JPS61289560A - 光デイスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はレーザー光を用いて情報の記録・再生を行う光
学式記録・再生装置に用いられる高密度情報記録担体に
関するものであり、特に、耐久性に優れたプラスチック
製高密度情報記録担体に関するものであり、さらに、光
磁気特性に優れた光磁気記録・再生用高密度情報記録担
体に関するものである。

（従来技術） 光ディスクにおいて、現在技術的に最も重要な点は、プ
ラスチック基板を用いた場合の耐久性、すなわち信頼性
の向上をいかにして上げるかということである。

すなわち、ガラス基板に比較して種々の利点を有するプ
ラスチック基板上に形成した記録層はプラスチック基板
中に残留する水分やモノマー、あるいはプラスチック基
板を通して侵入する水分等によって劣化を受け、あるい
は変質してしまうという欠点があった。

本発明者は、昭和５９年２月２２日提出の「光学式情報
記録担体」と題する特願昭５９−３２２３０号に於て上
記欠点を解決する方法としてプラスチック基板と記録層
との間に無アルカリガラスの薄膜を設けることを提案し
た。

この方法は、光ディスクの耐久性を驚異的にのばし、完
全に満足のいくものであるが、本発明者は上記発明をさ
らに発展させ、耐久性を維持させたままＢＥＲ（ビ・シ
トエラ・＋レート）を改良させる条件を見出し、本発明
を完成した。

（発明の目的） 本発明の目的は上述した従来の問題を解決するために、
プラスチック基板をガラス様とし、平滑性、硬度、吸湿
変形性、耐湿性を改良して基板に基づく機能膜の劣化を
防止し、長期的に安定で、且つＥＢＲの小さい光学式情
報記録担体を提供することＫある。

本発明の他の目的は上記機能膜として希土類−遷移金属
アモルファス合金を用いた光磁気記録担体において光磁
気特性が大巾に向上した光学式情報記録担体を提供する
ことにある。

（発明の構成） 本発明は透明プラスチック基板と、この基板上に形成さ
れた無機ガラス薄膜層と、この無機ガラス薄膜層の上に
形成された高密度情報記録層とから成る高密度情報記録
担体において、上記無機ガラス薄膜層がアルカリ金属、
すなわちＬｉ、Ｎａ、に、Ｒｂ、Ｃｓをアルカリ金属酸
化物に換算して１重量％以下、好ましくは０．８重量％
以下しか含まない無アルカリガラスで構成されているこ
とを特徴としている。

本発明で用いられる上記透明プラスチック基板と高密度
情報記録層は、本出願人による前記特願昭５９−３２２
３０号明細書に詳細に説明されているので、ここではそ
れを引用し、詳細は省略する。

本発明の特徴は上記無アルカリガラス中のアルカリ金属
の量がアルカリ金属酸化物換算で１重量％以下、好まし
くは０．８重量％以下である点にある。

本発明の無アルカリガラス薄膜は理論的にはプラスチッ
ク基板上でアルカリ金属成分がアルカリ金属酸化物換算
で１重量％以下、好ましくは０．８重量％以下となるよ
うな任意の方法、例えば、複数の蒸着源から上記無アル
カリガラスの各成分を同時に蒸着させて形成してもよい
が工業的には上記特性の無アルカリガラスを用意し、そ
れを蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング等の
物理蒸着法を用いてプラスチック基板上へ形成するのが
好ましい。

アルカリ金属の量がアルカリ金属酸化物換算で１重量％
を超えると、記録層に亀裂が生じ、ＢＥＲが大きくなる
。この理由は明らかではないが、アルカリ金属がプラス
チック基板を通って来る水分やモノマーあるいは外気中
の水分と反応して記録層を劣化するのではないかと考え
られる。このアルカリ金属の景はアルカリ金属酸化物換
算で０８重量％以下であることがさらに好ましく、ガラ
スとして性質を損わない限り少ない方が好ましい。しか
し、工業的にはアルカリ金属をゼロにするのは困難であ
り、１重量％以下であれば実用上問題はない。

なお、本発明の無アルカリガラスには５ｉＯｚのみから
成る、いわゆるケイ酸ガラスは含まれない。すなわち、
耐湿用保護層として従来から５ｉＯｚを単独で蒸着する
ことは周知であるが、このケイ酸ガラス薄膜では耐湿性
はほとんど無い。

本発明の無アルカリガラス薄膜の厚さは１００〜２，０
ＯＯＡが好ましく、１００Ａ未満では保護の役目が不足
し、２，０ＯＯＡを超えるとレーザーの吸収等の問題が
生じ、また経済的でもない。

本発明は、高密度情報記録層としては、例えばＴｂ、　
Ｆｅ、　Ｃｏのような希土類−遷移金属のアモルファス
合金よりなる光磁気記録材を用いた光ディスクに適用す
るのが特に好ましいが、プラスチック中のモノマーや水
分および／または外部からの水分等によって劣化を受け
る記録材を用いた他の高密度記録担体全てに適用可能で
あることは明らかである。

なお、本発明の無アルカリガラス薄膜の保護層を記録層
の外側、すなわち基板と反対側にも形成して記録層を外
気から遮断することもできるのは当然である。

以下、実施例を用いて本発明を説明する。

（実施例） プラスチック基板として厚さが１．２１１ｍのアクリル
基板（ＰＭＭＡ）とポリカーボネート基板（ＰＣ）とを
用意した。これらの基板上にスパッタリング装置（日本
真空技術■製ＲＦマグネトロンバッタリング装置）を用
いて表１に示す各組成の無機ガラスをスパッタリングで
、膜厚５００Ａの薄膜に形成した後、その上にＧｄ　Ｏ
，１２Ｔｂ０．１２　　Ｆｅ０．７６　　の記録層を上
記スパッタリング装置を用いて膜厚１０００Ａに形成し
、さらに、その上に上記と同じ方法で同じ各無機ガラス
をスパッタリングして膜厚１０００Ａの薄膜層を形成し
た。

得られた光磁気ディスクの評価はディスクを４５℃、９
０　ＰＨ％　に３０日間維持した後のＥＢＲとＣ／Ｎ変
化率−＝＝＝ヨムヨ＝ヤエエ＝で判断し、その結果を表
１に示した。

表１かられかるように、アルカリ金属（Ｎａ）がアルカ
リ金属酸化物（ＮａｚＯ）換算で１重量％以下の場合に
ＥＢＲが小さくなるということがわかる。

表１ 特許出題人 ダイセル化学工業株式会社 手続補正書 昭和６０年７り／デ日 １、事件の表示 昭和６０年萄許ｇ呉Ｙ／多ＺＩ４１？４２、発明の名称 光ディスク ３、補正をする者 事件との関係　　特許出願人 住　所　大阪府堺市鉄砲町１番地 名　称（２９０）ダイセル化学工業株式会社４、補正の
対象　　　　　　　　　　　へ−′明細書の発明の詳細
な説明の欄、図面の簡単５、　補正の内容 １）明細書第３頁第１７行、第８頁第１行および第６行
目のｒＥＢＲＪをｒＢＥＲＪに補正する。

２）同第６頁第１５行目のｒ　Ｔｂ、Ｆｅ、Ｃｏ　Ｊを
ｒ　ＴｂＦｅＣｏ　Ｊに補正する。

３）同第７頁第７行目の「実施例」を「実施例１」に補
正する。

４）同第８頁第６行目の次に以下の実施例２を追加する
。

「（実施例２） 実施例１と同じ操作を繰返したが、実施例１の表１のサ
ンプル随Ａのガラスの膜厚を２５０．５００．７５０．
１０００　。

２０００Ｘに変えてポリカーボネート基板上に形成し念
ものを用いた。この場合の４５℃、９０ＲＨチに３０日
間維持した後の光磁気ディスクの各ＢＥＲを第１図に示
す。」 ５）第９頁の表１の次に下記を追加する。

【図面の簡単な説明】

第１図は実施例２に示されるガラス保 護膜の厚さと４５°Ｃ，，９０ＲＨ％、３０日経過後の
光磁気ディスクのＢＥＨの関係を示す図。」 ６）添付の「第１図」を追加する。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １）透明プラスチック基板と、この基板上に形成された
   高密度情報記録層と、上記基板と上記記録層との間に設
   けられた無機ガラス薄膜層とから成る高密度情報記録担
   体において、上記無機ガラス薄膜層がアルカリ金属をア
   ルカリ金属酸化物換算で１重量％以下しか含まない無ア
   ルカリガラスで構成されていることを特徴とする高密度
   情報記