JPS61289531A - 磁気記録媒体の無配向化処理方法及び磁気記録媒体の製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 置に関する。

口、発明の背景 磁気記録媒体は、オーディオ用其他の録音用磁気テープ
、ＶＴＲ用の録画、録音用磁気テープ、コンピュータや
ワードプロセッサ等の磁気ディスク等として多用されて
いる。ＶＴＲ用磁気テープは、磁気ヘッドに対して所定
の角度を以て斜めに摺接するので、磁性層中の磁性粒子
がテープの長手方向のみに配向していては不都合であり
、前記の角度に配向己でいる磁性粒子の存在が必要であ
る。また、磁気ディスクは、周方向に配向している磁性
粒子の存在を必要とする。

近年、磁性層中の磁性粒子の高密度化が可能になり、磁
性粒子をランダムに配向させて無配向とし、前記のよう
な所定方向に配向する磁性粒子の数を増加することが可
能となっている。それで、長尺の無配向磁気記録媒体か
ら磁気テープや磁気ディスクを切出して、生産性を向上
しようとする試みがなされている。このような試みは、
特に磁気ディスク製造の生産性を著しく向上させること
に繋がる。

磁気記録媒体を無配向化させる方法としては、例えば次
のような方法が提案されている。

（ｉ）第一の配向磁場によって磁性塗料の塗布方向に磁
性粒子を配向させ、次に第一の配向磁場に対して逆方向
に、かつ、弱い第二の配向磁場によって無配向とする方
法（特開昭５３−１０４２０６号公報）（１１）第一の
配向磁場によって磁性塗料の塗布方向に磁性粒子を配向
させ、次に第一の配向磁場より弱い複数の配向磁場によ
って無配向とする方法（特開昭５４−１４９６０７号公
報）。

（ｉｉｉ）５（１１以上の磁石を磁性塗料の塗布面又は
反塗布面に交互に異なる極性で、かつ支持体の移送方向
に漸減するように配置し、かつ、互いに隣接する磁力線
が実質的に連続するようにして無配向化する方法（特開
昭５９−１２４０３９号公報）。

（ｉｖ）方向が交互に変わり（好ましくは＋４５°、−
４５°の角度で）、かつ向きが逆となる漸減磁場によっ
て無配向とする方法（特開昭５４−１５９２０４号公報
）。

（Ｖ）磁性塗料の塗布方向に対して５〜４５°の角度を
以て棒磁石を幅方向に分割配置させて無配向化する方法
（特開昭５９−４２６４４号公報）（ｖｉ）軸方向に磁
場が沿うような配向ローラによって無配向化する方法（
特開昭５７−１８９３４４号公！Ｉり（ｖｉ）塗布ウェ
ブの搬送方向に対して直角に磁界を形成するようにＮ極
、Ｓ極を交互にして多数の磁石を配置して無配向化する
方法（特開昭５９−１４８１４０号公報）。

（ｖｉｉ）磁性塗料の塗布方向に対して直角に磁界を形
成するようにＮ極、Ｓ極を交互に磁石を配して無配向化
する方法（特開昭５９−１４８１４０号公報）。

ところが、上記の従来法は次のような問題点を有してい
る。

（ｉ）〜（ｉｉｉ　）の方法では、磁場強度を所定のパ
ターンに設定する必要があり、測定や設定に再現性が乏
しく、操作上及び生産の安定性の上で不安定である。

（ｉｖ）及び（ｖ）の方法では、異なる磁性粒子に対し
て汎用性に乏しく、特に（ｉｖ）の方法では、方向が交
互に変わり、かつ、向きが逆で漸減する無配向アッセン
ブリを製作するのが困難である。

（ｖｉ　）、（ｖｉ　）及び（ｖｉｉ）の方法では、特
殊なローラを使用したり、或いは多数の磁石やソレノイ
ドを使用せねばならず、実用上の装置としては採用し難
い。

ハ、発明の目的 本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであって、
簡単な装置によって磁性粒子を効果的に無配向化させる
磁気記録媒体の無配向化処理方法及びその製造装置を提
供することを目的としている。

ニ、発明の目的 本発明の第一の発明は、磁性粒子を含有する層を支持体
上に形成し、前記支持体を複数の配向磁場に順次通過さ
せ、これら複数の配向磁場のうち、一方の配向磁場が前
記支持体の移動方向と交差する方向の配向磁場であり、
他方の配向磁場が前記支持体の移動方向及び／又はその
逆の方向の配向磁場である、磁気記録媒体の無配向化処
理方法に係る。

本発明の第二の発明は、磁性粒子を含有する層を支持体
上に形成する手段と；前記支持体の移動方向と交差する
方向の配向磁場と、前記支持体の移動方向及び／又はそ
の逆方向の配向磁場とからなる複数の配向磁場と；前記
層を乾燥させる乾燥手段とを備え、前記複数の配向磁場
のうちの後段側の一部が前記乾燥手段中に位置する、磁
気記録媒体の製造装置に係る。

１−場 □□□ｊ・ ホ、実施例 以下、実施例を挙げて本発明を詳述する。

第１図は装置の概要を示し、供給ロール２に巻付けられ
た支持体１は、磁性塗料塗布手段３に搬送されて磁性粒
子を含有する塗膜が形成され、第一の配向磁場４及び第
二の配向磁場５（これらの内容は後に詳述する。）を通
過して塗膜中の磁性粒子が無配向化され、引続き乾燥手
段６を通過して塗膜が乾燥して磁性層が形成され、次に
、カレンダロール７ａの組合せからなるカレンダ部７に
導かれてカレンダ処理され、巻取りロール２２に巻取ら
れる。かくして製造された磁気記録媒体は、図示しない
次のスリンティング工程又はディスク状に打ち抜く工程
に供せられる。同図中、３ａは塗布用対向ロール、３ｂ
は余分な塗料を掻き落とすブレード、３Ｃは磁性塗料で
ある。

磁気記録媒体において、磁性層のバインダー樹脂として
少なくともポリウレタンを使用できるが、これは、ポリ
オールとポリイソシアネートとの反応によって合成でき
る。使用可能なポリオールとして屹フタル酸、アジピン
酸、三量化リルイン酸、マレイン酸などの有機二塩基酸
と、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチ
レングリコール、ジエチレングリコールなどのグリコー
ル類若しくはトリメチロールプロパン、ヘキサントリオ
ール、グリセリン、トリメチロールエタン、ペンタエリ
スリトールなどの多価アルコール類若しくはこれらのグ
リコール類及び多価アルコール類の中から選ばれた任意
の２種以上のポリオールとの反応によって合成されたポ
リエステルポリオール；又は、Ｓ−カプロラクタム、α
−メチル−１−カプロラクタム、Ｓ−メチル−３−カプ
ロラクタム、γ−ブチロラクタム等のラクタム類から合
成されるラクトン系ポリエステルポリオール；又はエチ
レンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキ
サイドなどから合成されるポリエーテルポリオール等が
挙げられる。

これらのポリオールは、トリレンジイソシアネート、ヘ
キサメチレンジイソシアネート、メチレンジイソシアネ
ート、メタキシリレンジイソシアネート等のイソシアネ
ート化合物と反応させ、これによってウレタン化したポ
リエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタンや
、ホスゲンやジフェニルカーボネートでカーボネート化
したポリカーボネートポリウレタンが合成される。これ
らのポリウレタンは通常は主として、ポリイソシアネー
トとポリオールとの反応で製造され、そして遊離イソシ
アネート基及び／又はヒドロキシル基を含有するウレタ
ン樹脂又はウレタンプレポリマーの形でも、或いはこれ
らの反応性末端基を含有しないもの（例えばウレタンエ
ラストマーの形）であっても良い。

ポリウレタン、ウレタンプレポリマー、ウレタンエラス
トマーの製造方法、硬化架橋方法等については公知であ
るので、その詳細な説明は省略する。

なお、バインダー樹脂として上記のポリウレタンと共に
、フェノキシ樹脂及び／又は塩化ビニル系共重合体も含
有させれば、磁性層に通用する場合に磁性粉の分散性が
向上し、その機械的強度が増大する。但し、フェノキシ
樹脂及び／又は塩化ビニル系共重合体のみでは層が硬く
なり過ぎるが、これはポリウレタンの含有によって防止
でき、支持体又は下地層との接着性が良好となる。

使用可能なフェノキシ樹脂には、ビスフェノールＡとエ
ピクロルヒドリンの重合より得られる重合体であり、下
記一般式で表される。

（但し、ｎ′：ｉ８２〜１３） 例えば、ユニオンカーバイド社製のＰＫＨＣｌＰＫＨＨ
，ＰＫＨＴ等がある。

また、使用可能な上記の塩化ビニル系共重合体としては
、 で表されるものがある。この場合、 における！及びｍから導き出されるモル比は、前者のユ
ニットについては９５〜５０モル％であり、後者のユニ
７トについては５〜５０モル％である。また、Ｘは塩化
ビニルと共重合し得る単量体残基を表し、酢酸ビニル、
ビニルアルコール、無水マレイン酸等からなる群よる選
ばれた少な（とも１種を表す＊　　（ｌ＋ｍ）として表
される重合度は好ましくは１００〜６００であり、重合
度が１００未満になると磁性層等が粘着性を帯び易く、
６００を越えると分散性が悪くなる。上記の塩化ビニル
系共重合体は、部分的に加水分解されていても良い、塩
化ビニル系共重合体として、好ましくは塩化ビニル−酢
酸ビニルを含んだ共重合体（以下、「塩化ビニル−酢酸
ビニル系共重合体」という、）が挙げられる。塩化ビニ
ル−酢酸ビニル系共重合体の例としては、塩化ビニル−
酢酸ビニル−ビニルアルコール、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−無水マレイン酸の各共重合体が挙げられ、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル系共重合体の中でも、部分加水分解され
た共重合体が好ましい。上記の塩化ビニル−酢酸ビニル
系共重合体の具体例としては、ユニオンカーバイド社製
（７）ｒＶＡＧＨＪ、ｒＶＹＨＨＪ、ｒＶＭＣＨＪ、積
木化学社製の「エスレフクＡ」、「エスレソクＡ−５」
、「エスレソクＣ」、「エスレソクＭ」、電気化学工業
社製の「デンカビニル１０００ＧＪ、「デンカビニル１
００ＯＷＪ等が使用できる。

また、上記以外にも、バインダー樹脂として繊維素系樹
脂が使用可能であるが、これには、セルロースエーテル
、セルロース無機酸エステル、セルロース有機酸エステ
ル等が使用できる。セルロースエーテルとしては、メチ
ルセルロース、エチルセルロース等が使用できる。セル
ロース無機酸エステルとしては、ニトロセルロース、硫
酸セルロース、燐酸セルロース等が使用できる。また、
（’　／Ｌ／　ｔｅ＋−ス有機酸エステルとしては、ア
セチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリル
セルロース等が使用できる。これら繊維素系樹脂の中で
ニトロセルロースが好ましい。

また、バインダー組成全体については、上述のウレタン
樹脂と、その他の樹脂（フェノキシ樹脂と塩化ビニル系
共重合体等との合計量）との割合は、ＭＩ比で９０／１
０〜４０／６０であるのが望ましく、８５／１５〜４５
１５５が更に望ましいことが確認されている。この範囲
を外れて、ウレタン樹脂が多いと分散が悪くなり易く、
またその他の樹脂が多くなると表面性不良となり易く、
特に６０重量％を越えると塗膜物性が総合的にみてあま
り好ましくなくなる。塩化ビニル−酢酸ビニルの場合、
ウレタン樹脂とかなりの自由度で混合でき、好ましくは
ウレタン樹脂は１５〜７５重量％である。

磁気記録媒体を構成する層のバインダー樹脂としては、
前記したものの他、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応
型樹脂、電子線照射硬化型樹脂が使用されても良い。

熱可塑性樹脂としては、軟化温度が１５０℃以下、平均
分子量が１０，０００〜２００．０００、重合度が約２
００〜２．０００程度のもので、例えばアクリル酸エス
テル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル
−塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステル−スチ
レン共重合体が使用される。

熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、塗布液の状態
では２００．０００以下の分子量であり、塗布乾燥後に
は縮合、付加等の反応により分子量は無限大のものとな
る。また、これらの樹脂のなかで樹脂が熱分解する迄の
間に軟化又は熔融しないものが好ましい。具体的には、
例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラ
ミン樹脂、アルキッド樹脂等である。

電子線照射硬化型樹脂としては、不飽和プレポリマー、
例えば無水マレイン酸タイプ、ウレタンアクリルタイプ
、ポリエステルアクリルタイプ等が挙げられる。

磁性層中には、更にカーボンブランクを添加してよい。

このカーボンブランクは導電性のあるものが望ましいが
、遮光性のあるものも添加して良い。こうした導電性カ
ーボンブランクとしては、例えばコロンビアカーボン社
製のコンダクテフクス（Ｃｏｎｄｕｃｔｅｘ　）　９７
５　　（比表面積２５０ｍ／ｇ、粒径２４ｍμ）、コン
ダクテックス９００（比表面積１２５ｎ？／ｇ、粒径２
７ｍμ）、カボット社製のパルカン（Ｃａｂｏｔ　Ｖｕ
ｌｃａｎ）　Ｘ　Ｃ−７２（比表面積２５４ｄ／ｇ、粒
径３０ｍμ）、ラーベン１０４０．４２０、三菱化成社
製の＃４４等がある。遮光用カーボンブラックとしては
、例えばコロンビアカーボン社製のラーベン２０００　
（比表面積１９０ｍｆ／ｇ、粒径１８ｍ、ｕ）、２１０
０．１１７０．１０００、三菱化成社製の＃１００　、
＃７５、＃４０、＃３５、＃３０等が使用可能である。

カーボンブラックは、その吸油量が９０ｍｊ！　　（Ｄ
ＢＰ）　／１００ｇ以上であるとストラフチャー構造を
とり易（、より高い導電性を示す点で望ましい。

本発明において、磁気記録媒体は、例えば第１０図に示
すように、支持体１の両側に磁性層２０を有している。

磁性層２０に使用される磁性粉末、特に強磁性粉末とし
ては、γ−Ｆｅ　２０３、Ｃ。

含有ｒ−Ｆｅ　２０３、Ｆｅ３Ｏ４、ｃｏ含有Ｆｅ３Ｏ
４等の酸化鉄磁性粉；　Ｆ　ｅ　、Ｎ　ｉ　％　Ｃｏ、
Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｍｎ−Ｚｎ合金、Ｆｅ−
Ｎｉ−Ｚｎ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ合金、Ｆｅ−
Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ合金、（：、ｏ−Ｎｉ合金等Ｆｅ、Ｎｉ
、Ｃｏ等を主成分とするメタル磁性粉等各種の強磁性粉
が挙げられる。これらのうち、Ｃｏ含有酸化鉄やメタル
磁性粉が望ましい。

また、磁性粉のＢＥＴ値は２５ｒｙｆ／ｇ以上、更には
３０ｄ／ｇ以上が良く、磁性粉は針状を呈し、磁性塗料
の粘度は通常１０００〜５０００ＣＰ　Ｓである。磁性
層２０にはまた、潤滑剤（例えばシリコーンオイル、グ
ラファイト、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、
炭素原子数１２〜２０の一塩基性脂肪酸（例えばステア
リン酸）と炭素原子数が１３〜２６個の一価のアルコー
ルからなる脂肪酸エステル等）、研磨材（例えば熔融ア
ルミナ）、帯電防止剤（例えばグラファイト）等を添加
して良い。

なお、第１０図の磁気記録媒体は、磁性層２０と支持体
１との間に下引き層（図示せず）を設ける必要は必ずし
もない。

なお、上記の磁性層等の塗布形成時には、塗料中に架橋
剤としての多官能イソシアネートを所定量添加しておく
のが望ましい。こうした架橋剤としては、既述した多官
能ポリイソシアネートの他、トリフェニルメタントリイ
ソシアネート、トリス−（Ｐ−イソシアネートフェニル
）チオホスファイト、ポリメチレンポリフェニルイソシ
アネート等が挙げられる、メチレンジイソシアネート系
、トリレンジイソシアネート系が良い。

また、上述した支持体１の素材としては、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート
等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィ
ン類、セルローストリアセテート、セルロースダイアセ
テート等のセルロース誘導体、ポリカーボネートなどの
プラスチック、Ａβ、Ｚｎなどの金属などが使用される
。これら支持体の厚みはフィルム、シート状の場合は約
３〜１００μｍ程度、好ましくは２０〜７５μｍであり
、ディスク、カード状の場合は、３０μｍ〜１０鶴程度
であり、ドラム状の場合は円筒状とし、使用するレコー
ダーに応じてその型は決められる。

支持体上へ前記磁性塗料を塗布し磁性層を形成するため
の塗布方法としては、エアーナイフコート、ブレードコ
ート、ドクターブレードコート、エアーナイフコート、
スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、
トランスファーロールコート、グラビアコート、キスコ
ート、キャストコート、スプレィコート等が利用でき、
その他の方法も可能である。

第１図において、支持体１は、磁性塗料塗布手段３に搬
送されて磁性粒子を含有する塗膜が形成され、第一の配
向磁場４を通過する間に塗膜中の磁性粒子が搬送方向８
に対して交差する方向に配向される。このようにして塗
布手段３に於いて搬送方向８に平行な方向に機械的に配
向された磁性粒子の配向が打消される。

次に、支持体１が第二の配向磁場５を通過する間に、塗
膜中の磁性粒子は、搬送方向８及び／又はその逆の方向
に配向されようとして塗膜中で運動するが、この方向に
配向されきる以前に支持体１が乾燥手段６に入って塗膜
が乾燥し、磁性粒子の運動が止まるため、磁性粒子の向
きがランダムになって無配向となる。無配向化の程度を
高めるためには、第二の配向磁場５の後段側の一部が乾
燥手段６中に突入した構成とし、第二の配向磁場５に於
いて磁性粒子が運動している間に乾燥が開始するように
するのが望ましい。

磁性粒子が無配向化され、塗膜が乾燥して磁性層２０（
第１０図参照）が形成された支持体１は、カレンダ部７
を経て巻取りロール２２に巻取られる。

第１０図のように、磁性層２０を支持体１の両面に形成
するには、例えば上記の工程を２回繰返す。

次に第一の配向磁場４０例について説明する。

第２図は第一の配向磁場４の部分平面図で、支持体１の
搬送方向（矢印８で示す、）に対して角度θの方向に棒
磁石４ａが配置しである。

第３図は第２図のｍ−ｍ線に沿う拡大矢視断面図で、こ
の例では支持体１の塗膜（図示せず）側の棒磁石４ａが
、塗膜の反対側に棒磁石４ｂが対向して配置されていて
、磁力線９は支持体１の搬送方向８に対してθｌだけ傾
斜した方向を向いている。

塗布手段３において対向ロール３ａ（第１図参照）によ
って搬送方向８に機械的に配向させられた塗膜中の磁性
粒子（図示せず）は、磁力線９の方向に配向される。こ
れが無配向化の最初のステップとなる。

第２図の角度θは、−８０°〜−１０°又は１０°〜８
０”の範囲内の角度とするのが良い。角度θは、支持体
１の搬送方向８に対して、図に於いて右側をプラス、左
側をマイナスで示す。

角度θの絶対値は、小さい程、磁力線（第３図の９）の
支持体１に近接する部分の方向が搬送力顕著になるが、
これを余り小さくすると、支持体１の幅方向をカバーす
るためには極めて長い磁石を使用せねばならなくなり、
不都合である。この観点から角度θの絶対値は１０°以
上とするのが良い。

他方、角度θの絶対値が８０°を越える範囲では、磁力
線の支持体１に近接する部分の方向が搬送方向８と平行
に近付いて、無配向化の最初のステップとして不充分に
なる。

上記のように、角度θの絶対値は、効果の観点からは小
さく程良く、装置設計の観点からは大きい程好都合であ
るという、二律背反的な要素を含んでいる。磁性粒子の
運動を充分に活発にし、かつ磁石４ａの長さを余り長く
しないで済むようにするには、角度θの絶対値を４５°
〜７５°の範囲とするのが良い。

棒磁石４ａ、４ｂは、第３図に示すように、同極対向の
１組でも良いし、１組だけでは不充分であれば２組以上
としても良い、また、棒磁石は、塗膜側及びその反対側
のいずれか一方（４ａ、４ｂのいずれか一方）に配置し
ても良く、或いは一方の側に１個、他方の側に複数個配
置しても良い。

配向磁場の強度は、磁性粒子の抗磁力以下とし、特にこ
の抗磁力の１０〜５０％とするのが特に望ましい、また
、複数の磁石を用いる場合は、同一磁場強度とするのが
望ましく、装置の操作を容易ならしめる観点から有利で
ある。

なお、棒磁石に替えてソレノイドコイルを使用すること
もできる。

また、上記の例では、棒磁石によって互いに反対方向の
磁力線を形成し、磁性粒子を配向させているが、第４図
に示すように、電磁石４ｃを使用して一方向のみの磁力
線１０を形成し、磁性粒子の配向をさせても良い。この
場合、上記電磁石に供給する電力は、充分に低い周波数
の交流又は直流とする。

上記の例では、磁性塗料の塗布に引続いて支持体が第一
の配向磁場を通過するようにしているが、両工程を同時
に行う、即ち、第一の配向磁場中で磁性塗料を塗布する
ようにすることも可能である。

このようにすることにより、装置の小型化が可能となる
。

次に第二の配向磁場の例について述べる。

第二の配向磁場５内には、支持体１を挟んで同極対向で
搬送方向８の方向に互いに隣接する極が交互になるよう
に配置された各々ｎ個の棒磁石５ａ−１，５ａ−２、・
・・・・・・・・、５ａ−ｎ及び５ｂ−１，５ｂ−２、
・・・・・・・・・、５ｂ−ｎが配置されている。これ
らの棒磁石は、いずれも搬送方向８に直角の方向に配置
されている。棒磁石５ａ−３，５ｂ−３よりも後段の棒
磁石は、乾燥手段６に入り込んでいて、棒磁石５ａ−３
，５ｂ−３よりも後段でノズル６ａから温風６ｂが吹付
けられて塗膜の磁性粒子は、第二の配向磁場５に入ると
、棒磁石５ａ−１，５ａ−２、・・・・・・・・・、５
ａ−ｎ及び５ｂ−１，５ｂ−２、・・・・・・・・・、
５ｂ−ｎの磁力線１１（ＩＩＩ送方向８に平行）から搬
送方向８に配向させられる作用を受ける。然し、磁性粒
子が搬送方向８に配向させられきれる以前に温風６ｂに
よって塗膜の乾燥が開始され、磁性粒子は搬送方向８に
配向する途中の段階で塗膜の乾燥によって運動が阻げら
れ、その方向がランダムになる。その結果、磁性粒子が
無配向化される。

第５図の例では各磁石の磁力線が独立しているが、第６
図に示すように、互いに隣接する極に亘って磁力線が形
成するようにしても良い。

また、第７図に示すように、支持体１に対して塗膜側、
塗膜の反対側のいずれか一方（第７図では塗膜側）に配
置しても良く、また、互いに隣接する極が同極となるよ
うに磁石を配置しても良い。

また、第一の配向磁場に於けると同様に、棒磁石に替え
て直流ソレノイドコイルを使用することができ、また、
第８図に示すように、電磁石５Ｃみの磁力線１２を形成
し、これによって磁性粒子の無配向化を図るようにする
こともできる。この場合、上記電磁石に供給する電力は
、第４図に示した電磁石４ｃに於けると同様、充分に低
い周波数の交流又は直流とする。

磁場強度については、第一の配向磁場に於けると同様に
、磁性粒子の抗磁力よりも小さくし、その１０〜５０％
程度とするのが好ましい。

第二の配向磁場の入口側端部の磁力線の向きは、第一の
配向磁場の出口側端部の磁力線の向きに対して逆の方向
とするのが、磁性粒子の無配向をより完全にするために
望ましい。

第二の配向磁場の磁石の数（前記のｎ）は３個以上、更
に好ましくは１０個以上とするのが良い。

また、これら磁石の磁場強度は、装置の操作性の観点か
ら同一とするのが良い。

第二の配向磁場と乾燥開始時期とについて述べると、以
下の通りである。

支持体は、実質的に乾燥が開始してからなお少なくとも
１個又は１組の、好ましくは２個以上又は２組以上の磁
石の磁場を通過するようにするのが望ましい。実質的な
乾燥開始の直後に乾燥が完了する訳ではないので、乾燥
の進行過程でなお磁性粒子の運動が続くようにすると、
磁性粒子の運動は乾燥の進行に伴って鈍くなっていき、
やがて磁性粒子は固定するようになる。上記のように第
二の配向磁場の後段側の一部を乾燥手段と重複するよう
にすると、磁性粒子の向きは一部ランダムになり、塗膜
乾燥後の磁性層２０中の磁性粒子２１　（第１０図参照
）は高度に無配向化されるようになる。特に高度の無配
向化が要求される磁気ディスクの製造に当たっては、上
記のようにするのが良い。

なお、乾燥は、上記の例に於けるような風による強制乾
燥のほか、自然乾燥（この場合は速乾性のバインダ樹脂
を使用する。）、ハロゲンヒータランプや赤外線ランプ
による乾燥、其他適宜の方法によることができる。

上記の例では、前段の配向磁場を支持体搬送方向に対し
て前述した角度θ傾斜した方向に磁場を設けた配向磁場
とし、後段の配向磁場を支持体搬送方向に磁場を設けた
配向磁場としている。このようにすることにより、磁性
粒子の無配向化を高めることが容易になるが、必ずしも
この順序に配向磁場を配置しなくても良い。即ち、前段
の配向磁場を支持体搬送方向に磁場を設けた配向磁場と
し、後段の配向磁場を支持体搬送方向に対して角度θ傾
斜した方向に磁場を設けた配向磁場とすることも可能で
ある。

次に具体的な実施例を挙げて本発明を説明する。

厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートからなる支
持体の片面に、下記第１表に示す組成の磁性塗料をドク
ターブレード法により２９ｍ／＋ｗｉｎの搬送速度で乾
燥後の厚さが２．２μｍになるように塗布しながら下記
第２表に示す条件で無配向化処これらの条件によって製
造された磁気記録媒体について、第９図に示す支持体１
の搬送方向の角形比ＩＩと搬送方向に直角の方向の角形
比上を夫々測定し、これらの比、即ち配向度比（／Ｉ　
／上）０・を求めた。ここで角形比とは、（残留磁束密
度／最大磁束密度）を指す。併せて第一の配向磁場の影
響を確認するために、搬送方向に対して４５°の方向の
角形比／／、、−と、同じり一４５°の方向の角形比／
／−４５’を測定し、１１４Ｓ°を土−４１と考え、比
（／Ｉ　／工）−４９・を求めた。

結果は下記第３表に示す通りである。

第３表 比較例２は配向磁場を設けず、塗布工程での機械的配向
の値を示した。また、比較例１は配向磁場として第二の
配向磁場のみによって無配向化を図る例を示した。一般
に磁気記録媒体の配向度比はいずれの方向にも概ね１．
０５以下であることが要求されるが、比較例１．２共に
（Ｈ／工）−４５・は１．００に近い値を示しているも
のの、（／／／工）０・は１．０５を大きく上廻ってい
て、この要求を満足していない。このことはまた、磁性
粒子の抗磁力が大きくなり、かつ磁性層の厚さが薄くな
る近年の趨勢と、高生産性を図るために塗布速度を速く
しようとするのに大きな障害となると考えられる。

これらに対して実施例ではいずれも満足し得るい配向度
比を示しており、磁気ディスクに要求れている配向度比
の上限１．０５を充分に満足し、ど完全に無配向となっ
ている。

、発明の詳細 な説明したように、本発明の第一の発明は、性粒子を含
有する層を支持体上に形成し、磁性−子を支持体の移動
方向と交差する方向に配向させる配向磁場と、磁性粒子
を支持体の移動方向及び／又はその逆方向に配向させる
配向磁場との複数の配向磁場に前記支持体を通過させる
ので、磁性粒子は、方向が甚だしくは異ならない複数回
の配向処理が施される。従って、磁性粒子の運動が容易
であり、その結果、得られる磁気記録媒体は、高度に無
配向のものとなる。

また、本発明の第二の発明は、前記複数の配向磁場のう
ちの後段の配向磁場の後段側の一部が乾燥手段中に位置
するように構成しているので、前記の効果に加えて次の
ような効果が奏せられる。

即ち、後段の配向処理中に乾燥が開始し、後段の配向の
進行過程゛で磁性粒子が固定され、その結果、より高度
に無配向化された磁気記録媒体が得られる。

【図面の簡単な説明】

図面はいずれも本発明の実施例を示すものであって・ 第１図は磁気記録媒体の製造過程の概要を示す概略図、 第２図は第一の配向磁場の概略平面図、第３図は第２図
のｍ−ｍ線矢視拡大断面図、第４図は他の第一の配向磁
場の概略内部正面図、第５図は第二の配向磁場及び乾燥
手段の概略内部正面図、 第６図、第７図及び第８図は他の第二の配向磁場の概略
内部正面図、 第９図は角形比測定の方向を示す平面図、第１０図は磁
気記録媒体の拡大断面図 である。 なお、図面に示された符号に於いて、 １・・・・・・・・・支持体 ３・・・・・・・・・磁性塗料塗布手段３ｃ・・・・・
・・・・磁性塗料 ４・・・・・・・・・第一の配向磁場 ５・・・・・・・・・第二の配向磁場 ４ａ、４ｂ、５ａ−１，５ａ−２，５ａ−３，５ａ−ｎ
、５ｂ−１，５ｂ−２，５ｂ−３，５ｂ−ｎ・・・・・
・・・・棒磁石 ４ｃ、５ｃｍ１．５ｃｍ２．５ｃｍ３．６・・・・・・
・・・乾燥手段 ６ａ・・・・・・・・・ノズル ６ｂ・・・・・・・・・温風 ８・・・・・・・・・支持体搬送方向 ９．１０．１１．１２・・・・・・・・・磁力線２０・
・・・・・・・・磁性層 ２１・・・・・・・・・磁性粒子 である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　磁性粒子を含有する層を支持体上に形成し、前記支
   持体を複数の配向磁場に順次通過させ、これら複数の配
   向磁場のうち、一方の配向磁場が前記支持体の移動方向
   と交差する方向の配向磁場であり、他方の配向磁場が前
   記支持体の移動方向及び／又はその逆の方向の配向磁場
   である、磁気記録媒体の無配向化処理方法。 ２　磁性粒子を含有する層を支持体上に形成する手段と
   ；前記支持体の移動方向と交差する方向の配向磁場と、
   前記支持体の移動方向及び／又はその逆方向の配向磁場
   とからなる複数の配向磁場と；前記層を乾燥させる乾燥
   手段とを備え、前記複数の配向磁場のうちの後段側の一
   部が前記乾燥手段中に位置する、磁気記録媒体の製造装
   置。 ３　前段の配向磁場が、支持体の移動方向と交差する方
   向の配向磁場であり、後段の配向磁場が、支持体の移動
   方向及び／又はその逆方向の配向磁場である、特許請求
   の範囲第２項記載の磁気記録媒体の製造装置。