、この発明の1つの目的は新規かつ有用なピリミ
ジノン誘導体およびその塩を提供することである。
ジノン誘導体およびその塩を提供することである。
この発明の別の目的は該ピリミジノン誘導体およびその
塩の製造法を提供することである。
塩の製造法を提供することである。
この発明のさらにもう1つの目的は前記ピリミジノン誘
導体またはその塩を含有する医薬組成物を強心剤および
抗アレルギー剤として提供することである。
導体またはその塩を含有する医薬組成物を強心剤および
抗アレルギー剤として提供することである。
この発明のピリミジノン誘導体は新規であり、下記の一
般式(I ) :) 〔式中、R’およびR1はそれぞれ低級アルキル、低級
アルコキシカルボニル(低級)アルキル、カルボキシ(
低級)アルキルまたはジ(低級)アルキルアミノ(低級
)アルキル、R8およびR4はそれぞれヒドロキシ、低
級アルコキシ、ハロ(低級)アルコキシ、低級アルキル
チオ、低級アルカンスルフィニル、低級アルカンスルホ
ニル、ニトロ、アミン、ジ(低級)アルカンスルホニル
アミノ、低級アルコキシカルボニル(低級)アルコキシ
またはカルボキシ(低級)アルコキシ、または互いに結
合して低級アルキレンジオキシまたは低級アルキリデン
ジオキシを形成する基5R6は低級アルキルおよび/ま
たはスルファモイルで置換されていてもよいアリール;
R”は水素またはスルファモイル(但し、R’およびR
1がともに低級アルキルであり R8およびR′が低級
アルコキシである場合には、Rleはスルファモイル)
である〕で示きれる。
般式(I ) :) 〔式中、R’およびR1はそれぞれ低級アルキル、低級
アルコキシカルボニル(低級)アルキル、カルボキシ(
低級)アルキルまたはジ(低級)アルキルアミノ(低級
)アルキル、R8およびR4はそれぞれヒドロキシ、低
級アルコキシ、ハロ(低級)アルコキシ、低級アルキル
チオ、低級アルカンスルフィニル、低級アルカンスルホ
ニル、ニトロ、アミン、ジ(低級)アルカンスルホニル
アミノ、低級アルコキシカルボニル(低級)アルコキシ
またはカルボキシ(低級)アルコキシ、または互いに結
合して低級アルキレンジオキシまたは低級アルキリデン
ジオキシを形成する基5R6は低級アルキルおよび/ま
たはスルファモイルで置換されていてもよいアリール;
R”は水素またはスルファモイル(但し、R’およびR
1がともに低級アルキルであり R8およびR′が低級
アルコキシである場合には、Rleはスルファモイル)
である〕で示きれる。
この発明の目的化合物CI)およびその塩は下記の製造
法により製造することができる。
法により製造することができる。
またはその塩 またはその基部1目
虹−ス [Ia ] [Ib ]またはその塩
またはその塩聚産迭−1 またはその塩 またはその塩[V]
[I] またはそのチオキソ またはその塩基にお
ける反応性誘 導体またはその塩 またはその塩 またはその基部造法
6 [■] [Ifコ またはその塩 またはその塩または
その塩 またはその塩製造法 8 [Ig’ コ [Ih]または
その塩 またはその基部造法 9 またはその塩 またはその基部造法
10 [Ij コ [Ik]またはその塩
またはその基部造法 11 またはその塩 またはその基部造法
12 製造法 13 またはその塩 またはその基部造法
14 [Ia コ [Io ]ま
たはその塩 またはその塩〔上記製
造法)式中、R1,Rt、R”、R’、R6およびRt
6はそれぞれ前記に同c 、 R,”は低級アルフキジ
カルボニル(低級)アルキルまたはジ(低級)アルキル
アミノ(低級)アルキル;Rtは低級アルコキシカルボ
ニル(低級)アルキル;R;はカルボキシ(低級)アル
キル;R:は低級アルキルチオ;Rtは低級アルカンス
ルフィニルまたは低級アルカンスルホニル;R;はジ(
低級)アルカンスルホニルアミノ;R;は低級アルコキ
シ;R=は低級アルコキシカルボニル(低級)アルフキ
シ:R二は低級カルボキシ(低級)アルコキン;R4は
低級アルキルで置換されていてもよいアリール;Rtは
低級アルキルおよびスルファモイルで置換されていても
よいアリール;R8およびR7はそれぞれ低級アルキル
;R@およびR1はそれぞれ水素または低級アルキル、
R”は低級アルコキシカルボニル(低級)アルキル、R
1!はハロ(低級)アルキル;Xは脱離基;Yは低級ア
ルキレンまたは低級アルキリデンである]。
虹−ス [Ia ] [Ib ]またはその塩
またはその塩聚産迭−1 またはその塩 またはその塩[V]
[I] またはそのチオキソ またはその塩基にお
ける反応性誘 導体またはその塩 またはその塩 またはその基部造法
6 [■] [Ifコ またはその塩 またはその塩または
その塩 またはその塩製造法 8 [Ig’ コ [Ih]または
その塩 またはその基部造法 9 またはその塩 またはその基部造法
10 [Ij コ [Ik]またはその塩
またはその基部造法 11 またはその塩 またはその基部造法
12 製造法 13 またはその塩 またはその基部造法
14 [Ia コ [Io ]ま
たはその塩 またはその塩〔上記製
造法)式中、R1,Rt、R”、R’、R6およびRt
6はそれぞれ前記に同c 、 R,”は低級アルフキジ
カルボニル(低級)アルキルまたはジ(低級)アルキル
アミノ(低級)アルキル;Rtは低級アルコキシカルボ
ニル(低級)アルキル;R;はカルボキシ(低級)アル
キル;R:は低級アルキルチオ;Rtは低級アルカンス
ルフィニルまたは低級アルカンスルホニル;R;はジ(
低級)アルカンスルホニルアミノ;R;は低級アルコキ
シ;R=は低級アルコキシカルボニル(低級)アルフキ
シ:R二は低級カルボキシ(低級)アルコキン;R4は
低級アルキルで置換されていてもよいアリール;Rtは
低級アルキルおよびスルファモイルで置換されていても
よいアリール;R8およびR7はそれぞれ低級アルキル
;R@およびR1はそれぞれ水素または低級アルキル、
R”は低級アルコキシカルボニル(低級)アルキル、R
1!はハロ(低級)アルキル;Xは脱離基;Yは低級ア
ルキレンまたは低級アルキリデンである]。
出発化合物のうち、化合物[V]の一部は新規であり、
下記の製造法により製造することができる。
下記の製造法により製造することができる。
製造法A
またはそのカルホキ またはその塩シ基における
反応性 誘導体またはその塩 製造法B [上記製造法の式中、旧およびRiはそれぞれ低級アル
キル;R:は低級アルキルチオまたはニトロ;Rtは低
級アルコキシであるコ。
反応性 誘導体またはその塩 製造法B [上記製造法の式中、旧およびRiはそれぞれ低級アル
キル;R:は低級アルキルチオまたはニトロ;Rtは低
級アルコキシであるコ。
この明細書の以上および以下の記載において、この発明
の範囲に包含きれる種々の定義の適切な例および説明を
以下詳細に述べる: 「低級」とは、特に指示がない限り、1〜6個の炭素原
子を意味するものとする。
の範囲に包含きれる種々の定義の適切な例および説明を
以下詳細に述べる: 「低級」とは、特に指示がない限り、1〜6個の炭素原
子を意味するものとする。
R1、R1、R′a、 RS、R6、R7、Rsおよび
R9で示される低級アルキルの好適な例としては、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル等の直鎖または
分枝鎖状アルキルが挙げられる。
R9で示される低級アルキルの好適な例としては、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル等の直鎖または
分枝鎖状アルキルが挙げられる。
1低級アルコキシカルボニル(低級)アルキル1、rカ
ルボキル(低級)アルキル」、「ジ(低級)アルキルア
ミノ(低級)アルキル」、「低級アルキチオ」、′低級
アルカンスルフィニルa、’低級アルカンスルホニル」
、「ハロ(低級)アルキル」および1低級アルキルで置
換されていてもよいアリール」における1低級アルキル
、部分の好適な例としては、上記に示したようなものが
挙げられる。
ルボキル(低級)アルキル」、「ジ(低級)アルキルア
ミノ(低級)アルキル」、「低級アルキチオ」、′低級
アルカンスルフィニルa、’低級アルカンスルホニル」
、「ハロ(低級)アルキル」および1低級アルキルで置
換されていてもよいアリール」における1低級アルキル
、部分の好適な例としては、上記に示したようなものが
挙げられる。
「低級アルコキシカルボニル(低級)アルキル、および
「低級アルコキシカルボニル(低級)アルコキシ」にお
ける「低級アルコキシカルボニル1部分の好適な例とし
ては、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロ
ポキシカルボニル、インプロポキシカルボニル、ブトキ
シカルボニル、t−ブトキシカルボニル、ペンチルオキ
シカルボニル、ヘキシルオキシカフレボニル等の2〜7
個の炭素原子を有するものが挙げられる。
「低級アルコキシカルボニル(低級)アルコキシ」にお
ける「低級アルコキシカルボニル1部分の好適な例とし
ては、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロ
ポキシカルボニル、インプロポキシカルボニル、ブトキ
シカルボニル、t−ブトキシカルボニル、ペンチルオキ
シカルボニル、ヘキシルオキシカフレボニル等の2〜7
個の炭素原子を有するものが挙げられる。
「ハロ(低級)アルコキシ4、「低級アルコキシカルボ
ニル(低級)アルコキシ」および1カルボキシ(低級)
アルコキシ」における「低級アルルコキシ」および「低
級アルコキシ」部分の好適な例としては、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、イソフプロボキシ、ブトキシ、t
−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等が挙げ
られる。
ニル(低級)アルコキシ」および1カルボキシ(低級)
アルコキシ」における「低級アルルコキシ」および「低
級アルコキシ」部分の好適な例としては、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、イソフプロボキシ、ブトキシ、t
−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等が挙げ
られる。
「ジ(低級)アルカンスルホニルアミノ」の好適な例と
しては、ジメタンスルホニルアミン、ジメタンスルホニ
ルアミン、ジブタンスルホニルアミノ、ジブタンスルホ
ニルアミノ、ジペンタンスルホニルアミノ、ジブタンス
ルホニルアミノ等が挙げられる。
しては、ジメタンスルホニルアミン、ジメタンスルホニ
ルアミン、ジブタンスルホニルアミノ、ジブタンスルホ
ニルアミノ、ジペンタンスルホニルアミノ、ジブタンス
ルホニルアミノ等が挙げられる。
「ハロ(低級)アルコキシ、の好適な例としては、「モ
ノハロ(低級)アルコキシ、(例えば、クロロメトキシ
、ブロモメトキシ、フルオロメトキシ、等、」「ジハロ
(低級)アルコキシ」(例えば、ジクロロメトキシ、ジ
ブロモメトキシ、ジクロロメトキシ、等)、「トリハロ
(低級)アルコキシ、(例えば、トリクロロメトキシ、
トリブロモメトキシ、トリフルオロメトキシ、トリフル
オロエトキシ、等、)等が挙げ牧れる。 「ハロ(低
級)アルキル」の好適な例としては、「モノハロ(低級
)アルキル」(例えば、クロロメチル、ブロモメチル、
フルオロメチル、4I、)rジハロ(低級)アルキルj
(例えば、ジクロロメチル、ジブロモメチル、ジフルオ
ロメチル、等)、′トリハロ(低級)アルキル」(例え
ば、トリクロロメチル、トリブロモメチル、トリフルオ
ロメチル、トリフルオロエチル、等)等;6(挙げられ
る。
ノハロ(低級)アルコキシ、(例えば、クロロメトキシ
、ブロモメトキシ、フルオロメトキシ、等、」「ジハロ
(低級)アルコキシ」(例えば、ジクロロメトキシ、ジ
ブロモメトキシ、ジクロロメトキシ、等)、「トリハロ
(低級)アルコキシ、(例えば、トリクロロメトキシ、
トリブロモメトキシ、トリフルオロメトキシ、トリフル
オロエトキシ、等、)等が挙げ牧れる。 「ハロ(低
級)アルキル」の好適な例としては、「モノハロ(低級
)アルキル」(例えば、クロロメチル、ブロモメチル、
フルオロメチル、4I、)rジハロ(低級)アルキルj
(例えば、ジクロロメチル、ジブロモメチル、ジフルオ
ロメチル、等)、′トリハロ(低級)アルキル」(例え
ば、トリクロロメチル、トリブロモメチル、トリフルオ
ロメチル、トリフルオロエチル、等)等;6(挙げられ
る。
Yで示される低級アルキレン基の好適な例としては、メ
チレン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペ
ンタメチレン、ヘキサメチレン、プロピレン、エチルエ
チレン、プロピルエチレン、イソプロピルエチレン、メ
チルペンタメチレン等の直鎖または分校鎖状のアルキレ
ン基が挙げげられる。
チレン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペ
ンタメチレン、ヘキサメチレン、プロピレン、エチルエ
チレン、プロピルエチレン、イソプロピルエチレン、メ
チルペンタメチレン等の直鎖または分校鎖状のアルキレ
ン基が挙げげられる。
R3とR1により形成される低級アルキレンジオキシは
式’−0−(低級)アルキレン−OJ[式中、低級アル
キレン部分は前記で示したようなものが挙げられる]に
より示きれる基である。
式’−0−(低級)アルキレン−OJ[式中、低級アル
キレン部分は前記で示したようなものが挙げられる]に
より示きれる基である。
Yで示きれる低級アルキリデン基の好適な例としては、
メチレン、エチリデン、プロピリデン、インプロピリデ
ン、ブチリデン、5eC−ブチリデン、イソブチリデン
、ヘキシリデン、イソへキシリデン、等が挙げられる。
メチレン、エチリデン、プロピリデン、インプロピリデ
ン、ブチリデン、5eC−ブチリデン、イソブチリデン
、ヘキシリデン、イソへキシリデン、等が挙げられる。
R3およびR4によって形成きれる低級アルキリ[式中
、低級アルキリデン部分は、前記で示したようなものが
、挙げられる]により示される基である。
、低級アルキリデン部分は、前記で示したようなものが
、挙げられる]により示される基である。
アリール基の好適な例としては、フェニル、ナフチル、
等が挙げられ、これらアリール基は1個以上の前記低級
アルキル基および/またはスルファモイルで適宜置換さ
れていてもよい。
等が挙げられ、これらアリール基は1個以上の前記低級
アルキル基および/またはスルファモイルで適宜置換さ
れていてもよい。
そのような置換基を有するアリール基の好適な例として
は、p−トリル、0−トリ11m−トリル、4−エチル
フェニル、4−へキシルフェニJ’ s 2.6−ジメ
チルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、キシリJ呟
メシチル(2,4,6−トリメチルフエニル)、3−
スルファモイル−2,4゜6−トリメチルフエニル、3
−スルファモイル−2,6−ジメチルフェニル、4−ス
ルファモイル、2.3−ジメチルフェニル、3−スルフ
ァモイル−2−メチルフェニル、4−スルファモイル−
3−メチルフェニル、等が挙げられる。
は、p−トリル、0−トリ11m−トリル、4−エチル
フェニル、4−へキシルフェニJ’ s 2.6−ジメ
チルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、キシリJ呟
メシチル(2,4,6−トリメチルフエニル)、3−
スルファモイル−2,4゜6−トリメチルフエニル、3
−スルファモイル−2,6−ジメチルフェニル、4−ス
ルファモイル、2.3−ジメチルフェニル、3−スルフ
ァモイル−2−メチルフェニル、4−スルファモイル−
3−メチルフェニル、等が挙げられる。
Xで示きれる脱離基の好適な例としては、ハロゲン化物
(例えば、塩化物、臭化物、ヨウ化物、等)、硫酸塩(
例えば、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、
トルエンスルホン酸塩、等)等が挙げられる。
(例えば、塩化物、臭化物、ヨウ化物、等)、硫酸塩(
例えば、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、
トルエンスルホン酸塩、等)等が挙げられる。
目的化合物[I]の好適な塩は、慣用の無毒性塩であり
、アルカリ金属塩[例えば、ナトリウム塩、カリウム塩
、等コおよびアルカリ土類金属塩[例えば、カルシウム
塩、マグネシウム塩、等]のような金属塩、アンモニウ
ム塩、有機塩基塩[例えば、トリメチルアミン塩、トリ
エチルアミン塩、ピリジン塩、ビフリン塩、ジシクロヘ
キシルアミン塩、N、N’−ジベンジルエチレンジアミ
ン塩、等]、有機酸塩[例えば、ギ酸塩、酢酸塩、トリ
フルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスル
ホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸 塩、等]、無機酸塩[例えば、塩酸塩、臭化水素酸塩、
硫酸塩、りん酸塩、等]、アミノ酸との塩[例えば、ア
ルギニン塩、オルニチン塩、等コ等が挙げられる。
、アルカリ金属塩[例えば、ナトリウム塩、カリウム塩
、等コおよびアルカリ土類金属塩[例えば、カルシウム
塩、マグネシウム塩、等]のような金属塩、アンモニウ
ム塩、有機塩基塩[例えば、トリメチルアミン塩、トリ
エチルアミン塩、ピリジン塩、ビフリン塩、ジシクロヘ
キシルアミン塩、N、N’−ジベンジルエチレンジアミ
ン塩、等]、有機酸塩[例えば、ギ酸塩、酢酸塩、トリ
フルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスル
ホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸 塩、等]、無機酸塩[例えば、塩酸塩、臭化水素酸塩、
硫酸塩、りん酸塩、等]、アミノ酸との塩[例えば、ア
ルギニン塩、オルニチン塩、等コ等が挙げられる。
この点において、化合物[1a]〜 [Iolは化合物
[I]の範囲に包含きれるので、これら化合物[1a]
〜 [Iolの好適な塩としては、上記目的化合物[I
]について例示したものを参照することができる。
[I]の範囲に包含きれるので、これら化合物[1a]
〜 [Iolの好適な塩としては、上記目的化合物[I
]について例示したものを参照することができる。
目的化合物[I]およびその塩の製造法を下記に詳細に
説明する。
説明する。
1盗並ユ
目的化合物[1alまたはその塩は、化合物[I[]ま
たはその塩をRaおよびR7の低級アルキル基の開裂反
応に付すことにより製造できる。
たはその塩をRaおよびR7の低級アルキル基の開裂反
応に付すことにより製造できる。
化合物[I[]の好適な塩としては化合物[I]で例示
したものと同じものが挙げられる。
したものと同じものが挙げられる。
この反応は通常、開裂試薬の存在下に行われる。
好適な開裂試薬の例としては、三ハロゲン化ホウ素[例
えば、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、三ヨウ化ホウ素、
三フッ化ホウ素、ミフツ化ホウ素エチルエーテル錯化合
物等コ、四ハロゲン化チタン[例えば、四塩化チタン等
コ、四ハロゲン化錫[例えば、四臭化錫等コ、ハロゲン
化アルミニウム[例えば、塩化アルミニウム等コ、ハロ
ゲン化水素酸[例えば、臭化水素酸等]等のようなルイ
ス酸;上記のルイス酸とチオール化合物[例えば、メタ
ンチオール、エタンチオール、ベンゼンチオ−ノド等コ
との組合せ;シラン化合物[例えば、ヨードトリメチル
・シラン等];チオール酸化合物[例えば、エタンチオ
ール酸ナトリウム、ベンゼンチオール酸カリウム、チオ
クレゾール酸ナトリウム等];ハロゲン化水素[例えば
、塩化水素、臭化水素部コとの有機酸[例えば、トリフ
ルオロ酢酸、酢酸等]との混合酸等が挙げられる。
えば、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、三ヨウ化ホウ素、
三フッ化ホウ素、ミフツ化ホウ素エチルエーテル錯化合
物等コ、四ハロゲン化チタン[例えば、四塩化チタン等
コ、四ハロゲン化錫[例えば、四臭化錫等コ、ハロゲン
化アルミニウム[例えば、塩化アルミニウム等コ、ハロ
ゲン化水素酸[例えば、臭化水素酸等]等のようなルイ
ス酸;上記のルイス酸とチオール化合物[例えば、メタ
ンチオール、エタンチオール、ベンゼンチオ−ノド等コ
との組合せ;シラン化合物[例えば、ヨードトリメチル
・シラン等];チオール酸化合物[例えば、エタンチオ
ール酸ナトリウム、ベンゼンチオール酸カリウム、チオ
クレゾール酸ナトリウム等];ハロゲン化水素[例えば
、塩化水素、臭化水素部コとの有機酸[例えば、トリフ
ルオロ酢酸、酢酸等]との混合酸等が挙げられる。
この反応は通常、水、メタノール、エタノール、プロパ
ノーノ呟テトラヒドロフラン、ジオキサン、クロロホル
ム、塩化メチレン、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシドのような慣用の溶媒または反応に悪影響を及
ぼさないその他の有機溶媒中で行われる。
ノーノ呟テトラヒドロフラン、ジオキサン、クロロホル
ム、塩化メチレン、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシドのような慣用の溶媒または反応に悪影響を及
ぼさないその他の有機溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定されず、反応は冷却ないし加熱下に
行われる。
行われる。
鉦盗豊盈
目的化合物[Ib]またはその塩は、化合物[!a]ま
たはその塩と化合物[11r]とを反応きせることによ
り製造することができ長。
たはその塩と化合物[11r]とを反応きせることによ
り製造することができ長。
この反応は、アルカリ金属水素化物[例えば、水素化ナ
トリウム、水素化カリウム等]、アルカリ土類金属水素
化物[例えば、水素化カルシウム、水素化マグネシウム
等]、アルカリ金属水酸化物[例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等コ、ア?レカリ金属炭酸塩[例え
ば、jI!酸ナトリウム、炭酸カリウム等]、アルカリ
金属炭酸水素塩[例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウム等]、アルカリ金属フッ化物[例えば、フッ
化カリウム、フッ化セシウム等コ、アルカリ金属アルコ
キシド[例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、カリウムt−ブト上91等コ等の塩基の存在
下に行うことが好ましい。
トリウム、水素化カリウム等]、アルカリ土類金属水素
化物[例えば、水素化カルシウム、水素化マグネシウム
等]、アルカリ金属水酸化物[例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等コ、ア?レカリ金属炭酸塩[例え
ば、jI!酸ナトリウム、炭酸カリウム等]、アルカリ
金属炭酸水素塩[例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウム等]、アルカリ金属フッ化物[例えば、フッ
化カリウム、フッ化セシウム等コ、アルカリ金属アルコ
キシド[例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、カリウムt−ブト上91等コ等の塩基の存在
下に行うことが好ましい。
この反応は通常、水、メタノール、エタノール、プロパ
ツール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニト
リル、塩化メチル、クロロホルム、ベンゼン、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシドのような慣用の溶
媒または反応に悪影響を及ぼさないその他の有機溶媒中
で行われる。これらの溶媒は、使用される出発化合物[
Ia]、化合物[1[]および塩基の種類に応じて適宜
選択することができる。化合物[I[[]が液体の場合
は、それを溶媒として用いることもできる。
ツール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニト
リル、塩化メチル、クロロホルム、ベンゼン、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシドのような慣用の溶
媒または反応に悪影響を及ぼさないその他の有機溶媒中
で行われる。これらの溶媒は、使用される出発化合物[
Ia]、化合物[1[]および塩基の種類に応じて適宜
選択することができる。化合物[I[[]が液体の場合
は、それを溶媒として用いることもできる。
反応温度は特に限定されず、反応は冷却ないし加熱下に
行われる。
行われる。
飯盟見1
目的化合物[Ic]またはその塩は、化合物[1a]ま
たはその塩と化合物[W]またはそのカルボニル基にお
ける反応性誘導体とを反応させることにより製造するこ
とができる。
たはその塩と化合物[W]またはそのカルボニル基にお
ける反応性誘導体とを反応させることにより製造するこ
とができる。
化合物[IV]のカルボニル基における反応性誘導体と
しては、アルデヒドアセタール誘導体、ケトンアセター
ル誘導体等が挙げられる。このような反応性誘導体の形
での化合物[W]の適当な例としては、ジメトキシメタ
ン、ジェトキシメタン、1.1−ジメトキシエタン、1
−エトキシ−1−メトキシエタン、2.2−ジメトキシ
プロパン、2.2−ジェトキシプロパン、2−エトキシ
−2−メトキシプロパン、2.2−ジメトキシブタン等
のようなジ(低級)アルコキシ置換低級アルカンが挙げ
られる。
しては、アルデヒドアセタール誘導体、ケトンアセター
ル誘導体等が挙げられる。このような反応性誘導体の形
での化合物[W]の適当な例としては、ジメトキシメタ
ン、ジェトキシメタン、1.1−ジメトキシエタン、1
−エトキシ−1−メトキシエタン、2.2−ジメトキシ
プロパン、2.2−ジェトキシプロパン、2−エトキシ
−2−メトキシプロパン、2.2−ジメトキシブタン等
のようなジ(低級)アルコキシ置換低級アルカンが挙げ
られる。
反応は、ハロゲン化水素酸[例えば、塩酸、臭化水素酸
等コ、スルホン酸[例えば、p−トルエンスルホン酸、
ベンゼンスルホン酸等]、ハロゲン化亜鉛[例えば、塩
化亜鉛等j、四ハロゲン化錫「例えば、四塩化銀等]、
ハロゲン化第二鉄[例えば、塩化第二鉄等]1.カチオ
ン交換樹脂(酸型)[例えば、スルホン化ポリスチレン
樹脂等コ等の触媒の存在下に行うことが好ましい。
等コ、スルホン酸[例えば、p−トルエンスルホン酸、
ベンゼンスルホン酸等]、ハロゲン化亜鉛[例えば、塩
化亜鉛等j、四ハロゲン化錫「例えば、四塩化銀等]、
ハロゲン化第二鉄[例えば、塩化第二鉄等]1.カチオ
ン交換樹脂(酸型)[例えば、スルホン化ポリスチレン
樹脂等コ等の触媒の存在下に行うことが好ましい。
反応は、脱水剤[例えば、無水硫酸マグネシウム、無水
塩化亜鉛、五酸化リン、無水硫酸鋼、ゼオライト、シリ
カゲル等コの存在下に、共沸脱水のような脱水条件下で
行うこともできる。
塩化亜鉛、五酸化リン、無水硫酸鋼、ゼオライト、シリ
カゲル等コの存在下に、共沸脱水のような脱水条件下で
行うこともできる。
この反応は通常、メタノーノ呟エタノール、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、クロロホルム、
ベンゼン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ドのような慣用の溶媒または反応に悪影響を及ぼさない
その他の有機溶媒中で行われる。
ロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、クロロホルム、
ベンゼン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ドのような慣用の溶媒または反応に悪影響を及ぼさない
その他の有機溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定されず、反応は冷却ないし加熱下に
行われる。
行われる。
製造法4
目的化合物CI]またはその塩は、化合物[V]または
そのチオキソ基における反応性誘導体と化合物[VI]
またはその塩とを反応させることにより製造することが
できる。
そのチオキソ基における反応性誘導体と化合物[VI]
またはその塩とを反応させることにより製造することが
できる。
化合物[V]および[W]の好適な塩としては、化合物
[I]で例示したものを挙げることができる。
[I]で例示したものを挙げることができる。
化合物[V]のチオキソ基における好適な反応性誘導体
としては、S−アルキル誘導体[例えば、S−メチル誘
導体、S−エチル誘導体、S−オクチル誘導体等]、S
−アル(低級)アルキル誘導体[例えば、S−ベンジル
誘導体等]等が挙げられる。これらの反応性誘導体は、
化合物[V]またはその塩をアルキルハロゲン化物[例
えば、ヨウ化メチノ呟ヨウ化エチル、臭化オクチル等]
、アル(低級)アルキルハロゲン化物[例えば、塩化ベ
ンジル、臭化ベンジル等]等のアルキル化剤とを反応さ
せることにより製造することができる。
としては、S−アルキル誘導体[例えば、S−メチル誘
導体、S−エチル誘導体、S−オクチル誘導体等]、S
−アル(低級)アルキル誘導体[例えば、S−ベンジル
誘導体等]等が挙げられる。これらの反応性誘導体は、
化合物[V]またはその塩をアルキルハロゲン化物[例
えば、ヨウ化メチノ呟ヨウ化エチル、臭化オクチル等]
、アル(低級)アルキルハロゲン化物[例えば、塩化ベ
ンジル、臭化ベンジル等]等のアルキル化剤とを反応さ
せることにより製造することができる。
この反応は通常、メタノール、エタノール、プロパツー
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、
ジメチルホルムアミドのような慣用の溶媒または反応に
悪影響を及ぼさないその他の有機溶媒中で行われる。化
合物[VI]が液体の場合は、溶媒として用いることも
できる。
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、
ジメチルホルムアミドのような慣用の溶媒または反応に
悪影響を及ぼさないその他の有機溶媒中で行われる。化
合物[VI]が液体の場合は、溶媒として用いることも
できる。
反応温度は特に限定されず、反応は通常、室温もしくは
加温または加熱下に行われる。
加温または加熱下に行われる。
1逍珠1
化合物[Ie]またはその塩は、化合物[Id]または
その塩を酸化することにより製造することができる。
その塩を酸化することにより製造することができる。
この酸化反応は、例えば、m−クロロ過安息香酸、過安
息香酸、過酢酸、オゾン、過酸化水素、過ヨウ素酸等の
ような酸化剤を用いて−S−を−SO−または一5O8
−に転換する場合に用いられる常法により行うことがで
きる。
息香酸、過酢酸、オゾン、過酸化水素、過ヨウ素酸等の
ような酸化剤を用いて−S−を−SO−または一5O8
−に転換する場合に用いられる常法により行うことがで
きる。
この反応は通常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニ
トリル、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、塩化メ
チレン、酢酸ニブルのような溶媒または反応に悪影響を
及ぼさないその他の溶媒中で行うことができる。
トリル、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、塩化メ
チレン、酢酸ニブルのような溶媒または反応に悪影響を
及ぼさないその他の溶媒中で行うことができる。
反応温度は特に限定されず、反応は冷却下もしくは室温
で行うことが好ましい。
で行うことが好ましい。
反応の途中で−So−基を有する化合物および−SO,
−基を有する化合物が生じた場合、これら2つの化合物
は常法に従って分離することができる。
−基を有する化合物が生じた場合、これら2つの化合物
は常法に従って分離することができる。
製造法6
化合物[If]またはその塩は、化合物[■コまたはそ
の塩をスルファモイル基の導入反応に付すことにより製
造することができる。
の塩をスルファモイル基の導入反応に付すことにより製
造することができる。
化合物[■コの好適な塩としては、化合物[I]で例示
したものを挙げることができる。
したものを挙げることができる。
この反応は化合物[■コまたはその塩とスルファモイル
基導入剤とを反応きせて行うことができる。
基導入剤とを反応きせて行うことができる。
好適な導入剤としては、ハロスルホン酸(例えハ、クロ
ロスルホン酸、フロムスル*ン酸等)トアンモニアとの
組合せ等が挙げられる。
ロスルホン酸、フロムスル*ン酸等)トアンモニアとの
組合せ等が挙げられる。
反応は溶媒を用いても用いなくても行うことができる。
反応温度は特に限定きれないが、反応は冷却ないし加温
下に行うことが好ましい。
下に行うことが好ましい。
製造法7
化合物[Ig]またはその塩は、化合物[■コまたはそ
の塩と化合物[IX]を反応させて製造することができ
る。
の塩と化合物[IX]を反応させて製造することができ
る。
化合物[■コの好適な塩としては、化合物[I]で例示
したものを挙げることができる。
したものを挙げることができる。
反応は通常、N、N−ジメチルホルムアミド、アセトン
のような溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその他の
溶媒中で行われる。
のような溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその他の
溶媒中で行われる。
反応は製造法2で述べた塩基の存在下に行うことが好ま
しい。
しい。
反応温度は特に限定されないが、反応は冷却ないし加熱
下に行うことが好ましい。
下に行うことが好ましい。
毀産迭1
化合物[Ih]またはその塩は、化合物[Ig’]また
はその塩を加水分解反応に付すことにより製造すること
ができる。
はその塩を加水分解反応に付すことにより製造すること
ができる。
この加水分解反応は、化合物[Ig’]またはその塩を
塩基または酸と反応させて行うことができる。
塩基または酸と反応させて行うことができる。
好適な塩基としては、アルカリ金属(例えば、ナトリウ
ム、カリウム等)、アルカリ土類金属(例えば、マグネ
シウム、カルシウム等)、これらの水酸化物または炭酸
塩あるいは炭酸水素塩、トリアルキルアミン(例えば、
トリメチルアミン、トリエチルアミン等)、ピコリン、
1.5−ジアザビシクロ[4,3,0]]ノンー5−エ
ン1.4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン、1
.5−ジアザビシクロ[5,4,Oコランデセン−5等
の無機塩基および有機塩基が挙げられる。
ム、カリウム等)、アルカリ土類金属(例えば、マグネ
シウム、カルシウム等)、これらの水酸化物または炭酸
塩あるいは炭酸水素塩、トリアルキルアミン(例えば、
トリメチルアミン、トリエチルアミン等)、ピコリン、
1.5−ジアザビシクロ[4,3,0]]ノンー5−エ
ン1.4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン、1
.5−ジアザビシクロ[5,4,Oコランデセン−5等
の無機塩基および有機塩基が挙げられる。
好適な酸としては、有機酸(例えば、ギ酸、酢酸、プロ
ピオン酸、トリフルオロ酢酸等)および無機塩(例えば
、塩酸、臭化水素酸、6A酸等)が挙げられる。
ピオン酸、トリフルオロ酢酸等)および無機塩(例えば
、塩酸、臭化水素酸、6A酸等)が挙げられる。
反応は通常、水、アルコール(例えば、メタノール、エ
タノール等)のような溶媒またはこれらの混合物あるい
は反応に悪影響を及ぼさないその他の溶媒中で行われる
。液体塩基または酸は溶媒として用いることもできる。
タノール等)のような溶媒またはこれらの混合物あるい
は反応に悪影響を及ぼさないその他の溶媒中で行われる
。液体塩基または酸は溶媒として用いることもできる。
反応温度は特に限定されず、反応は通常、冷却ないし加
温下に行われる。
温下に行われる。
製造法9
化合物[Ijlまたはその塩は、化合物[Ii]または
その塩を還元して製造することができる。
その塩を還元して製造することができる。
この反応に用いることができる還元法としては、例犬ば
、金属(例えば、亜鉛、亜鉛アマルガム等)またはクロ
ム化合物の塩(例えば、塩化クロム、酢酸クロム等)と
有機または無機酸(例えば、酢酸、プロピオン酸、塩酸
等)との組合せを用いる還元、慣用の金属触媒(例えば
、パラジウム−炭素、ラネーニッケル等)の存在下での
接触還元、アルカリ金属水素化ホウ素(例えば、水素化
ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム等)を用いる
還元等が挙げられる。
、金属(例えば、亜鉛、亜鉛アマルガム等)またはクロ
ム化合物の塩(例えば、塩化クロム、酢酸クロム等)と
有機または無機酸(例えば、酢酸、プロピオン酸、塩酸
等)との組合せを用いる還元、慣用の金属触媒(例えば
、パラジウム−炭素、ラネーニッケル等)の存在下での
接触還元、アルカリ金属水素化ホウ素(例えば、水素化
ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム等)を用いる
還元等が挙げられる。
この還元の反応条件は、常法と同じである。
製造法10
化合物[Ik]またはその塩は、化合物[Ijlまたは
その塩をアルカンスルホニル化反応に付′4ことにより
製造することができる。
その塩をアルカンスルホニル化反応に付′4ことにより
製造することができる。
この反応は化合物[Ijlまたはその塩をアルカンスル
ホニル化剤と反応させて行うことができる。
ホニル化剤と反応させて行うことができる。
好適なアルカンスルホニル化剤としては、式R”−3O
sH(式中、Rlsは低級アルキルである)で表わされ
る低級アルカンスルホン酸およびそのスルホ基における
反応性誘導体が挙げられる。
sH(式中、Rlsは低級アルキルである)で表わされ
る低級アルカンスルホン酸およびそのスルホ基における
反応性誘導体が挙げられる。
スルホ基における好適な反応性誘導体としては、酸ハロ
ゲン化物(例えば、酸塩化物、酸臭化物等)、酸無水物
、活性化エステル、活性化アミド等が挙げられる。
ゲン化物(例えば、酸塩化物、酸臭化物等)、酸無水物
、活性化エステル、活性化アミド等が挙げられる。
反応は通常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ノ呟クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テト
ラヒドロフラン、酢酸エチル、N、N−ジメチルホルム
アミド、ピリジンのような慣用の溶媒または反応に悪影
響を及ぼさないその他の有機溶媒中で行われる。これら
の溶媒の中で、親水性溶媒は水と混合して用いてもよい
。
ノ呟クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テト
ラヒドロフラン、酢酸エチル、N、N−ジメチルホルム
アミド、ピリジンのような慣用の溶媒または反応に悪影
響を及ぼさないその他の有機溶媒中で行われる。これら
の溶媒の中で、親水性溶媒は水と混合して用いてもよい
。
低級アルカンスルホン酸を遊離酸の形で反応に用いる場
合、反応はN、N−ジシクロへキシルカルボジイミド;
オキシ塩化リン;三塩化リン;五塩化リン;塩化チオニ
ル;塩化オキサリル;1−(P−’70口ベンゼンスル
ホニル才キシ)−6−クロロ−IH−ベンゾトリアゾー
ル;例えば、ジメチルホルムアミドを塩化チオニルまた
はホスゲンと反応させて製造した塩化(クロロメチレン
)ジメチルアンモニウムやジメチルホルムアミドをオキ
シ塩化リンと反応させて製造した化合物等の所謂ビルス
マイヤー試薬等の慣用の縮合剤の存在下に行うことが好
ましい。
合、反応はN、N−ジシクロへキシルカルボジイミド;
オキシ塩化リン;三塩化リン;五塩化リン;塩化チオニ
ル;塩化オキサリル;1−(P−’70口ベンゼンスル
ホニル才キシ)−6−クロロ−IH−ベンゾトリアゾー
ル;例えば、ジメチルホルムアミドを塩化チオニルまた
はホスゲンと反応させて製造した塩化(クロロメチレン
)ジメチルアンモニウムやジメチルホルムアミドをオキ
シ塩化リンと反応させて製造した化合物等の所謂ビルス
マイヤー試薬等の慣用の縮合剤の存在下に行うことが好
ましい。
反応は上記に例示したような無機または有機塩基の存在
下に行ってもよい。
下に行ってもよい。
反応温度は特に限定されないが、反応は室温もしくは加
温あるいは加熱下に行うことが好ましい。
温あるいは加熱下に行うことが好ましい。
叡】I虹L1
化合物[11]またはその塩は、化合物[Ia]または
その塩をアルキル化反応に付すことにより製造すること
ができる。
その塩をアルキル化反応に付すことにより製造すること
ができる。
このアルキル化反応に使用されるアルキル化剤としては
、ジ(低級)アルキル硫酸塩(例えば、ジメチル硫酸塩
、ジエチル硫酸塩等)、ジアゾ(低級)アルカン(例え
ば、ジアゾメタン、ジアゾエタン等)、低級アルキルハ
ロゲン化物(例えば、ヨウ化メチノ呟ヨウ化エチル等)
、低級アルキルスルホン酸塩(例えば、P−トルエンス
ルホン酸メチル等)等が挙げられる。
、ジ(低級)アルキル硫酸塩(例えば、ジメチル硫酸塩
、ジエチル硫酸塩等)、ジアゾ(低級)アルカン(例え
ば、ジアゾメタン、ジアゾエタン等)、低級アルキルハ
ロゲン化物(例えば、ヨウ化メチノ呟ヨウ化エチル等)
、低級アルキルスルホン酸塩(例えば、P−トルエンス
ルホン酸メチル等)等が挙げられる。
シ((ffia)アルキル硫酸塩または低級アルキルハ
ロゲン化物あるいは低級アルキルスルホン酸塩を用いる
反応は通常、水、アセトン、エタノール、エーテル、ジ
メチルホルムアミドのような溶媒または反応に悪影響を
及ぼさないその他の溶媒中で行われる。この反応は前記
の無機塩基または有機塩基のような塩基の存在下に行う
ことが好ましい。反応温度は特に限定されず、反応は通
常、冷却ないし溶媒の沸点あたりの加熱下に行われる。
ロゲン化物あるいは低級アルキルスルホン酸塩を用いる
反応は通常、水、アセトン、エタノール、エーテル、ジ
メチルホルムアミドのような溶媒または反応に悪影響を
及ぼさないその他の溶媒中で行われる。この反応は前記
の無機塩基または有機塩基のような塩基の存在下に行う
ことが好ましい。反応温度は特に限定されず、反応は通
常、冷却ないし溶媒の沸点あたりの加熱下に行われる。
ジアゾアルカンを用いる反応は通常、エーテルまたはテ
トラヒドロフラン等の溶媒中で行われる。
トラヒドロフラン等の溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定されず、反応は通常、冷却下もしく
は室温で行われる。
は室温で行われる。
級菫迭ユ1
化合物[1m]またはその塩は、化合物[11]または
その塩と化合物[x■]を反応させて製造することがで
きる。
その塩と化合物[x■]を反応させて製造することがで
きる。
この反応は製造法7と実質的に同じ方法で行うことがで
きる。
きる。
級産迭ユ1
化合物[In]またはその塩は、化合物[Im]または
その塩を加水分解反応に付すことにより製造することが
できる。
その塩を加水分解反応に付すことにより製造することが
できる。
この反応は製造法8と実質的に同じ方法で行うことがで
きる。
きる。
製3i[1±
化合物[Io]またはその塩は、化合物[Ia]または
その塩と化合物[Xコを反応きせることにより製造する
ことができる。
その塩と化合物[Xコを反応きせることにより製造する
ことができる。
反応は製造法2で述べた塩基の存在下に行うことが好ま
しい。
しい。
この反応は通常、水、メタノール、エタノール、プロパ
ツール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニト
リル、塩化メチレン、クロロホルム、ベンゼン、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシドのような慣用の
溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその他の有機溶媒
中で行われる。反応温度は特に限定されず、反応は通常
、冷却ないし加温下に行われる。
ツール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニト
リル、塩化メチレン、クロロホルム、ベンゼン、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシドのような慣用の
溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその他の有機溶媒
中で行われる。反応温度は特に限定されず、反応は通常
、冷却ないし加温下に行われる。
出発化合物[Va]またはその塩の製造法を下記に詳細
に譚明する。
に譚明する。
鉦産跋A
化合物[X、I[]またはその塩は、化合物[XI ]
またはそのカルボキシ基における反応性誘導体と化合物
[XI[]またはその塩を反応させることにより製造す
ることができる。
またはそのカルボキシ基における反応性誘導体と化合物
[XI[]またはその塩を反応させることにより製造す
ることができる。
化合物[x■]、[XIコおよび[XIIコの好適な塩
としては、化合物[I]で例示したものを挙げることが
できる。
としては、化合物[I]で例示したものを挙げることが
できる。
化合物[XI ]のカルボキシ基における好適な反応性
誘導体としては、エステル、酸ハロケン化物、酸無水物
等が挙げられるが、低級アルキルエステルが好ましい。
誘導体としては、エステル、酸ハロケン化物、酸無水物
等が挙げられるが、低級アルキルエステルが好ましい。
この反応は通常、水、メタノール、エタノール、プロパ
ツール、テトラリン、テトラヒドロフラン、ジオキサン
、クロロホルム、トルエン、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシドのような慣用の溶媒または反応に悪
影響を及ぼさないその他の有機溶媒中で行われる。
ツール、テトラリン、テトラヒドロフラン、ジオキサン
、クロロホルム、トルエン、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシドのような慣用の溶媒または反応に悪
影響を及ぼさないその他の有機溶媒中で行われる。
この反応は、無機酸[例えば、塩酸、硫酸、ポリリン酸
等]、有機酸[例えば、トリフルオロ酢酸、ベンゼンス
ルホン酸、トルエンスルホン酸等]等の酸の存在下に行
うことが好ましい。
等]、有機酸[例えば、トリフルオロ酢酸、ベンゼンス
ルホン酸、トルエンスルホン酸等]等の酸の存在下に行
うことが好ましい。
反応は脱水剤[例えば、硫酸マグネシウム、無水塩化亜
鉛、五酸化リン、ゼオライト、シリカゲル等]存在下で
、共沸脱水等の脱水条件下でも行うことができる。
鉛、五酸化リン、ゼオライト、シリカゲル等]存在下で
、共沸脱水等の脱水条件下でも行うことができる。
化合物[XI ]が遊離酸の形、またはその塩の形で使
用される場合、反応は慣用の縮合剤の存在下に行われる
ことが好ましい。
用される場合、反応は慣用の縮合剤の存在下に行われる
ことが好ましい。
反応温度は特に限定されず、反応は通常、室温もしくは
加温あるいは加熱下に行われる。
加温あるいは加熱下に行われる。
聚産迭1
化合物[Va]またはその塩は、化合物[XI[]また
はその塩と五硫化リンを反応させることにより製造する
ことができる。
はその塩と五硫化リンを反応させることにより製造する
ことができる。
この反応は通常、ベンゼン、トルエン、キシレン、ピリ
ジン、テトラヒドロフラン、ジオキサンのような慣用の
溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその他の有機溶媒
中で行われる。
ジン、テトラヒドロフラン、ジオキサンのような慣用の
溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその他の有機溶媒
中で行われる。
反応温度は特に限定されず、反応は通常、加温ないし加
熱下に行われる。
熱下に行われる。
新規ピリミジノン誘導体[I]およびその塩は強心作用
および抗アレルギー作用を有し、心疾患(例えば、心不
全、等)およびアレルギー疾患(例えば、喘息、等)の
治療に有用である。
および抗アレルギー作用を有し、心疾患(例えば、心不
全、等)およびアレルギー疾患(例えば、喘息、等)の
治療に有用である。
ピリミジノン誘導体[I]の薬理活性を示すため、ピリ
ミジノン誘導体[I]の代表的化合物の強心作用試験成
績および抗5R3−A試験成績を以下に示す。
ミジノン誘導体[I]の代表的化合物の強心作用試験成
績および抗5R3−A試験成績を以下に示す。
〔Lυ1敞良里
(1)試験方法;
雄雌の雑種犬をベントパルビタールナトリウム(35m
g/kg腹腔内投与)で麻酔した。動物は自発呼吸させ
た。左頚動脈を剥離し、ヘパリン処理した生理食塩液を
満したカテーテル(USCL #8F)を挿入し、左心
室に進めた。カテーテルは圧カドランスジューサー(日
本光電、MPU−0,5A)に接続して左心室圧を測定
し、この左心室圧からdp/ dt maxをアナロー
ブ計算により導いた。全身血圧測定のため、左大腿動脈
にカニユーレを挿入した。動脈拍動を用いて心拍計を作
動させた。別のカテーテルを右大腿静脈を介して大静脈
に設置し、薬物を注入した。全身血圧、左心室圧、dp
/dt maxおよび心拍数はポリグラフ(日本光電、
RJG−4008)に同時に記録した。
g/kg腹腔内投与)で麻酔した。動物は自発呼吸させ
た。左頚動脈を剥離し、ヘパリン処理した生理食塩液を
満したカテーテル(USCL #8F)を挿入し、左心
室に進めた。カテーテルは圧カドランスジューサー(日
本光電、MPU−0,5A)に接続して左心室圧を測定
し、この左心室圧からdp/ dt maxをアナロー
ブ計算により導いた。全身血圧測定のため、左大腿動脈
にカニユーレを挿入した。動脈拍動を用いて心拍計を作
動させた。別のカテーテルを右大腿静脈を介して大静脈
に設置し、薬物を注入した。全身血圧、左心室圧、dp
/dt maxおよび心拍数はポリグラフ(日本光電、
RJG−4008)に同時に記録した。
試験化合物は蒸留水(0、2ml/kg)またはジメチ
ルスルホキシド(0,04ml/kg)に溶解し、大腿
静脈に注射した。投与後のパラメータを投与前のパラメ
ータと比較した。
ルスルホキシド(0,04ml/kg)に溶解し、大腿
静脈に注射した。投与後のパラメータを投与前のパラメ
ータと比較した。
結果は次式により算出するdp/ dt wax変化(
dp/dtM、C,)率として表わした。
dp/dtM、C,)率として表わした。
(i)試験化合物:
1) 3.4−ジヒドロ−6−(3,4−ジヒドロキ
シフェニル)−1−エチル−3−メチル−4−(2,,
4,6−トリメチルフェニルイミノ)−2(IH)−ピ
リミジノン 2) 3.4−ジヒドロ−6−(4−メトキシ−3−
メチルスルホニルフェニル)−1,3=ジメチル−4−
(2,4,6−トリメチルフェニルイミノ)−2(IH
)−ピリミジノン (i)結果: 上記試験結果から明らかなように、この発明の目的化合
物[1,]は強心剤として有用である。
シフェニル)−1−エチル−3−メチル−4−(2,,
4,6−トリメチルフェニルイミノ)−2(IH)−ピ
リミジノン 2) 3.4−ジヒドロ−6−(4−メトキシ−3−
メチルスルホニルフェニル)−1,3=ジメチル−4−
(2,4,6−トリメチルフェニルイミノ)−2(IH
)−ピリミジノン (i)結果: 上記試験結果から明らかなように、この発明の目的化合
物[1,]は強心剤として有用である。
(2)抗5R8−A作用
(i)試験方法:
腹腔浸出細胞をグリコーゲン注入SDラットから得て、
タイロード液でlXl0’個/+++1に調整した。細
胞浮遊液1mlをインドメタシン(10gg/ ml
)および試験化合物と共に10分間培養し、さらに10
分間C;3−イオノフオア(A23187.1μg/m
l)と培養した。上清を遠心分離して集め、5R3−A
(アナフィラキシ−の遅反応物質)活性を、メピラミン
、アトロピンおよびメチセルギドの存在下での摘出モル
モット回腸の収縮活性として測定した。
タイロード液でlXl0’個/+++1に調整した。細
胞浮遊液1mlをインドメタシン(10gg/ ml
)および試験化合物と共に10分間培養し、さらに10
分間C;3−イオノフオア(A23187.1μg/m
l)と培養した。上清を遠心分離して集め、5R3−A
(アナフィラキシ−の遅反応物質)活性を、メピラミン
、アトロピンおよびメチセルギドの存在下での摘出モル
モット回腸の収縮活性として測定した。
結果は腹腔浸出細胞からの5R3−A合成または遊離の
抑制率として表わした。
抑制率として表わした。
(i)試験化合物:
3.4−ジヒドロ−6−(3,4−ジヒドロキシフェニ
ル)−1−エチル−3−メチル−4−(2,4,6−ト
リメチルフェニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン (i)結果: 抑制(%): 93% 上記試験結果から明らかなように、この発明の目的化合
物[I]は抗アレルギー剤として有用である。
ル)−1−エチル−3−メチル−4−(2,4,6−ト
リメチルフェニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン (i)結果: 抑制(%): 93% 上記試験結果から明らかなように、この発明の目的化合
物[I]は抗アレルギー剤として有用である。
治療用として、この発明の目的化合物[I]およびその
塩は、慣用の医薬製剤の形で、経口、非経口投与または
外用に適した有機または無機の固体状または液体賦形剤
のような慣用の医薬として許容し得る担体と混合して慣
用の医薬製剤の形で使用される。医薬製剤は顆粒、カブ
セノ呟錠剤、糖衣錠または坐剤等の固体状、または溶液
、懸濁液またはエマルジョン等の液体状とすることがで
きる。必要であれば、上記製剤に安定化剤、湿潤剤また
は乳化剤のような助剤、緩衝液またはその他一般に使用
される添加剤を含有させてもよい。
塩は、慣用の医薬製剤の形で、経口、非経口投与または
外用に適した有機または無機の固体状または液体賦形剤
のような慣用の医薬として許容し得る担体と混合して慣
用の医薬製剤の形で使用される。医薬製剤は顆粒、カブ
セノ呟錠剤、糖衣錠または坐剤等の固体状、または溶液
、懸濁液またはエマルジョン等の液体状とすることがで
きる。必要であれば、上記製剤に安定化剤、湿潤剤また
は乳化剤のような助剤、緩衝液またはその他一般に使用
される添加剤を含有させてもよい。
有効成分は通常、0 、01 mg/kg〜500 r
ng/ kgの単位投与量で1日1〜4回投与してもよ
い。しかし、上記投与量は患者の年齢、体重および状態
または投与方法により増減してもよい。
ng/ kgの単位投与量で1日1〜4回投与してもよ
い。しかし、上記投与量は患者の年齢、体重および状態
または投与方法により増減してもよい。
以下、製造例および実施例により、この発明をきらに詳
細に説明する。
細に説明する。
製造例1
4゛−メトキシ−3′−メチルチオベンゾ酢酸エチール
(3,5g)とN、N’−ジメチル尿素(1,26g)
との混合物にエタノール(0,4m1)と濃塩酸(1滴
)を加えた。混合物を減圧下120℃で4.5時間攪拌
し、150℃でさらに1時間攪拌した。生じた魂りを酢
酸エチルに溶かし、次酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し
た。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、シリカゲルクロ
マトグラフィにかけクロロホルムで溶出して、1.3−
ジメチル−6−(4−メトキシ−3−メチルチオフェニ
ル)−1,2,3,4−テトラヒドロピリミジン−2,
4−ジオン(1,06g)を得た。
(3,5g)とN、N’−ジメチル尿素(1,26g)
との混合物にエタノール(0,4m1)と濃塩酸(1滴
)を加えた。混合物を減圧下120℃で4.5時間攪拌
し、150℃でさらに1時間攪拌した。生じた魂りを酢
酸エチルに溶かし、次酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し
た。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、シリカゲルクロ
マトグラフィにかけクロロホルムで溶出して、1.3−
ジメチル−6−(4−メトキシ−3−メチルチオフェニ
ル)−1,2,3,4−テトラヒドロピリミジン−2,
4−ジオン(1,06g)を得た。
融点:14B−150℃
IR(ヌジョール): 1700,1055cm−’N
MR(CDC1,、δ)ニア、3−6.7(3H。
MR(CDC1,、δ)ニア、3−6.7(3H。
m)、5.65(IH,S)、3.83(3H。
S)、3.36(3H,S)、3.22(3H。
S)、2.41(3H,S)
製造例2
1.3−ジメチル−6−(4−メトキシ−3−メチルチ
オフェニル)−1,2,3,4−テトラヒドロピリミジ
ン−2,4−ジオン(6,5g)のピリジン(60ml
)懸濁液中に五硫化燐(4、95g)を加え、8時間還
流した。冷却後混合物を水(600ml)に注ぎ入れた
。沈殿を集め、風乾し、エタノール(150ml)と共
に2時間還流した。冷却後生じた沈殿をろ取し、エタノ
ールおよびジイソプロピルエーテルで洗浄し、1.3−
ジメチル−6−(4−メトキシ−3−メチルチオフェニ
ル)−1,2,3,4−テトラヒドロ−4−チオキソピ
リミジン−2−オン(5,47g)を得た。融点:17
4−176℃ IR(ヌジョール)’: 1080.1010cm−’
NMR(CDCIs、δ)ニア、3−6.8(3H。
オフェニル)−1,2,3,4−テトラヒドロピリミジ
ン−2,4−ジオン(6,5g)のピリジン(60ml
)懸濁液中に五硫化燐(4、95g)を加え、8時間還
流した。冷却後混合物を水(600ml)に注ぎ入れた
。沈殿を集め、風乾し、エタノール(150ml)と共
に2時間還流した。冷却後生じた沈殿をろ取し、エタノ
ールおよびジイソプロピルエーテルで洗浄し、1.3−
ジメチル−6−(4−メトキシ−3−メチルチオフェニ
ル)−1,2,3,4−テトラヒドロ−4−チオキソピ
リミジン−2−オン(5,47g)を得た。融点:17
4−176℃ IR(ヌジョール)’: 1080.1010cm−’
NMR(CDCIs、δ)ニア、3−6.8(3H。
m)、6.62(IH,S)、3.94(3H,S)3
.82(3H,S)、3.28(3H、S)、2.43
(3H,S) 製造例3 1.3−ジメチル−6−(4−メトキシフェニル)−1
,2,3,4−テトラヒドロピリミジン−2,4−ジオ
ン(4,4g)の酢酸(22ml)溶液中に濃硫酸(9
ml)および濃硝酸(18ml)を水冷下に加えた。混
合物を5−10°Cで1.5時間攪拌し、室温でさらに
2時間攪拌した。この混合物を氷水に注ぎ入れ、攪拌し
た。この水性混合物を水酸化ナトリウム水溶液で中和し
、得られた沈殿を濾取し、水で洗浄し、風乾して、1.
3−ジメチル−6−(4−メトキシ−3−ニトロフェニ
ル)−,1,2,3,4−テトラヒドロピリミジン−2
,4−ジオン(3,67g)を得た。
.82(3H,S)、3.28(3H、S)、2.43
(3H,S) 製造例3 1.3−ジメチル−6−(4−メトキシフェニル)−1
,2,3,4−テトラヒドロピリミジン−2,4−ジオ
ン(4,4g)の酢酸(22ml)溶液中に濃硫酸(9
ml)および濃硝酸(18ml)を水冷下に加えた。混
合物を5−10°Cで1.5時間攪拌し、室温でさらに
2時間攪拌した。この混合物を氷水に注ぎ入れ、攪拌し
た。この水性混合物を水酸化ナトリウム水溶液で中和し
、得られた沈殿を濾取し、水で洗浄し、風乾して、1.
3−ジメチル−6−(4−メトキシ−3−ニトロフェニ
ル)−,1,2,3,4−テトラヒドロピリミジン−2
,4−ジオン(3,67g)を得た。
融点:185−188℃
IR(ヌジョール):1710.1060cm−’NM
R(CDC1,、δ): 7.92(IH,d 。
R(CDC1,、δ): 7.92(IH,d 。
J−2Hz)、7.66(IH,dd、J=2Hz 、
J=9Hz)、7.35(IH,d 、J=9Hz)5
.73(IH,S)、4.06(3H,S”)、3.3
9(3H,S)、3.29(3H,S) 製造例4 製造例2と同様にして、下記の化合物を得た。
J=9Hz)、7.35(IH,d 、J=9Hz)5
.73(IH,S)、4.06(3H,S”)、3.3
9(3H,S)、3.29(3H,S) 製造例4 製造例2と同様にして、下記の化合物を得た。
1.3−ジメチル−6−(4−メトキシ−3−ニトロフ
ェニル)−1,2,3,4−テトラヒドロ−4−チオキ
ソピリミジン−2−オン 融点:198−203℃ IR(ヌジョール):1095.1030cm−’N
M R(D M S 0−da、δ):8.05(IH
,d。
ェニル)−1,2,3,4−テトラヒドロ−4−チオキ
ソピリミジン−2−オン 融点:198−203℃ IR(ヌジョール):1095.1030cm−’N
M R(D M S 0−da、δ):8.05(IH
,d。
J=2Hz)、7.82(IH,、dd、J=2Hz、
J=8Hz)、7.47(IH,d、J=8Hz)、6
.49(IH,S)、4.01(3H,S)、3.70
(3H,S)、3.19(3H,S) 製造例5 6−(3,4−ジメトキシフェニル)−1,3−ジメチ
ル−1,2,3,4−テトラヒドロピリミジン−2,4
−ジオン(2,0g)の酢酸(100ml)溶液中にN
−クロロコハク酸イミド(0,97g)を加え、混合物
を100°Cで5時間攪拌した。冷却後、反応混合物を
蒸発濃縮し残渣をクロロホルムに溶解させた。この溶液
を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を除去した後、生じた魂りをエタノ
ールから再結晶させて、5−クロロ−6−(3,4−ジ
メトキシフェニル)−1,3−ジメチル−1゜2.3.
4−テトラヒドロピリミジン−2,4−ジオン(1,7
9g)を得た。
J=8Hz)、7.47(IH,d、J=8Hz)、6
.49(IH,S)、4.01(3H,S)、3.70
(3H,S)、3.19(3H,S) 製造例5 6−(3,4−ジメトキシフェニル)−1,3−ジメチ
ル−1,2,3,4−テトラヒドロピリミジン−2,4
−ジオン(2,0g)の酢酸(100ml)溶液中にN
−クロロコハク酸イミド(0,97g)を加え、混合物
を100°Cで5時間攪拌した。冷却後、反応混合物を
蒸発濃縮し残渣をクロロホルムに溶解させた。この溶液
を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を除去した後、生じた魂りをエタノ
ールから再結晶させて、5−クロロ−6−(3,4−ジ
メトキシフェニル)−1,3−ジメチル−1゜2.3.
4−テトラヒドロピリミジン−2,4−ジオン(1,7
9g)を得た。
融点: 175−178℃
IR(ヌジョール):1720.1050cm−’NM
R(CDCl2.δ)ニア、2−6.7(3H。
R(CDCl2.δ)ニア、2−6.7(3H。
m)、3.94(3H,S)、3.89(3H。
S)、3.46(3H,S)、3.17(3H。
S)
表111よ
=臭化硼素(25g)の塩化メチレン(100ml)溶
液中に3.4−ジヒドロ−6−(3,4−ジメトキシフ
ェニル)−1−エチル−3−メチル−4−(2,4,6
−1−リメチルフェニルイミノ)−2(IH)−ピリミ
ジノン(to、17g)の塩化メチレン(300ml)
溶液を一70℃から一62℃で加えた。反応温度は3時
間の間に徐々に室温へ上げた。反応完了後、水(200
ml)を反応混合物に加えた。水層を水酸化ナトリウム
水溶液でpH5,5に調整した。有機層を水で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発濃縮した。
液中に3.4−ジヒドロ−6−(3,4−ジメトキシフ
ェニル)−1−エチル−3−メチル−4−(2,4,6
−1−リメチルフェニルイミノ)−2(IH)−ピリミ
ジノン(to、17g)の塩化メチレン(300ml)
溶液を一70℃から一62℃で加えた。反応温度は3時
間の間に徐々に室温へ上げた。反応完了後、水(200
ml)を反応混合物に加えた。水層を水酸化ナトリウム
水溶液でpH5,5に調整した。有機層を水で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発濃縮した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、ク
ロロホルムとメタノール(9:1)の混液で溶出した。
ロロホルムとメタノール(9:1)の混液で溶出した。
目的化合物を含む画分を合わせ、減圧濃縮して、3.4
−ジヒドロ−6−(3,4−ジヒドロキシフェニル)−
1−エチル−3−メチル−4−(2,4,6−トリメチ
ルフェニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン(6,
46g )を得た。
−ジヒドロ−6−(3,4−ジヒドロキシフェニル)−
1−エチル−3−メチル−4−(2,4,6−トリメチ
ルフェニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン(6,
46g )を得た。
融点:245〜250℃(分解)
IR(ヌジョール):1050,1000cm−’N
M R(CD Cl s M e OHd 6.δ)
:6.45−6.90(5H,m)、5.07(IH,
S)、3.71(2H,q、J”7Hz)。
M R(CD Cl s M e OHd 6.δ)
:6.45−6.90(5H,m)、5.07(IH,
S)、3.71(2H,q、J”7Hz)。
3、’55(3H,S)、2.20(3H,S)。
2.02(6H,S)、1.11(3H,t、Jm7H
z) 宜J11主 3.4−ジヒドロ−6−(3,4−ジヒドロキシフェニ
ル)−1−エチル−3−メチル−4−(2,4,6−ト
リメチルフェニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン
(1,0g )のジメチルホルムアミド(30ml)溶
液中にスプレードライした弗化カリウム(0,77g
)および1.2−ジブロモエタン(0,25m1)を加
えた。混合物を110℃で2.5時間攪拌した。反応混
合物を水中に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。有機
層を水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにか
け、クロロホルムで溶出した。目的化合物を含む両分を
合わせ、減圧濃縮して3.4−ジヒドロ−6−(3,’
4−エチレンジオキシフェニル)−1−エチル−3−メ
チル−4−(2,4゜6−トリメチルフェニルイミノ)
−2(IH)−ピリミジノン(0,3g )を得た。
z) 宜J11主 3.4−ジヒドロ−6−(3,4−ジヒドロキシフェニ
ル)−1−エチル−3−メチル−4−(2,4,6−ト
リメチルフェニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン
(1,0g )のジメチルホルムアミド(30ml)溶
液中にスプレードライした弗化カリウム(0,77g
)および1.2−ジブロモエタン(0,25m1)を加
えた。混合物を110℃で2.5時間攪拌した。反応混
合物を水中に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。有機
層を水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにか
け、クロロホルムで溶出した。目的化合物を含む両分を
合わせ、減圧濃縮して3.4−ジヒドロ−6−(3,’
4−エチレンジオキシフェニル)−1−エチル−3−メ
チル−4−(2,4゜6−トリメチルフェニルイミノ)
−2(IH)−ピリミジノン(0,3g )を得た。
融点ニア5−82℃
IR(ヌジョール):109G、1050゜1000c
m−’ NMR(CDC13,ε): 6.5−7.0C5H。
m−’ NMR(CDC13,ε): 6.5−7.0C5H。
m)、5.04(IH,S)、4.24(4H。
S)、3.68(2H,q、J=7Hz)。
3.56(3H,S)、2.21(3H,S)。
2.01(6H,S)、1.12(3H,t、J奪7H
z) 夾施11 3.4−ジヒドロ−6−(3,4−ジヒドロキシフェニ
ル)−1−エチル−3−メチル−4−(2,4,6−ト
リメチルフェニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン
(1,0g)のジメチルホルムアミド(30ml)溶液
中に臭化メチレン(0,21m1)およびスプレードラ
イした弗化カリウムを加えた。混合物を3.5時間還流
し、水中に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層
を硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発濃縮した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、クロロホル
ムで溶出した。目的化合物を含む両分を合わせ、減圧濃
縮した。得られたシロップをIN塩酸(15ml)に溶
解し、10m1の水が蒸発するまで濃縮した。生成する
結晶を濾取し、3.4−ジヒドロ−6−(3,4−メチ
レンジオキシフェニル)−1−エチル−3−メチル−4
−(2,4,6−トリメチルフェニルイミノ)−2(I
H)−ピリミジノン塩酸塩(o、e 1g )を得た。
z) 夾施11 3.4−ジヒドロ−6−(3,4−ジヒドロキシフェニ
ル)−1−エチル−3−メチル−4−(2,4,6−ト
リメチルフェニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン
(1,0g)のジメチルホルムアミド(30ml)溶液
中に臭化メチレン(0,21m1)およびスプレードラ
イした弗化カリウムを加えた。混合物を3.5時間還流
し、水中に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層
を硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発濃縮した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、クロロホル
ムで溶出した。目的化合物を含む両分を合わせ、減圧濃
縮した。得られたシロップをIN塩酸(15ml)に溶
解し、10m1の水が蒸発するまで濃縮した。生成する
結晶を濾取し、3.4−ジヒドロ−6−(3,4−メチ
レンジオキシフェニル)−1−エチル−3−メチル−4
−(2,4,6−トリメチルフェニルイミノ)−2(I
H)−ピリミジノン塩酸塩(o、e 1g )を得た。
融点:105−170℃
IR(ヌジョール): 1710.1040cm−’N
M R(D M S O−d s 、δ): 6.7
−7.2(5H,m)、6.10(2H,S)、5.0
6(IH,S)、3.80(3H,S)、3.76(2
H,q、J−7H2)、2.24(3H。
M R(D M S O−d s 、δ): 6.7
−7.2(5H,m)、6.10(2H,S)、5.0
6(IH,S)、3.80(3H,S)、3.76(2
H,q、J−7H2)、2.24(3H。
S)、2.17(6H,S)、1.23(3H。
t 、J=7Hz)
実施例4
3.4−ジヒドロ−6−(3,4−メチレンジオキシフ
ェニル)−1−エチル−3−メチル−4=(2,4,6
−ドリメチルフエニルイミノ)−2(IH)−ピリミジ
ノンの塩酸塩(70mg)の水溶液(10ml)を炭酸
水素ナトリウムの水溶液で中和した。生成する沈殿を濾
取し、3.4−ジヒドロ−6−(3,4−メチレンジオ
キシフェニル)−1−エチル−3−メチル−4−(2,
4,6−ドリメチルフエニルイミノ)−2(IH)−ピ
リミジノン(60mg)を得た。
ェニル)−1−エチル−3−メチル−4=(2,4,6
−ドリメチルフエニルイミノ)−2(IH)−ピリミジ
ノンの塩酸塩(70mg)の水溶液(10ml)を炭酸
水素ナトリウムの水溶液で中和した。生成する沈殿を濾
取し、3.4−ジヒドロ−6−(3,4−メチレンジオ
キシフェニル)−1−エチル−3−メチル−4−(2,
4,6−ドリメチルフエニルイミノ)−2(IH)−ピ
リミジノン(60mg)を得た。
融点:147−149’″C
IR(ヌジ日−ル):1B90,1050゜i 600
cm−’ NMR(CDCI S、δ): 6.5−6.9(5H
。
cm−’ NMR(CDCI S、δ): 6.5−6.9(5H
。
m)、5.97(2H,S)、5.04(IH。
S)、3.68(2H,q 、J=7Hz)。
3.56(3H,S)、2.20(3H,S)。
2.00(6H,S)、1.10(3H,t、J−7H
z) 大fl互 3.4−ジヒドロ−6−(3,4−ジヒドロキシフェニ
ル)−1−エチル−3−メチル−4−(2,4,6−ド
リメチルフエニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン
(1,0g )のベンゼン溶液(50ml)中に2.2
−ジメトキシプロパン(2,1m1) オヨヒp−トル
エンスルホン酸−水和物(0,05g)を加えた。溶液
を4時間還流した。その後2.2−ジメトキシプロパン
(2,1m1)およびp−トルエンスルホン酸−水和物
(0,5g )を追加して加え、反応混合物を13時間
以上還流した。冷却後、反応化合物に酢酸エチルを加え
、溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層
を硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発濃縮した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトクラフィーにかけ、クロロホル
ムで溶出した。目的化合物を含む両分を合わせ、減圧濃
縮した。得られたシロップをIN塩較に溶解した。濾過
後、溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液で中和した。生成
する沈殿を濾取し、3.4−ジヒドロ−6−(3,4−
イソプロピリデンジオキシフェニル)−1−エチル−3
−メチル−4−(2,4,6−ドリメチルフエニルイミ
ノ)−2(IH)−ピリミジノン(0,51+c)を得
た。
z) 大fl互 3.4−ジヒドロ−6−(3,4−ジヒドロキシフェニ
ル)−1−エチル−3−メチル−4−(2,4,6−ド
リメチルフエニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン
(1,0g )のベンゼン溶液(50ml)中に2.2
−ジメトキシプロパン(2,1m1) オヨヒp−トル
エンスルホン酸−水和物(0,05g)を加えた。溶液
を4時間還流した。その後2.2−ジメトキシプロパン
(2,1m1)およびp−トルエンスルホン酸−水和物
(0,5g )を追加して加え、反応混合物を13時間
以上還流した。冷却後、反応化合物に酢酸エチルを加え
、溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層
を硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発濃縮した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトクラフィーにかけ、クロロホル
ムで溶出した。目的化合物を含む両分を合わせ、減圧濃
縮した。得られたシロップをIN塩較に溶解した。濾過
後、溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液で中和した。生成
する沈殿を濾取し、3.4−ジヒドロ−6−(3,4−
イソプロピリデンジオキシフェニル)−1−エチル−3
−メチル−4−(2,4,6−ドリメチルフエニルイミ
ノ)−2(IH)−ピリミジノン(0,51+c)を得
た。
融点:67−77℃
IR(ヌジS−ル):1095,1050゜1’ 60
0 am−’ NMR(CDC1*+ε):6.5−6.9(5H。
0 am−’ NMR(CDC1*+ε):6.5−6.9(5H。
m)、5.04(IH,S)、3.70(2H。
q 、J=7Hz)、3.56(3H,S)。
2.21(3H,S)、2.01(6H,S)。
1.66ど6H,S)、1.11(3H,t、J=7H
z) 罠直■至 1.3−ジメチル−6−(4−メトキシ−3−メチルチ
オフェニル)−1,2,3,4−テトラヒドロ−4−チ
オキソピリミジン−2−才ン(5,0g )のテトラヒ
ドロフラン(50ml)の懸濁液中に沃化メチル(20
ml)を加え、1時間還流した。冷却後、生成する沈殿
を濾取した。その沈殿に2.4.6−ドリメチルアニリ
ン(9,5m1)を加えて100℃で3時間攪拌した。
z) 罠直■至 1.3−ジメチル−6−(4−メトキシ−3−メチルチ
オフェニル)−1,2,3,4−テトラヒドロ−4−チ
オキソピリミジン−2−才ン(5,0g )のテトラヒ
ドロフラン(50ml)の懸濁液中に沃化メチル(20
ml)を加え、1時間還流した。冷却後、生成する沈殿
を濾取した。その沈殿に2.4.6−ドリメチルアニリ
ン(9,5m1)を加えて100℃で3時間攪拌した。
冷却後、混合物をn−ヘキサンで粉末化した。生成する
沈殿をクロロホルムに溶解した。溶液を炭酸水素ナトリ
ウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、シリ
カゲルクロマトグラフにかけ、クロロホルムで溶出した
。得られたシロップをIN塩酸に溶解し、炭酸水素ナト
リウム水溶液で中和した。得られた粉末をジイソプロピ
ルエーテルから結晶化して、3.4−ジヒドロ−6−(
4−メトキシ−3−メチルチオフェニル)−1,3−ジ
メチル−4−(2,4,6−)リメチルフェニルイミノ
)−2(IH)−ピリミジノン(4,9g )を得た。
沈殿をクロロホルムに溶解した。溶液を炭酸水素ナトリ
ウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、シリ
カゲルクロマトグラフにかけ、クロロホルムで溶出した
。得られたシロップをIN塩酸に溶解し、炭酸水素ナト
リウム水溶液で中和した。得られた粉末をジイソプロピ
ルエーテルから結晶化して、3.4−ジヒドロ−6−(
4−メトキシ−3−メチルチオフェニル)−1,3−ジ
メチル−4−(2,4,6−)リメチルフェニルイミノ
)−2(IH)−ピリミジノン(4,9g )を得た。
融点:147−149”C
IR(ヌジョール):1090,1045゜1000c
a+−’ NMR(DMS○−dl+ 8): 7.0−7.
2(3H,m)、6.86(2H,S)、4.84(1
1(、S)、3.80(3H,S)、3.’45(3H
,S)、3.05(3H,S)、2.33(3H,S)
、2.14(3H,S)、1.83(6H,S) 東11引ヱ 実施例6と同様にして、下記の化合物を得た。
a+−’ NMR(DMS○−dl+ 8): 7.0−7.
2(3H,m)、6.86(2H,S)、4.84(1
1(、S)、3.80(3H,S)、3.’45(3H
,S)、3.05(3H,S)、2.33(3H,S)
、2.14(3H,S)、1.83(6H,S) 東11引ヱ 実施例6と同様にして、下記の化合物を得た。
1)3.4−ジヒドロ−6−(4−メトキシ−3−メチ
ルスルフィニルフェニル)−1,3−ジメチル−4−(
2,4,6−hリメチルフェニルイミノ)−2(IH)
−ピリミジノン 融点 125−135℃ IR(ヌジョール):1090.1050c+n−’2
) 3 、4−ジヒドロ−6−(4−メトキシ−3−メ
チルスルホニルフェニル)−1,3−ジメチル−4−(
2,4,6−ドリメチルフエニルイミノ)−2(IH)
−ピリミジノン 融点 120−130℃ IR(ヌジョール):1090,1045cm−’衷篇
氾 3.4−ジヒドロ−6−(4−メトキシ−3−メチルチ
オフェニル)−1,3−ジメチル−4−(2,4,6−
ドリメチルフエニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノ
ン(1,5g )のN、N−′/メチルホルムアミド(
15ml)溶液中にm−塩化過安息香酸(1,58g)
を加え、5−10℃で30分、室温で5時間攪拌した。
ルスルフィニルフェニル)−1,3−ジメチル−4−(
2,4,6−hリメチルフェニルイミノ)−2(IH)
−ピリミジノン 融点 125−135℃ IR(ヌジョール):1090.1050c+n−’2
) 3 、4−ジヒドロ−6−(4−メトキシ−3−メ
チルスルホニルフェニル)−1,3−ジメチル−4−(
2,4,6−ドリメチルフエニルイミノ)−2(IH)
−ピリミジノン 融点 120−130℃ IR(ヌジョール):1090,1045cm−’衷篇
氾 3.4−ジヒドロ−6−(4−メトキシ−3−メチルチ
オフェニル)−1,3−ジメチル−4−(2,4,6−
ドリメチルフエニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノ
ン(1,5g )のN、N−′/メチルホルムアミド(
15ml)溶液中にm−塩化過安息香酸(1,58g)
を加え、5−10℃で30分、室温で5時間攪拌した。
反応混合物に水(54)ml)を加え、酢酸エチルで抽
出した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、
硫酸ナトリウムで乾燥し蒸発濃縮した。残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフにか1す、クロロホルムで溶出した。
出した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、
硫酸ナトリウムで乾燥し蒸発濃縮した。残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフにか1す、クロロホルムで溶出した。
スルホニル化合物を含む両分を集め、IN−塩酸に溶解
し、炭酸水素ナトリウム水溶液で中和して、粉末状の3
.4−ジヒドロ−6−(4−メトキシ−3−メチルスル
ホニルフェニル)=1.3−ジメチル−4−(2,4,
6−ドリメチルフエニルイミノ)−2(1)f)−ピリ
ミジノン(0,78g)を得た。
し、炭酸水素ナトリウム水溶液で中和して、粉末状の3
.4−ジヒドロ−6−(4−メトキシ−3−メチルスル
ホニルフェニル)=1.3−ジメチル−4−(2,4,
6−ドリメチルフエニルイミノ)−2(1)f)−ピリ
ミジノン(0,78g)を得た。
融点 120−130℃
IR(ヌジー!−ル): 1090,1045c+n−
’NMR(CI)C1,、δ)ニア、82(IH,d。
’NMR(CI)C1,、δ)ニア、82(IH,d。
J=2H2)、7.40(IH,dd、J−2Hz 、
J−8Hz)、7.04(IH,d 、J=8H2)、
6.79(2H,S)、5.09(IH,S)、4.0
0(3H,S)、3.57(3H,S)、3.20(3
H,S)、3.11(3H,S)、2.20(3)I、
S)、2.00(6H,S) スルフィニル化合物を含む他の両分を集め、IN−塩酸
に溶解し、戻厳水素ナトリウム水溶液テ中和して、粉末
状の3.4−ジヒドロ−6−(4−メトキシ−3−メチ
ルスルフィニルフェニル)−1,3−ジメチル−4−(
2,4,6−ドリメチルフエニルイミノ)−2(IH)
−ピリミジノン(0,34g)を得た。
J−8Hz)、7.04(IH,d 、J=8H2)、
6.79(2H,S)、5.09(IH,S)、4.0
0(3H,S)、3.57(3H,S)、3.20(3
H,S)、3.11(3H,S)、2.20(3)I、
S)、2.00(6H,S) スルフィニル化合物を含む他の両分を集め、IN−塩酸
に溶解し、戻厳水素ナトリウム水溶液テ中和して、粉末
状の3.4−ジヒドロ−6−(4−メトキシ−3−メチ
ルスルフィニルフェニル)−1,3−ジメチル−4−(
2,4,6−ドリメチルフエニルイミノ)−2(IH)
−ピリミジノン(0,34g)を得た。
融点 125−135°C
IR(ヌジョール):1090,1050cm−’N
M R(CD CI g 、δ)ニア、60(IH,d
。
M R(CD CI g 、δ)ニア、60(IH,d
。
J”2Hz)7.38(IH,dd 、J−2Hz、J
=8Hz)、7.05(IH,d、J=8Hz)、6.
81(2H,S)、5.15(IH,S)、3.94(
3H,S)、3.57(3H,S)、3.10(3H,
S)、2.81(3)(、S)、121(3H,S)、
2.03(6H、S ) 表層り1 氷水浴中で冷やした塩化スルホン酸2 、5 mlに、
3.4−ジヒドロ−6−(3,4−ジメトキシフェニル
)−1−エチル−3−メチル−4−(2,4,6−ドリ
メチルフエニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン(
3,0g)を徐々に加えた。混合物を室温で1.5時間
攪拌し、氷で冷やしたアンモニア水(28%、50m1
)の中に注いだ、生成する混合物を2時間攪拌した後、
クロロホルム(50ml)を加えた。分離した有機層を
硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発濃縮した。生成する塊を
シリカゲルクロマトグラフにかけ、クロロホルムとメタ
ノール(50二1 v/v −9: 1 v/v)の混
液で抽出して、3,4−ジヒドロ−6−(4,5−ジメ
トキシ−2−スルファモイルフェニル)−1−エチル−
3−メチル−4−(3−スルフ7モイルー2.4.6−
トリメチルフェニルイミノ)−2(1H)−ピリミジノ
ン(0,28g)を得た。
=8Hz)、7.05(IH,d、J=8Hz)、6.
81(2H,S)、5.15(IH,S)、3.94(
3H,S)、3.57(3H,S)、3.10(3H,
S)、2.81(3)(、S)、121(3H,S)、
2.03(6H、S ) 表層り1 氷水浴中で冷やした塩化スルホン酸2 、5 mlに、
3.4−ジヒドロ−6−(3,4−ジメトキシフェニル
)−1−エチル−3−メチル−4−(2,4,6−ドリ
メチルフエニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン(
3,0g)を徐々に加えた。混合物を室温で1.5時間
攪拌し、氷で冷やしたアンモニア水(28%、50m1
)の中に注いだ、生成する混合物を2時間攪拌した後、
クロロホルム(50ml)を加えた。分離した有機層を
硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発濃縮した。生成する塊を
シリカゲルクロマトグラフにかけ、クロロホルムとメタ
ノール(50二1 v/v −9: 1 v/v)の混
液で抽出して、3,4−ジヒドロ−6−(4,5−ジメ
トキシ−2−スルファモイルフェニル)−1−エチル−
3−メチル−4−(3−スルフ7モイルー2.4.6−
トリメチルフェニルイミノ)−2(1H)−ピリミジノ
ン(0,28g)を得た。
融点 173−178℃
IR(ヌジョール):1040cm−’NMR(CDC
Is、MeOH−d4.δ);7.46(IH,S)、
6.90(IH,S)。
Is、MeOH−d4.δ);7.46(IH,S)、
6.90(IH,S)。
6.66(IH,S)、4.96(IH,S)。
3.91(3H,S)、3.87(3H,S)。
3.70(2H,q、J−7Hz)、3.57(3H,
S)、2.53(3H,S)、2.37(3H,S)、
2.06(3)(、S)、1.15(3)(、t 、J
=7Hz) 衷鳳舅ユ瓜 3.4−ジヒドロ−6−(3,4−ジメトキシフェニル
)−3−メチル−4−(2,4,6−トリメチルフェニ
ルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン(26,1g)
のN、N−ジメチルホルムアミド(350ml)懸濁液
中にカリウム第三級ブトキシド(9,2g )および臭
化酢酸エチル(137g)を室温で加えた。混合物を一
晩攪拌した。希塩酸で中和した後、混合物を蒸発濃縮し
、クロロホルムを用いるシリカゲルクロマトグラフィに
かけた。目的化合物を含む両分を蒸発させ、残渣をエタ
ノール中で粉末化して、3.4−ジヒドロ−6−(3,
4−ジメトキシフェニル)−1−エトキシカルボニルメ
チル−3−メチル−4−(2゜4.6−1−リメチルフ
ェニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン(15,3
g)を得た。
S)、2.53(3H,S)、2.37(3H,S)、
2.06(3)(、S)、1.15(3)(、t 、J
=7Hz) 衷鳳舅ユ瓜 3.4−ジヒドロ−6−(3,4−ジメトキシフェニル
)−3−メチル−4−(2,4,6−トリメチルフェニ
ルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン(26,1g)
のN、N−ジメチルホルムアミド(350ml)懸濁液
中にカリウム第三級ブトキシド(9,2g )および臭
化酢酸エチル(137g)を室温で加えた。混合物を一
晩攪拌した。希塩酸で中和した後、混合物を蒸発濃縮し
、クロロホルムを用いるシリカゲルクロマトグラフィに
かけた。目的化合物を含む両分を蒸発させ、残渣をエタ
ノール中で粉末化して、3.4−ジヒドロ−6−(3,
4−ジメトキシフェニル)−1−エトキシカルボニルメ
チル−3−メチル−4−(2゜4.6−1−リメチルフ
ェニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン(15,3
g)を得た。
融点 112〜113℃
IR(ヌジョール): 1745.1092゜1045
cm−’ NMR(DMSO−d・、δ):i、15(3H。
cm−’ NMR(DMSO−d・、δ):i、15(3H。
t 、J−7,5Hz)、1.95(6H,S)。
2.17(3H,S)、3.46(3H,S)。
s、70(3H,S)、3.75(3H,S)。
4.10(2H,q、J=7.5Hz)。
4.28(2H,S)、4.91 (IH,S)。
6.67〜7.07 、(5H,m)
来m(Al1
3.4−ジヒドロ−6−(3,4−ジメトキシフェニル
)−1−エトキシカルボニルメチル−3−メチル−4−
(2,4,6−)リメチルフェニルイミノ)−2(IH
)−ピリミジノン(4g)のメタノール(30ml)溶
液中に水酸化ナトリウム(0,52g)の水(6+ni
)溶液を加え、室温で3時間攪拌した。メタノールを除
去し、残渣を水(40ml)に溶解許せ、pH5,8に
調整し、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を食
塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発濃縮し
、残渣をn−ヘキサン中で粉末化して、3.4−ジヒド
ロ−1−カルボキシメチル−6−(3゜4−ジメトキシ
フェニル)−3−メチル−4−(2,4,6−1−リメ
チルフェニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノンの無
色粉末(3,3g )を得た。
)−1−エトキシカルボニルメチル−3−メチル−4−
(2,4,6−)リメチルフェニルイミノ)−2(IH
)−ピリミジノン(4g)のメタノール(30ml)溶
液中に水酸化ナトリウム(0,52g)の水(6+ni
)溶液を加え、室温で3時間攪拌した。メタノールを除
去し、残渣を水(40ml)に溶解許せ、pH5,8に
調整し、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を食
塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発濃縮し
、残渣をn−ヘキサン中で粉末化して、3.4−ジヒド
ロ−1−カルボキシメチル−6−(3゜4−ジメトキシ
フェニル)−3−メチル−4−(2,4,6−1−リメ
チルフェニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノンの無
色粉末(3,3g )を得た。
融点 148−150℃
IR(KBr):1720.10B5.1060゜1
240cm−’ N M R(D M S Od g 、δ):2.0O
(6H。
240cm−’ N M R(D M S Od g 、δ):2.0O
(6H。
S)、2.19(,3H,S)、3.50(3H。
S)、3.73(3H,S)、3.78(3H。
S)、4.20(2H,S)、4.93(IH。
S)、6.68〜7.06(5H,m)!u!、tL主
3.4−ジヒドロ−1,3−ジメチル−6−(4−メト
キシ−3−ニトロフェニル)−4−(2゜4.6−トリ
メチルフェニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン(
0,!l!4g)のメタノール(20ml)と濃塩酸(
0,4m1)との混液中に活性炭担持パラジウム(10
%、0.20g)を加えた。混合物を水素雰囲気下(1
気圧)で2時間攪拌し、濾過した。濾液を炭酸水素ナト
リウム水溶液に注ぎ、クロロホルムで抽出した。有機層
を硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発濃縮した。生じた塊り
をエタノールから再結晶して、3,4−ジヒドロ−6−
(3−アミノ−4−メトキシフエニ゛ル)−1,3−ジ
メチル−4−(2,4,6−1すメチルフェニルイミノ
)−2(1)I)−ピリミジノン(0,63g)を得た
。
キシ−3−ニトロフェニル)−4−(2゜4.6−トリ
メチルフェニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン(
0,!l!4g)のメタノール(20ml)と濃塩酸(
0,4m1)との混液中に活性炭担持パラジウム(10
%、0.20g)を加えた。混合物を水素雰囲気下(1
気圧)で2時間攪拌し、濾過した。濾液を炭酸水素ナト
リウム水溶液に注ぎ、クロロホルムで抽出した。有機層
を硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発濃縮した。生じた塊り
をエタノールから再結晶して、3,4−ジヒドロ−6−
(3−アミノ−4−メトキシフエニ゛ル)−1,3−ジ
メチル−4−(2,4,6−1すメチルフェニルイミノ
)−2(1)I)−ピリミジノン(0,63g)を得た
。
融点 176−178℃
I R(ヌジs−ル):10B0,1050゜1000
cm−’ N M R(CD C1s 、δ) : 6.9−6.
4(5H。
cm−’ N M R(CD C1s 、δ) : 6.9−6.
4(5H。
m)、5.10(IH,S)、3.9(2H。
br、S)、3.87(3H,S)、3.60(3H,
S)、3.18(3H,S)、2.25(3H,S)、
2.0−3(6H,S)K簾■ユニ 3.4−ジヒドロ−6−(3−アミノ−4−メトキシフ
ェニル)−1,3−ジメチル−4−(2゜4.6−1J
メチルフエニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン(
0,39g ”)の1.2−ジクロロエタン(5ml)
溶液中に塩酸メタンスルホニル(0,40m1)および
トリエチルアミン(0,52m1)を順次加え、混合物
を2.5時間還流した。冷却後、反応混合物をクロロホ
ルムに溶解し、水洗した。有機層を硫酸マグネシウムで
乾燥し、蒸発濃縮し、エタノールから結晶化して、3.
4−ジヒドロ−6−[3−(ジメタンスルホニルアミノ
)−4−メトキシフェニル]−1,3−ジメチル−4−
(2,4,6−ドリメチルフエニルイミノ)−2(IH
)−ピリミジノン(0,33g)を得た。
S)、3.18(3H,S)、2.25(3H,S)、
2.0−3(6H,S)K簾■ユニ 3.4−ジヒドロ−6−(3−アミノ−4−メトキシフ
ェニル)−1,3−ジメチル−4−(2゜4.6−1J
メチルフエニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン(
0,39g ”)の1.2−ジクロロエタン(5ml)
溶液中に塩酸メタンスルホニル(0,40m1)および
トリエチルアミン(0,52m1)を順次加え、混合物
を2.5時間還流した。冷却後、反応混合物をクロロホ
ルムに溶解し、水洗した。有機層を硫酸マグネシウムで
乾燥し、蒸発濃縮し、エタノールから結晶化して、3.
4−ジヒドロ−6−[3−(ジメタンスルホニルアミノ
)−4−メトキシフェニル]−1,3−ジメチル−4−
(2,4,6−ドリメチルフエニルイミノ)−2(IH
)−ピリミジノン(0,33g)を得た。
融点 183−186℃
IR(ヌジョール): 1060,1595cm−’N
MR(CDCIJ、δ): 7.5−6.7(5H。
MR(CDCIJ、δ): 7.5−6.7(5H。
m)、5.13(IH,S)、3.71(3H。
S)、3.56(3H,S)、3.36(6H。
S)、3.12(3H,S)、2.21(3H。
S)、2.01(6H,S)
!!Jl!4
3.4−ジヒドロ−6−(3,4−ジメトキシフェニル
)−1,3−ジメチル−4−2,4,6−ドリメチルフ
エニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン(5,0g
)の臭化水素酸水溶液(47%、50m1)を1.5
時間還流した。室温に冷却後、この溶液を水酸化ナトリ
ウム水溶液で中和し、クロロホルムで抽出した。有機層
を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発濃縮
した。生じた油状物をジインプロピルエーテルと酢急エ
チル(1:1ν/V)との混液から結晶化して、3.4
−ジヒドtff−6−(3,4−ジヒドロキシフェニル
)−1,3−ジメチル−4−(2,4゜6−ドリメチル
フエニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン(4,4
1g )を得た。
)−1,3−ジメチル−4−2,4,6−ドリメチルフ
エニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン(5,0g
)の臭化水素酸水溶液(47%、50m1)を1.5
時間還流した。室温に冷却後、この溶液を水酸化ナトリ
ウム水溶液で中和し、クロロホルムで抽出した。有機層
を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発濃縮
した。生じた油状物をジインプロピルエーテルと酢急エ
チル(1:1ν/V)との混液から結晶化して、3.4
−ジヒドtff−6−(3,4−ジヒドロキシフェニル
)−1,3−ジメチル−4−(2,4゜6−ドリメチル
フエニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン(4,4
1g )を得た。
融点 222−225℃
IR(lジs−ル): 1sso、1040゜1 5
9 0cm−’ NMR(CDCIs、S)ニア、0−6.0(7H1m
)、5.14(IH,S)、3.65(3H。
9 0cm−’ NMR(CDCIs、S)ニア、0−6.0(7H1m
)、5.14(IH,S)、3.65(3H。
S)、3.10(3H,S)、2.23(3H。
S)、2.07(6H,S’)
衷厘碧ユ1
3.4−ジヒドロ−6−(3,4−ジヒドロキシフェニ
ル)−1,3−ジメチル−4−(2,4,6−ドリメチ
ルフエニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン(2,
Og)のN、N−ジメチルホルムアミド(20+++1
)溶液中に水素化ナトリウム(ヌジョール中60%、0
.22g)およびヨウ化メチル(0,37m1)を加え
、混合物を室温で2時間攪拌した。反応混合物を水(2
00ml)に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機抽出液
を食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発濃縮
した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィにかけクロロ
ホルムで溶出して、3.4−ジヒドロ−1,3−ジメチ
ル−6−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)−
4−(2,4,6−ドリメチルフエニルイミノ)−2(
iH)−ピリミジノン(o、a e g )を得た。
ル)−1,3−ジメチル−4−(2,4,6−ドリメチ
ルフエニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン(2,
Og)のN、N−ジメチルホルムアミド(20+++1
)溶液中に水素化ナトリウム(ヌジョール中60%、0
.22g)およびヨウ化メチル(0,37m1)を加え
、混合物を室温で2時間攪拌した。反応混合物を水(2
00ml)に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機抽出液
を食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発濃縮
した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィにかけクロロ
ホルムで溶出して、3.4−ジヒドロ−1,3−ジメチ
ル−6−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)−
4−(2,4,6−ドリメチルフエニルイミノ)−2(
iH)−ピリミジノン(o、a e g )を得た。
融点 90−100℃
IR(ヌジョール):1050ca+−’N M R(
CD Cl g 、δ): 7.0−6.5C5H。
CD Cl g 、δ): 7.0−6.5C5H。
m)、5.09(IH,S)、3.89(3H。
S)、3.59(3H,S)、3.10(3H。
S)、2.20(3H,S)2.02(6H。
S)
衷農遇ユ1
3.4−ジヒドロ−1,3−ジメチル−6−(4−ヒド
ロキシ−3−メトキシフェニル)−4−(2,4,6−
1リメチルフエニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノ
ン(0,40g )のアセトン(20ml)溶液中に炭
酸カリウム(0,10g)および臭化酢酸エチル(0,
66m1)を加え、混合物を10時間還流した。冷却後
、混合物を蒸発濃縮し、クロロホルムに懸濁した。懸濁
液を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発濃縮して、
3.4−ジヒドロ−1,3−ジメチル−6−(4−エト
キシカルボニルメトキシ−3−メトキシフェニル)−4
−(2,4,6−)リメチルフェニルイミノ)−2(I
H)−ピリミジノン(0,67g)の粗油状物を得た。
ロキシ−3−メトキシフェニル)−4−(2,4,6−
1リメチルフエニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノ
ン(0,40g )のアセトン(20ml)溶液中に炭
酸カリウム(0,10g)および臭化酢酸エチル(0,
66m1)を加え、混合物を10時間還流した。冷却後
、混合物を蒸発濃縮し、クロロホルムに懸濁した。懸濁
液を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発濃縮して、
3.4−ジヒドロ−1,3−ジメチル−6−(4−エト
キシカルボニルメトキシ−3−メトキシフェニル)−4
−(2,4,6−)リメチルフェニルイミノ)−2(I
H)−ピリミジノン(0,67g)の粗油状物を得た。
との粗油状物は、精製しないで、次の脱エステル化に用
いた。
いた。
采JILL
実施例10で得た3、4−ジヒドロ−1,3−ジメチル
−6−(4−エトキシカルボニルメトキシ−リメチルフ
ェニルイミノ)2(IH)−ピリミジノン( 0.6
7 g )のメタノール(4mi)溶液中にIN水酸化
ナトリウム水溶液(2.38ml)を加え、混合物を室
温で2時間攪拌した。溶媒を除去した後、残渣を水(5
ml)に溶かし、IN塩素で中和し、クロロホルムで抽
出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発濃縮し
、ジイソプロピルエーテル中で粉末化して、3.4−ジ
ヒドロ−6−(4−カルボキシメトキシ−3−メトキシ
フェニル)−1.3−ジメチル−4−(2,4.6−ト
リメチルフェニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン
( 0.4 7 g )を得た。
−6−(4−エトキシカルボニルメトキシ−リメチルフ
ェニルイミノ)2(IH)−ピリミジノン( 0.6
7 g )のメタノール(4mi)溶液中にIN水酸化
ナトリウム水溶液(2.38ml)を加え、混合物を室
温で2時間攪拌した。溶媒を除去した後、残渣を水(5
ml)に溶かし、IN塩素で中和し、クロロホルムで抽
出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発濃縮し
、ジイソプロピルエーテル中で粉末化して、3.4−ジ
ヒドロ−6−(4−カルボキシメトキシ−3−メトキシ
フェニル)−1.3−ジメチル−4−(2,4.6−ト
リメチルフェニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン
( 0.4 7 g )を得た。
融点 170−180℃
IR(ヌジョール):1090,1050cm−’N
M R ( C D C 1 s 、δ):6.80(
2H.S)。
M R ( C D C 1 s 、δ):6.80(
2H.S)。
6、3 0−6.6 0 ( 3H, m) 、 5.
5 5 ( 2H,br,S)、4.98(IH,S)
。
5 5 ( 2H,br,S)、4.98(IH,S)
。
3、65(3H,S)、3.57(3H,S)。
3、03(3H,S)、2.19(3H,S)。
2、04(6H,S)
米,$91111
実施例6と同様にして、下記の化合物を得た。
3、4−ジヒドロ−1.3−ジメチル−6−(4−メト
キシ−3−二トロフェニル)−4−(2。
キシ−3−二トロフェニル)−4−(2。
4、6−1−リメチルフェニルイミノ)、−2(IH)
−ピリミジノン 融点 115−120℃ IR(ヌジョール):1090 、1055cm−’N
M R ( C D C 1 s 、δ)ニア、71
(1a,a。
−ピリミジノン 融点 115−120℃ IR(ヌジョール):1090 、1055cm−’N
M R ( C D C 1 s 、δ)ニア、71
(1a,a。
J−2Hz)、7.43(IH.dd,J−2Hz,J
−8Hz)、7.10(IH.d,J。
−8Hz)、7.10(IH.d,J。
=8Hz)、6.86(2H.S)、5.14(IH,
S)、3.99(3H,S)、3.60(3H,S)、
3.17(3H,S)、2.23(3H,S)、2.0
4(6H,S) 衷&且 3、4−ジヒドロ−6−(3.4−ジヒドロキシフェニ
ル)−1−エチル−3−メチル−4−( 2,4.6
− トリメチルフェニルイミノ)−2(IH)−ピリミ
ジノン( 1.0 g )のジオキサン(25ml)と
エタノール(5ml)溶液中にクロロジフルオロメタン
を10℃で5分間通気した。
S)、3.99(3H,S)、3.60(3H,S)、
3.17(3H,S)、2.23(3H,S)、2.0
4(6H,S) 衷&且 3、4−ジヒドロ−6−(3.4−ジヒドロキシフェニ
ル)−1−エチル−3−メチル−4−( 2,4.6
− トリメチルフェニルイミノ)−2(IH)−ピリミ
ジノン( 1.0 g )のジオキサン(25ml)と
エタノール(5ml)溶液中にクロロジフルオロメタン
を10℃で5分間通気した。
次いで,4N水酸化ナトリウム水溶液(8.0ml)を
加え、さらにクロロジフルオロメタンを吹き込みながら
、10℃で1時間、室温で3時間、溶液を攪拌した。混
合物を蒸発濃縮し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水
洗し、硫酸ナトリウムで乾燥し、シリカゲルクロマトグ
ラフィにかけクロロホルムで溶出して、3.4−ジヒド
ロ−6−[3.4−ビス(ジフルオロメトキシ)フェニ
ル]ー1ーエチルー3ーメチル−4−(2.4.6−ト
リメチルフェニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン
( 0.4 7 g )を得た。
加え、さらにクロロジフルオロメタンを吹き込みながら
、10℃で1時間、室温で3時間、溶液を攪拌した。混
合物を蒸発濃縮し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水
洗し、硫酸ナトリウムで乾燥し、シリカゲルクロマトグ
ラフィにかけクロロホルムで溶出して、3.4−ジヒド
ロ−6−[3.4−ビス(ジフルオロメトキシ)フェニ
ル]ー1ーエチルー3ーメチル−4−(2.4.6−ト
リメチルフェニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン
( 0.4 7 g )を得た。
融点 145−148°C
IR(メジ5−ル):1070,’1050cmー’N
M R ( C D C 1 s 、δ): 7.0
−7.4(3H。
M R ( C D C 1 s 、δ): 7.0
−7.4(3H。
m)、6.80(2H,br,S)、6.53( 2H
,t 、JIIF−7 2Hz)、5.0 7 (、I
H.S)、3.63(2H,q 、J=7Hz)。
,t 、JIIF−7 2Hz)、5.0 7 (、I
H.S)、3.63(2H,q 、J=7Hz)。
3、59(3H.S)、2.22(3H,S)。
2.03(6H,S)、1.11(3H,t、J−7H
z) 実施例20 3.4−ジヒドロ−6−(3,4−ジメトキシフェニル
)−3−メチル−4−(2,4,6−ドリメチルフエニ
ルイミノー2(IH)−ピリミジノン(1,0g)のN
、N−ジメチルホルムアミドf・ (20ml)溶液中に1−クロロ−3−ジメチルアミノ
プロパン塩酸塩(4,17g)および炭酸カリウム(7
,28g )を加え、100℃で12時間攪拌した。冷
却後、混合物を水(200ml)に注ぎ、酢酸エチルで
抽出した。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで
乾燥し、真空中で蒸発濃縮し、シリカゲルクロマトグラ
フィにかけクロロホルム−メタノール(49: 1.v
/v)混液で溶出して、3.4−ジヒドロ−6−(3,
4−ジメトキシフェニル)−1−(3−ジメチルアミノ
プロピル)−3−メチル−4−(2,4,6−ドリメチ
ルフエニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン(0,
62g)を得た。
z) 実施例20 3.4−ジヒドロ−6−(3,4−ジメトキシフェニル
)−3−メチル−4−(2,4,6−ドリメチルフエニ
ルイミノー2(IH)−ピリミジノン(1,0g)のN
、N−ジメチルホルムアミドf・ (20ml)溶液中に1−クロロ−3−ジメチルアミノ
プロパン塩酸塩(4,17g)および炭酸カリウム(7
,28g )を加え、100℃で12時間攪拌した。冷
却後、混合物を水(200ml)に注ぎ、酢酸エチルで
抽出した。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで
乾燥し、真空中で蒸発濃縮し、シリカゲルクロマトグラ
フィにかけクロロホルム−メタノール(49: 1.v
/v)混液で溶出して、3.4−ジヒドロ−6−(3,
4−ジメトキシフェニル)−1−(3−ジメチルアミノ
プロピル)−3−メチル−4−(2,4,6−ドリメチ
ルフエニルイミノ)−2(IH)−ピリミジノン(0,
62g)を得た。
IR(ヌショール):1590,1040゜1 685
cm−’ NMR(CDCI□ 8): 6.6−6.9(5H
。
cm−’ NMR(CDCI□ 8): 6.6−6.9(5H
。
m)、5.06(IH,S)、3.85(3H。
S)、3.83(3H,S)、3.56(3H。
S)、3.5−3.8(2H,m)、2.1 9(3H
,S)、2.0−2.4(2H,m)。
,S)、2.0−2.4(2H,m)。
2.06(6H,S)、2.01(6H,、S)。
1.8−1.5(2H,m)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1およびR^2はそれぞれ低級アルキル、
低級アルコキシカルボニル(低級)アルキル、カルボキ
シ(低級)アルキルまたはジ(低級)アルキルアミノ(
低級)アルキル;R^3およびR^4はそれぞれヒドロ
キシ、低級アルコキシ、ハロ(低級)アルコキシ、低級
アルキルチオ、低級アルカンスルフィニル、低級アルカ
ンスルホニル、ニトロ、アミノ、ジ(低級)アルカンス
ルホニルアミノ、低級アルコキシカルボニル(低級)ア
ルコキシまたはカルボキシ(低級)アルコキシ、または
互いに結合して低級アルキレンジオキシまたは低級アル
キリデンジオキシを形成する基;R^5は低級アルキル
および/またはスルファモイルで置換されていてもよい
アリール;R^1^0は水素またはスルファモイル(但
し、R^1およびR^2がともに低級アルキルであり、
R^3およびR^4が低級アルコキシである場合は、R
^1^0はスルファモイル)である〕のピリミジノン誘
導体およびその塩。 2、R^5が低級アルキルおよび/またはスルファモイ
ルで置換されていてもよいフェニルである特許請求の範
囲第1項に記載の化合物 3、R^1およびR^2がそれぞれメチル、エチル、エ
トキシカルボニルメチル、カルボキシメチルまたはジメ
チルアミノプロピル;R^3およびR^4がそれぞれヒ
ドロキシ、メトキシ、ジフルオロメトキシ、メチルチオ
、メチルスルフィニル、メチルスルホニル、ニトロ、ア
ミノ、ジメタンスルホニルアミノ、エトキシカルボニル
メトキシまたはカルボキシメトキシ、または互いに結合
してエチレンジオキシ、メチレンジオキシまたはイソプ
ロピリデンジオキシを形成する基;R^5がメチルおよ
び/またはスルファモイルで置換されていてもよいフェ
ニル;R^1^0が水素またはスルファモイル(但し、
R^1がメチル、R^2がメチルまたはエチル、R^3
およびR^4がメトキシである場合には、R^1^0は
スルファモイル)である特許請求の範囲第2項に記載の
化合物 4、R^1がメチル;R^2がメチル、エチル、エトキ
シカルボニルメチル、カルボキシメチルまたはジメチル
アミノプロピル;R^3がヒドロキシ、メトキシ、ジフ
ルオロメトキシ、メチルチオ、メチルスルフィニル、メ
チルスルホニル、ニトロ、アミノ、ジメタンスルホニル
、エトキシカ ルボニルメトキシまたはカルボキシメトキシ;R^4が
ヒドロキシ、メトキシまたはジフルオロメトキシである
特許請求の範囲第3項に記載の化合物。 5、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1およびR^2はそれぞれ低級アルキル、
低級アルコキシカルボニル(低級)アルキル、カルボキ
シ(低級)アルキルまたはジ(低級)アルキルアミノ(
低級)アルキル:R^3およびR^4はそれぞれヒドロ
キシ、低級アルコキシ、ハロ(低級)アルコキシ、低級
アルキルチオ、低級アルカンスルフィニル、低級アルカ
ンスルホニル、ニトロ、アミノ、ジ(低級)アルカンス
ルホニルアミノ、低級アルコキシカルボニル(低級)ア
ルコキシまたはカルボキシ(低級)アルコキシ、または
互いに結合して低級アルキレンジオキシまたは低級アル
キリデンジオキシを形成する基;R^5は低級アルキル
および/またはスルファモイルで置換されていてもよい
アリール;R^1^0は水素またはスルファモイル(但
し、R^1およびR^2がともに低級アルキルであり、
R^3およびR^4が低級アルコキシである場合には、
R^1^0はスルファモイル)である]のピリミジノン
誘導体またはその塩の製造法であって、 (1)式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩をR^6およびR^7で示される
低級アルキル基の開裂反応に付し、式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩を得るか[上記式中、R^1、R
^2、R^5、およびR^1^0はそれぞれ前記に同じ
;R^5およびR^7はそれぞれ低級アルキルである]
、または、 (2)式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩と式; X−Y−X の化合物を反応させ、式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩を得るか[上記式中、R^1、R
^2、R^5およびR^1^0はそれぞれ前記に同じ;
Xは脱離基;Yは低級アルキレンまたは低級アルキリデ
ンである]、 または、 (3)式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩と式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはそのカルボニル基における反応性誘導体
を反応させ、式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩を得るか[上記式中、R^1、R
^2、R^5、およびR^1^0はそれぞれ前記に同じ
;R^8およびR^9はそれぞれ水素または低級アルキ
ルである]、 または、 (4)式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはそのチオキソ基における反応性誘導体ま
たはその塩と式; R^5−NH_2 の化合物またはその塩を反応させ、式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩を得るか[上記式中、R^1、R
^2、R^3、R^4、R^5およびR^1^0はそれ
ぞれ前記に同じ]、 または、 (5)式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩を酸化して、式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩を得るか[上記式中、R^1、R
^2、R^4、R^5およびR^1^0はそれぞれ前記
に同じ;R^3_a低級アルキルチオ;R^3_b低級
アルカンスルフィニルまたは低級アルカンスルホニルで
ある]、 または、 (6)式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩をスルファモイル基の導入反応に
付し、式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩を得るか[上記式中、R^1、R
^2、R^3およびR^4はそれぞれ前記に同じ:R^
5_aは低級アルキルで置換されていてもよいアリール
;R^5_bは低級アルキルおよびスルファモイルで置
換されていてもよいアリールである]、 または、 (7)式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩と式; X−R^2_a の化合物を反応させ、式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩を得るか[上記式中、R^1、R
^3、R^4、R^5、R^1^0およびXはそれぞれ
前記に同じ;R^2_aは低級アルコキシカルボニル(
低級)アルキル;またはジ(低級)アルキルアミノ(低
級)アルキルである]、 または、 (8)式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩を加水分解反応に付し、式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩を得るか[上記式中、R^1、R
^3、R^4、R^5およびR^1^0はそれぞれ前記
に同じ;R^2_b低級アルコキシカルボニル(低級)
アルキル;R^2_cはカルボキシ(低級)アルキルで
ある]、 または、 (9)式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩を還元し、式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩を得るか[上記式中、R^1、R
^2、R^4、R^5およびR^1^0はそれぞれ前記
に同じ]、 または、 (10)式; ▲数式、化学式、表等があります▼ またはその塩をアルカンスルホニル化反応に付し、式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩を得るか[上記式中、R^1、R
^2、R^4、R^5およびR^1^0はそれぞれ前記
に同じ;R^3_cはジ(低級)アルカンスルホニルア
ミノである]、 または、 (11)式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩をアルキル化反応に付し、式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩を得るか[上記式中、R^1、R
^2、R^5およびR^1^0はそれぞれ前記に同じ;
R^3_dは低級アルコキシである]、 または、 (12)式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩と式; X−R^1^1 の化合物を反応させ、式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩を得るか[上記式中、R^1、R
^2、R^3_d、R^5、R^1^0およびXはそれ
ぞれ前記に同じ;R^1^1は低級アルコキシカルボニ
ル(低級)アルキル;R^4_a低級アルコキシカルボ
ニル(低級)アルコキシである]、 または、 (13)式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩を加水分解反応に付し、式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩を得るか[上記式中、R^1、R
^2、R^3_d、R^4_a、R^5およびR^1^
0はそれぞれ前記に同じ;R^4_bはカルボキシ(低
級)アルコキシである]、 または、 (14)式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩と式; X−R^1^2 の化合物を反応させ、式; ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物またはその塩を得ること[上記式中、R^1、
R^2、R^5、R^1^0およびXはそれぞれ前記に
同じ;R^1^2はハロ(低級)アルキルである]を特
徴とするピリミジノン誘導体またはその塩の製造法。 6、式; ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1およびR^2はそれぞれ低級アルキル、
低級アルコキシカルボニル(低級)アルキル、カルボキ
シ(低級)アルキルまたはジ(低級)アルキルアミノ(
低級)アルキル;R^3およびR^4はそれぞれヒドロ
キシ、低級アルコキシ、ハロ(低級)アルコキシ、低級
アルキルチオ、低級アルカンスルフィニル、低級アルカ
ンスルホニル、ニトロ、アミノ、ジ(低級)アルカンス
ルホニルアミノ、低級アルコキシカルボニル(低級)ア
ルコキシまたはカルボキシ(低級)アルコキシ、または
互いに結合して低級アルキレンジオキシまたは低級アル
キリデンジオキシを形成する基;R^5は低級アルキル
および/またはスルファモイルで置換されていてもよい
アリール;R^1^0は水素またはスルファモイル(但
し、R^1およびR^2がともに低級アルキルであり、
R^3およびR^4が低級アルコキシである場合は、R
^1^0はスルファモイル)である〕のピリミジノン誘
導体またはその塩を有効成分とする強心剤または抗アレ
ルギー剤。 7、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1_dおよびR^2_dはそれぞれ低級ア
ルキル、R^3_eは低級アルキルチオまたはニトロ;
R^4_cは低級アルコキシである〕の化合物およびそ
の塩。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB848416140A GB8416140D0 (en) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | Pyrimidinone derivatives |
| GB8416140 | 1984-06-25 | ||
| GB8423438 | 1984-09-17 | ||
| GB8427122 | 1984-10-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6127973A true JPS6127973A (ja) | 1986-02-07 |
Family
ID=10562946
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13712885A Pending JPS6127973A (ja) | 1984-06-25 | 1985-06-24 | ピリミジノン誘導体、その製造法及びその用途 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6127973A (ja) |
| GB (1) | GB8416140D0 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5342842A (en) * | 1989-11-13 | 1994-08-30 | Pfizer Inc. | Pyrimidone derivatives and analogs in the treatment of asthma or certain skin disorders |
-
1984
- 1984-06-25 GB GB848416140A patent/GB8416140D0/en active Pending
-
1985
- 1985-06-24 JP JP13712885A patent/JPS6127973A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5342842A (en) * | 1989-11-13 | 1994-08-30 | Pfizer Inc. | Pyrimidone derivatives and analogs in the treatment of asthma or certain skin disorders |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB8416140D0 (en) | 1984-08-01 |
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