JPS61286230A - ガラスの製造方法 - Google Patents
ガラスの製造方法Info
- Publication number
- JPS61286230A JPS61286230A JP12435985A JP12435985A JPS61286230A JP S61286230 A JPS61286230 A JP S61286230A JP 12435985 A JP12435985 A JP 12435985A JP 12435985 A JP12435985 A JP 12435985A JP S61286230 A JPS61286230 A JP S61286230A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gel
- particles
- glass
- dried
- present
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 23
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 35
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 15
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 10
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- -1 silicon alkoxide Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 description 25
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 17
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 14
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 8
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 7
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 5
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 4
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 4
- 108010025899 gelatin film Proteins 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 3
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 3
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000015429 Mirabilis expansa Nutrition 0.000 description 1
- 244000294411 Mirabilis expansa Species 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N ethoxide Chemical compound CC[O-] HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229960002050 hydrofluoric acid Drugs 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- CRNJBCMSTRNIOX-UHFFFAOYSA-N methanolate silicon(4+) Chemical compound [Si+4].[O-]C.[O-]C.[O-]C.[O-]C CRNJBCMSTRNIOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013536 miso Nutrition 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ガラスの製造方法に関するもの−であシ、詳
しくは、クリコンアルコキシドを原料の1つとしてゾル
ゲル法によシガラスを製造する方法に関する。
しくは、クリコンアルコキシドを原料の1つとしてゾル
ゲル法によシガラスを製造する方法に関する。
現在、光ファイバーのプリフォームを作製する方法とし
ては、WAD法をはじめとする、51at、等を火炎中
に導入しガラス微粒子をターゲット上に堆積させ、得ら
れたガラス多孔質体を焼結しガラス塊を得る、という方
法が主流になっている。これは高純度の多孔質ガラスを
比較的安価に得られる優れた方法である。しかしこの方
法は気相反応であるため、添加物として使える物質がガ
ス化できるものに限られる、という欠点があった。
ては、WAD法をはじめとする、51at、等を火炎中
に導入しガラス微粒子をターゲット上に堆積させ、得ら
れたガラス多孔質体を焼結しガラス塊を得る、という方
法が主流になっている。これは高純度の多孔質ガラスを
比較的安価に得られる優れた方法である。しかしこの方
法は気相反応であるため、添加物として使える物質がガ
ス化できるものに限られる、という欠点があった。
そこで、近年、この欠点を補う方法として、Sl を
主体とじ九金属アルコキクドを加水分解し、シリカゲル
あるいは添加元素を含むシリカゲルを得、該シリカゲル
を乾燥させた後無孔化処理等を行い透明ガラスを得る方
法が盛んに研究されている。
主体とじ九金属アルコキクドを加水分解し、シリカゲル
あるいは添加元素を含むシリカゲルを得、該シリカゲル
を乾燥させた後無孔化処理等を行い透明ガラスを得る方
法が盛んに研究されている。
一例を挙げれば、クリコンテトラメトキシド等の81の
アルコキシドを、エタノールと充分に攪拌混合した後、
水を加え更に攪拌して加水分解する。この時水にはアン
モニア等pH調整剤を加えておくことが好ましい。加水
分解反応の開始と共に粒子の析出が始まυ、該反応溶液
を内面にシリコーンを塗つ念容器に移し、乾燥時間を長
くできるようにアルミ箔等で蓋をして例えば60℃程度
の恒温槽中に保つことによシ、ゾル液のゲル化およびゲ
ルの乾燥を行う。乾燥するに従ってゲルは収縮し、通常
数日を経るとほぼ乾燥が終了する。このようにして得た
ゲルを取シ出し、例えば酸素を含むHe雰囲気中にて加
熱する等によシ無孔化処理を行い、透明ガラス化する方
法がすでに知られている。
アルコキシドを、エタノールと充分に攪拌混合した後、
水を加え更に攪拌して加水分解する。この時水にはアン
モニア等pH調整剤を加えておくことが好ましい。加水
分解反応の開始と共に粒子の析出が始まυ、該反応溶液
を内面にシリコーンを塗つ念容器に移し、乾燥時間を長
くできるようにアルミ箔等で蓋をして例えば60℃程度
の恒温槽中に保つことによシ、ゾル液のゲル化およびゲ
ルの乾燥を行う。乾燥するに従ってゲルは収縮し、通常
数日を経るとほぼ乾燥が終了する。このようにして得た
ゲルを取シ出し、例えば酸素を含むHe雰囲気中にて加
熱する等によシ無孔化処理を行い、透明ガラス化する方
法がすでに知られている。
このようないわゆるゾルゲル法は、アルコキシドが多く
の金属元素について作製できるので、各種の物質を容易
に添加できる。また、均一性が極めて高いガラスが得ら
れるという長所がある。しかしながら一方では、ゲルが
乾燥時などに割れやすいという欠点もある。
の金属元素について作製できるので、各種の物質を容易
に添加できる。また、均一性が極めて高いガラスが得ら
れるという長所がある。しかしながら一方では、ゲルが
乾燥時などに割れやすいという欠点もある。
本発明者らはこのような乾燥、焼結時の割れを防ぐため
に、すでに特願昭60−15558号明細書にて、ゾル
液にコロイドになり得ない大きさの粒子を加える方法を
、また特願昭60−96676号明細書にてはゾル液に
ガラス原料を含む粉末を混合して、ゾル液が増粘剤と粒
径1ミクロン以上のガラス原料粒子を含んでなるように
したものをゲル化させる方法を提案しているが、いずれ
の方法も大きな効果を挙げるものである。
に、すでに特願昭60−15558号明細書にて、ゾル
液にコロイドになり得ない大きさの粒子を加える方法を
、また特願昭60−96676号明細書にてはゾル液に
ガラス原料を含む粉末を混合して、ゾル液が増粘剤と粒
径1ミクロン以上のガラス原料粒子を含んでなるように
したものをゲル化させる方法を提案しているが、いずれ
の方法も大きな効果を挙げるものである。
しかるに上記の三方法によって作られたゲルは、乾燥、
焼結時の割れ防止には効果があるものの、これらの方法
によって作られたゲルはすきま径が大きく、サブミクロ
/オーダーの均一性が要求される用途、例えば平面導波
路やロンドレンズ等の微小光学部品をゾルゲル法で製造
する場合などには、好ましくない場合がある。
焼結時の割れ防止には効果があるものの、これらの方法
によって作られたゲルはすきま径が大きく、サブミクロ
/オーダーの均一性が要求される用途、例えば平面導波
路やロンドレンズ等の微小光学部品をゾルゲル法で製造
する場合などには、好ましくない場合がある。
またフォトレジストでマスクするのもむずかしくなる。
本発明は乾燥時に割れにくく、かつ高度の均一性を有す
るゲルを得、それによシカ−性の高いガラスを焼結時の
発泡等がなく効率よく製造する方法を提供することを目
的とするものである。
るゲルを得、それによシカ−性の高いガラスを焼結時の
発泡等がなく効率よく製造する方法を提供することを目
的とするものである。
〔問題点を解決するだめの手段]
本発明は原料の少なくとも1つをシリコンのアルコキシ
ドとするゲル化しうるゾル液に、粒径α005μ以上で
あシ、かつコロイド状態になり得る程度に小さい粒子を
混合した後、ゾル液をゲル化してこれによシ得られたゲ
ルを乾燥し、該乾燥ゲルを焼結することを特徴とするガ
ラスの製造方法により上記目的を達成するものである。
ドとするゲル化しうるゾル液に、粒径α005μ以上で
あシ、かつコロイド状態になり得る程度に小さい粒子を
混合した後、ゾル液をゲル化してこれによシ得られたゲ
ルを乾燥し、該乾燥ゲルを焼結することを特徴とするガ
ラスの製造方法により上記目的を達成するものである。
本発明者らはすてに特願昭59−192581号明細書
にてアルコキシドの加水分解時tたはそれ以前に液中に
コロイド粒子を[L5〜20モル係程度加えることを提
案している。このようにコロイド粒子を分散させておい
て、なぜ、かさ密度が制御できるかについてさらに検討
の結果、コロイド粒子はアルコキシドの加水分解で析出
する酸化物の核となシ、その結果割れにくいゲルを得る
ことができるとわかった。
にてアルコキシドの加水分解時tたはそれ以前に液中に
コロイド粒子を[L5〜20モル係程度加えることを提
案している。このようにコロイド粒子を分散させておい
て、なぜ、かさ密度が制御できるかについてさらに検討
の結果、コロイド粒子はアルコキシドの加水分解で析出
する酸化物の核となシ、その結果割れにくいゲルを得る
ことができるとわかった。
本発明はコロイド粒子を加える時期が、ゾル液のゲル化
前であれば、加水分解が終了していても良いこと、コロ
イド粒子の量がアルコキシドの大むね100モル係以上
が好ましいこと、などの点で前記の発明と異なる。よシ
本質的には、本発明ではコロイド粒子は加水分解とは関
係なくゲル中に存在することにより、ゲルのすきま径を
均一性を損なわない範囲で大きくし、乾燥時のひずみに
対して割れにくいゲルを得るものである。
前であれば、加水分解が終了していても良いこと、コロ
イド粒子の量がアルコキシドの大むね100モル係以上
が好ましいこと、などの点で前記の発明と異なる。よシ
本質的には、本発明ではコロイド粒子は加水分解とは関
係なくゲル中に存在することにより、ゲルのすきま径を
均一性を損なわない範囲で大きくし、乾燥時のひずみに
対して割れにくいゲルを得るものである。
このとき加えるコロイド粒子の径が小さいと、割れを防
ぐ効果が少ないのでα005μ以上の粒径が必要である
。粒径が大きいとすきま径がますます大きくなυ割れを
防ぐ効果は増すが、均一性が損なわれる。本発明の目的
である、乾燥時に割れにくくかつ均一性の高いゲルを得
るためには、粒子はコロイドになり得る程度に小さいこ
とが好ましく、その径はおおむねQ、5μ以下である。
ぐ効果が少ないのでα005μ以上の粒径が必要である
。粒径が大きいとすきま径がますます大きくなυ割れを
防ぐ効果は増すが、均一性が損なわれる。本発明の目的
である、乾燥時に割れにくくかつ均一性の高いゲルを得
るためには、粒子はコロイドになり得る程度に小さいこ
とが好ましく、その径はおおむねQ、5μ以下である。
また粒子は適当な増粘作用を持つことが好ましい。
以上の理由から粒子は粒径α05μ以上であシコロイド
状態になり得る程度に小さいサイズ、特に好ましい粒径
としてはcL005μ以上11.5μ以下が挙げられる
。
状態になり得る程度に小さいサイズ、特に好ましい粒径
としてはcL005μ以上11.5μ以下が挙げられる
。
また、加える粒子の量はアル;キシドの濃度、加える粒
子の粒径・組成・OB基密度、その他の条件によシ大き
く異なるが、一般にはアルコキシドを原料とするガラス
成分の100モル係以上加えることが好ましい。粉末が
それ以上まざシにくくなるほどなるべく多くまぜるのが
好ましい結果をもたらすことが多い。
子の粒径・組成・OB基密度、その他の条件によシ大き
く異なるが、一般にはアルコキシドを原料とするガラス
成分の100モル係以上加えることが好ましい。粉末が
それ以上まざシにくくなるほどなるべく多くまぜるのが
好ましい結果をもたらすことが多い。
本発明方法に用いられる粒子の成分はガラス原料であれ
ば良い。例えば810!、もしくは5102にGo、P
、AL、Ti、Zr、an。
ば良い。例えば810!、もしくは5102にGo、P
、AL、Ti、Zr、an。
Pb、Os などの酸化物を加えたものなどを用いる
ことができるがこれに限定されない。
ことができるがこれに限定されない。
本発明においては、原料の少なくとも一つをシリコンの
アルコキシド例えばシリコンのメトキシド、ヱトキシド
等とし、これを加水分解してシリカゲルあるいは添加元
素を含むシリカゲルを得るが、加水分解条件唸特に限定
されるところはなく、例えばエタノールと混合後に水を
加える。またはpm調製剤としてのアンモニア等を加え
た水を加える等の方法による。また得られたゲルを乾燥
し焼結することも常法による。
アルコキシド例えばシリコンのメトキシド、ヱトキシド
等とし、これを加水分解してシリカゲルあるいは添加元
素を含むシリカゲルを得るが、加水分解条件唸特に限定
されるところはなく、例えばエタノールと混合後に水を
加える。またはpm調製剤としてのアンモニア等を加え
た水を加える等の方法による。また得られたゲルを乾燥
し焼結することも常法による。
本発明において上記した少なくともシリコンのアルコキ
シドを含む原料には、クリコンのアルコキシド以外に他
のアルコキシド、例えばGe、 B、 P、 At、
Ti、 Zr、 Eln などのアル;キシド
を加えておいても良い。またゾル液中にアル;キシド以
外の形、例えば塩の水溶液などの形で各種ドーパント元
素を含ませておいても良い。
シドを含む原料には、クリコンのアルコキシド以外に他
のアルコキシド、例えばGe、 B、 P、 At、
Ti、 Zr、 Eln などのアル;キシド
を加えておいても良い。またゾル液中にアル;キシド以
外の形、例えば塩の水溶液などの形で各種ドーパント元
素を含ませておいても良い。
ゾル液に粒子を混合した後、ゾル液を常法によシ乾燥し
て乾燥ゲルとする。
て乾燥ゲルとする。
このようにして得たゲルにドーパント分布をつけ、焼結
することによシ各種の微小光学部品を得ることができる
。微小光学部品としては例えば平面導波路等の光回路、
ロンドレンズなどが挙げられる。
することによシ各種の微小光学部品を得ることができる
。微小光学部品としては例えば平面導波路等の光回路、
ロンドレンズなどが挙げられる。
本発明方法に従って平面導波路を製造する工程は例えば
次のようなものである。上記の本発明方法によυ得られ
た平板上のゲルにアルコールをしみこませ、次に数十秒
間Go のアル;キシドのアルコール溶液につける。こ
れによシ表面にGe のアルコキシドを含む層ができる
。これをアルコールでうすめた水につけることによす、
表面のGeのアルコキシドが加水分解をおこし、該ゲル
の表面にGm01 を含む層ができる。
次のようなものである。上記の本発明方法によυ得られ
た平板上のゲルにアルコールをしみこませ、次に数十秒
間Go のアル;キシドのアルコール溶液につける。こ
れによシ表面にGe のアルコキシドを含む層ができる
。これをアルコールでうすめた水につけることによす、
表面のGeのアルコキシドが加水分解をおこし、該ゲル
の表面にGm01 を含む層ができる。
これを乾燥させ、焼結し、エツチングすることによシ、
平面導波路を得ることができる。平板状のゲルにフォト
レジストでパターンをつくってから上の工程を行なえば
うめこみ型の導波路が得られ、エツチングは不要となる
。
平面導波路を得ることができる。平板状のゲルにフォト
レジストでパターンをつくってから上の工程を行なえば
うめこみ型の導波路が得られ、エツチングは不要となる
。
オた本発明方法に従ってロンドレンズを製造する工程は
例えば次のようなものである。本発明方法によシ得られ
たロンド状のゲルPC08NO3水溶液をしみこませる
。これをHsBO8の水溶液に数分つけ、周辺部に向か
って0sNO3濃度はなだらかに減少し、H3BO3の
濃度はなだらかに上昇するゲルを得る。これを低温で短
時間で乾燥するよう、真空乾燥し、焼結する。これによ
シ径方向に屈折率分布を持つロンドレンズが得られる。
例えば次のようなものである。本発明方法によシ得られ
たロンド状のゲルPC08NO3水溶液をしみこませる
。これをHsBO8の水溶液に数分つけ、周辺部に向か
って0sNO3濃度はなだらかに減少し、H3BO3の
濃度はなだらかに上昇するゲルを得る。これを低温で短
時間で乾燥するよう、真空乾燥し、焼結する。これによ
シ径方向に屈折率分布を持つロンドレンズが得られる。
本発明によって得られるゲルは乾燥時、ドープ時に割れ
にくくかつ、均一性が高く精密なドーパント分布をつく
ることが容易に可能である。
にくくかつ、均一性が高く精密なドーパント分布をつく
ることが容易に可能である。
このため、上記の微小光学部品の製造に特に適している
。
。
本発明によって製造されるガラスは塊状のものにかぎら
ず、膜状、ファイバー状であっても良い。例えばガラス
基板上に本発明によシ得られるゾル液をぬりそのまま乾
燥させると数μ以上の厚みのゲル膜が得られる。これを
焼結すれば数μ以上の厚みのガラス膜も得ることができ
る。アルコキシドのみを原料とし、本発明のように粉末
を加えてないゾル液では同じ方法で1μ以上の膜をつく
るのは、膜が割れてしまうため困難である。
ず、膜状、ファイバー状であっても良い。例えばガラス
基板上に本発明によシ得られるゾル液をぬりそのまま乾
燥させると数μ以上の厚みのゲル膜が得られる。これを
焼結すれば数μ以上の厚みのガラス膜も得ることができ
る。アルコキシドのみを原料とし、本発明のように粉末
を加えてないゾル液では同じ方法で1μ以上の膜をつく
るのは、膜が割れてしまうため困難である。
以下、実施例及び比較例によって本発明の方法を具体的
に説明する。
に説明する。
実施例1
81(ocHs)4 ’AモルとエタノールAモルをマ
グネチツクスターラで混合し、該混合液の中にほう酸1
150 モルを含む、1.91アンそニア水1モルを
加えさらに混合した。これをミキサーに入れ、粒径α0
5μ程度のシリカ粒子(市販品、商品名アエロジル0X
−50)402を加え、激しくかきまぜ九。これをビー
カーに移し、60Torr 程度の圧力で脱気した後、
内径10鱈φのパイプに入れた。
グネチツクスターラで混合し、該混合液の中にほう酸1
150 モルを含む、1.91アンそニア水1モルを
加えさらに混合した。これをミキサーに入れ、粒径α0
5μ程度のシリカ粒子(市販品、商品名アエロジル0X
−50)402を加え、激しくかきまぜ九。これをビー
カーに移し、60Torr 程度の圧力で脱気した後、
内径10鱈φのパイプに入れた。
これを室温でゲル化させた後、水中で押し出し、アルミ
箔の上で室温で乾燥した。これを500c空気中で仮焼
後1450℃He中で焼結したところ、割れることなく
ガラスを得ることができた。
箔の上で室温で乾燥した。これを500c空気中で仮焼
後1450℃He中で焼結したところ、割れることなく
ガラスを得ることができた。
実施例2
コロイド粒子として、VADスス付けo際マツフルにつ
いた粉末40fを用い、原料にほう酸を加えず、アンモ
ニア水を13優にして、他は実施例1と同様にして乾燥
ゲルを得た。このゲルを、900℃で仮焼後、ゲルに1
0係はう酸水溶液をしみこませ再び乾燥した。900℃
の仮焼けほう酸水溶液をしみこませる際の割れを防ぐた
めに行った。こうして得られたゲルを温度500℃の空
気中で仮焼後1450cHe中で焼結し割れることなく
ガラスを得ることができた。
いた粉末40fを用い、原料にほう酸を加えず、アンモ
ニア水を13優にして、他は実施例1と同様にして乾燥
ゲルを得た。このゲルを、900℃で仮焼後、ゲルに1
0係はう酸水溶液をしみこませ再び乾燥した。900℃
の仮焼けほう酸水溶液をしみこませる際の割れを防ぐた
めに行った。こうして得られたゲルを温度500℃の空
気中で仮焼後1450cHe中で焼結し割れることなく
ガラスを得ることができた。
実施例3
コロイド粒子として粒径α012μ程度の7リ力粒子(
アエロジルの商品名で市販されている)15fを加えほ
う酸の量を17100モル、アンモニア水を11にした
ことの他は実施例1と同様にして10■φのパイプに入
ったゲルを得た。
アエロジルの商品名で市販されている)15fを加えほ
う酸の量を17100モル、アンモニア水を11にした
ことの他は実施例1と同様にして10■φのパイプに入
ったゲルを得た。
このゲルを水中で押しだし、半分はゆつくシ乾燥させる
ため20■φのパイプに入れ、半分はアルミ箔の上にの
せ共に室温で乾燥した。前者は割れ無しに乾燥し、50
0℃空気中で仮焼後1450℃He 中で焼結しガラス
を得ることができた。後者は乾燥中割れたが、かけらは
比較的大きく4〜5−程度でちった。
ため20■φのパイプに入れ、半分はアルミ箔の上にの
せ共に室温で乾燥した。前者は割れ無しに乾燥し、50
0℃空気中で仮焼後1450℃He 中で焼結しガラス
を得ることができた。後者は乾燥中割れたが、かけらは
比較的大きく4〜5−程度でちった。
比較例1
シリカ粒子を加えなかったことの他は実施例3と同様に
した。20■φのパイプ中で乾燥したものはクラックが
入っており、焼結を試みると発泡した。アルミ箔の上で
乾燥したものは粉々になりかけらは1〜21程度で小さ
かった。
した。20■φのパイプ中で乾燥したものはクラックが
入っており、焼結を試みると発泡した。アルミ箔の上で
乾燥したものは粉々になりかけらは1〜21程度で小さ
かった。
実施例4
フッ素を含む石英ガラス(屈折率1.453 )の板を
実施例1と同様にして得たゾル液につけ、ひき上げた後
、シャーレに入れフタをして、ゆつくシ乾燥した。これ
を温度500℃の空気中で仮焼後、1450℃にてHe
中で焼結し、得られたものを酸水素炎であぶ9透明なガ
ラス膜を得た。この膜厚は50f程度であシ、平面導波
路等の用途に十分使用できるものであった。
実施例1と同様にして得たゾル液につけ、ひき上げた後
、シャーレに入れフタをして、ゆつくシ乾燥した。これ
を温度500℃の空気中で仮焼後、1450℃にてHe
中で焼結し、得られたものを酸水素炎であぶ9透明なガ
ラス膜を得た。この膜厚は50f程度であシ、平面導波
路等の用途に十分使用できるものであった。
比較例2
フッ素を含む石英ガラスの板を比較例1と同様にして得
たゾル液につけ、ひき上げた後、シャーレに入れ7タを
してゆつくり乾燥した。得られたゲルの膜は0.3μ程
度であった。膜厚を厚くするためゾル液につけ乾燥する
ことを2回行ったものではゲル膜は割れていた。
たゾル液につけ、ひき上げた後、シャーレに入れ7タを
してゆつくり乾燥した。得られたゲルの膜は0.3μ程
度であった。膜厚を厚くするためゾル液につけ乾燥する
ことを2回行ったものではゲル膜は割れていた。
実施例5
実施例2で得たゲルを板状に研摩した後900℃で仮焼
した。これにエタノールをしみこませた後、G e (
o 0xHs)sの3%エタノール液に30秒つけすぐ
にエタノールに1秒つけた。さらに続いてエタノールの
50係水溶液20fに13%アンモニア水1滴を加えた
ものにつけ60分放置した。これをとシだして乾燥した
後10%のほう酸水溶液をしみこませ、再び乾燥した。
した。これにエタノールをしみこませた後、G e (
o 0xHs)sの3%エタノール液に30秒つけすぐ
にエタノールに1秒つけた。さらに続いてエタノールの
50係水溶液20fに13%アンモニア水1滴を加えた
ものにつけ60分放置した。これをとシだして乾燥した
後10%のほう酸水溶液をしみこませ、再び乾燥した。
これを500℃空気中で仮焼後1450℃He中で焼結
し、表面に屈折率の高い膚を持つ平面導波路母材を得た
。
し、表面に屈折率の高い膚を持つ平面導波路母材を得た
。
実施例6
実施例5と同様にして得た仮焼後のゲルを7オトレジス
トでマスクし、幅50f程度のみそを切った後、エタノ
ールをしみこませた。以下実施例5と同様にしてチャネ
ル型の平面導波路を得ることができた。
トでマスクし、幅50f程度のみそを切った後、エタノ
ールをしみこませた。以下実施例5と同様にしてチャネ
ル型の平面導波路を得ることができた。
比較例7
粒径的1012μのシリカ粒子120tと、水300f
とをミキサーで混合した後、乾燥機で乾燥するととによ
シ、シリカ粒子を造粒した。
とをミキサーで混合した後、乾燥機で乾燥するととによ
シ、シリカ粒子を造粒した。
B1(OClls)a ’Aモルと、エタノール捧モル
をマグネチックスターラで混合し、その中に[lL5%
のアンモニア水1モルを加え、さらに混合した後、これ
をミキサーに入れた。その9中に造粒したシリカ粒子2
52を加え、激しくかきまぜた。
をマグネチックスターラで混合し、その中に[lL5%
のアンモニア水1モルを加え、さらに混合した後、これ
をミキサーに入れた。その9中に造粒したシリカ粒子2
52を加え、激しくかきまぜた。
これをビーカーに移し、40 Torr 程度の圧力
で脱気した後、内径10−のパイプにこれを室温でゲル
化させた後、水中で押し出した後アルミ箔の上で載録さ
せた。このゲルを板状に研摩し、フォトレジストでマス
クしようとしたが、すきま径が大きいため、フォトレジ
ストはゲルにしみこみ、マークすることができなかった
。
で脱気した後、内径10−のパイプにこれを室温でゲル
化させた後、水中で押し出した後アルミ箔の上で載録さ
せた。このゲルを板状に研摩し、フォトレジストでマス
クしようとしたが、すきま径が大きいため、フォトレジ
ストはゲルにしみこみ、マークすることができなかった
。
(発明の効果)
本発明の方法は乾燥時割れに<<、焼結時発泡しに<<
、かつ均一性の高いゲルを得ることができ、それによシ
、均一性の高いガラスを効率良く製造することのできる
優れた効果を有する。
、かつ均一性の高いゲルを得ることができ、それによシ
、均一性の高いガラスを効率良く製造することのできる
優れた効果を有する。
Claims (1)
- (1)原料の少なくとも1つをシリコンのアルコキシド
とするゲル化しうるゾル液に、粒径 0.005μ以上であり、かつコロイド状態になり得る
程度に小さい粒子を混合した後、ゾル液をゲル化して、
これにより得られたゲルを乾燥し、該乾燥ゲルを焼結す
ることを特徴とするガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12435985A JPS61286230A (ja) | 1985-06-10 | 1985-06-10 | ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12435985A JPS61286230A (ja) | 1985-06-10 | 1985-06-10 | ガラスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61286230A true JPS61286230A (ja) | 1986-12-16 |
| JPH0551540B2 JPH0551540B2 (ja) | 1993-08-02 |
Family
ID=14883446
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12435985A Granted JPS61286230A (ja) | 1985-06-10 | 1985-06-10 | ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61286230A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6259516A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-16 | Tama Kagaku Kogyo Kk | シリカの製造方法 |
-
1985
- 1985-06-10 JP JP12435985A patent/JPS61286230A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6259516A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-16 | Tama Kagaku Kogyo Kk | シリカの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0551540B2 (ja) | 1993-08-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS63307140A (ja) | 超低膨張ガラスを製造するためのゾルーゲル法 | |
| JPH038729A (ja) | 多孔質ガラスの製造法 | |
| JPS61286230A (ja) | ガラスの製造方法 | |
| JPS59116135A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
| JPH054839A (ja) | ゾルゲル法による薄膜の作製方法 | |
| US6032487A (en) | Fabrication process of a gradient index type of optical element | |
| JPH0549610B2 (ja) | ||
| JPS62262734A (ja) | セラミックマイクロ球の製造方法 | |
| JPH05805A (ja) | ゾルゲル法による薄膜の作製方法 | |
| US5810899A (en) | Glass production | |
| JPS61256928A (ja) | ガラスの製造方法 | |
| JPS6296339A (ja) | 光フアイバ用母材の製造方法 | |
| JPS62226840A (ja) | 反射防止膜およびその製造方法 | |
| JPS6081034A (ja) | 光フアイバ−用母材の作製法 | |
| JPH03285833A (ja) | 多孔質ガラスの製造法 | |
| JPH02199033A (ja) | 光学ガラスの製造方法 | |
| JPS60131834A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
| JPS61270225A (ja) | シリカガラスの製造法 | |
| JPH0551539B2 (ja) | ||
| JPS61101425A (ja) | 屈折率勾配を有する光伝送ガラス体の製造方法 | |
| JPS6168329A (ja) | ガラスの製造方法 | |
| JPH06316420A (ja) | ガラスの製造方法 | |
| JPS589842A (ja) | 光学ガラスの製造方法 | |
| JPH0570150A (ja) | 屈折率分布型光学素子の製造方法 | |
| JPS6186428A (ja) | ガラスの製造方法 |