JPS6140262A - ジヒドロピリジン誘導体の製法 - Google Patents
ジヒドロピリジン誘導体の製法Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は2,6−シメチルー4−(惰−ニトロフェー
ル)−1,4−ジヒドロピリジン−3゜5−ジカルボ/
酸−3−(1−べ/ジルピロリジンー3−イル)エステ
ル−5−メチルエステル(以下YM−09730と呼ぶ
)のジアステレオマー^の右旋性光学異性体を初めとし
て、種々の非対称1゜4−ジヒドロピリジン−3,5−
ジカルボン酸ジエステル類を製造するための中間体とし
て有用な一般式(I) ヲ有する5−低級アルコキシカルボニル−2,6−ジメ
テルー4−(Pニトロフェニル)−1゜4−ジヒドロピ
リジン−5−カルボン酸の製法に関する。
ル)−1,4−ジヒドロピリジン−3゜5−ジカルボ/
酸−3−(1−べ/ジルピロリジンー3−イル)エステ
ル−5−メチルエステル(以下YM−09730と呼ぶ
)のジアステレオマー^の右旋性光学異性体を初めとし
て、種々の非対称1゜4−ジヒドロピリジン−3,5−
ジカルボン酸ジエステル類を製造するための中間体とし
て有用な一般式(I) ヲ有する5−低級アルコキシカルボニル−2,6−ジメ
テルー4−(Pニトロフェニル)−1゜4−ジヒドロピ
リジン−5−カルボン酸の製法に関する。
(発明の背景)
従来、本発明の中間生成物の1.4−ジヒドロピリジン
−3,5−ジカルボン酸ジエステル類の分野においては
、そのエステルの加水分解は一般的に困難であシ、たと
えば、上記一般式(I)においてR1がメチル基である
化合物はChem、Pharm、Bul l0.舒(・
)、2809(1980)で公知であるが、この報文に
よれば対応する1、4−ジヒドロピリジン−3゜5−ジ
カルボン酸ジメチルエステルを水素化ナトリウム及びク
ロルメチルエチルエーテルと反応せしめ、ジヒドロビリ
ジ/環のイミノ基を保論し死後、金属ナトリウム、6−
シメチルー2−プロパノール及び水で加水分解し、次い
で酸処理してN−保睦基を除く、2段階法で製造してい
る。
−3,5−ジカルボン酸ジエステル類の分野においては
、そのエステルの加水分解は一般的に困難であシ、たと
えば、上記一般式(I)においてR1がメチル基である
化合物はChem、Pharm、Bul l0.舒(・
)、2809(1980)で公知であるが、この報文に
よれば対応する1、4−ジヒドロピリジン−3゜5−ジ
カルボン酸ジメチルエステルを水素化ナトリウム及びク
ロルメチルエチルエーテルと反応せしめ、ジヒドロビリ
ジ/環のイミノ基を保論し死後、金属ナトリウム、6−
シメチルー2−プロパノール及び水で加水分解し、次い
で酸処理してN−保睦基を除く、2段階法で製造してい
る。
また、本り化合物と4位の置換基が異なる類似化合物と
して、特公昭59−5183号に、4−(2゜3−ベン
ズオキサジアゾール−4−イル)−1。
して、特公昭59−5183号に、4−(2゜3−ベン
ズオキサジアゾール−4−イル)−1。
4−ジヒドロ−5−インプロポキシカルボニル−2,6
−シメチルー3−ピリジンカルボン酸が記載逼れておシ
、その記載によれば該化合物は対応する2−シアノエチ
ルエステルなる活性エステルを原料とし水−ジェトキシ
メタン、水酸化ナトリウム音用いるアルカリ性条件下の
加水分解によって製造しているが、収率に関する記載は
ない。
−シメチルー3−ピリジンカルボン酸が記載逼れておシ
、その記載によれば該化合物は対応する2−シアノエチ
ルエステルなる活性エステルを原料とし水−ジェトキシ
メタン、水酸化ナトリウム音用いるアルカリ性条件下の
加水分解によって製造しているが、収率に関する記載は
ない。
一方、従来4−ニトロフェニル−1,4−”ヒドロピリ
ジン−3,5−ジカルボン酸ジエステルの分野において
酸性条件下で加水分解して対応するハーフェステルを製
造したという報告は知らない。
ジン−3,5−ジカルボン酸ジエステルの分野において
酸性条件下で加水分解して対応するハーフェステルを製
造したという報告は知らない。
(解決するための手段)
今一、本発明者らL顕著な血管拡張作用を有するYM−
09750のジアステレオマーAの右旋性光学異性体の
製造中間体の製法につき研究した結果一方のエステルが
t@rt−ブチル基、テトラヒドロビ。
09750のジアステレオマーAの右旋性光学異性体の
製造中間体の製法につき研究した結果一方のエステルが
t@rt−ブチル基、テトラヒドロビ。
戸 。
ラニh基、?−7トキシベンジル基又はベンズヒドリル
基などの特定のエステルを有する化合物を用いて臭化水
素酸−酢酸等の酸で加水分解すると、一段階で容易に目
的物(I)とじうろことをつきとめ、本発明を完成した
。
基などの特定のエステルを有する化合物を用いて臭化水
素酸−酢酸等の酸で加水分解すると、一段階で容易に目
的物(I)とじうろことをつきとめ、本発明を完成した
。
なお、YM−09730のジアステレオマー^の右旋性
光学異性体紘新規な化合物であり、その詳細はI#願昭
59−114098号明細書に記載されている。
光学異性体紘新規な化合物であり、その詳細はI#願昭
59−114098号明細書に記載されている。
本発明によれば、第1工程において
一般式(2)
%式%
(式中、R1Fi加水分解処理において他の基に影譬を
与えることなく容易に脱離しうるエステル残基を意味す
る。)で示される2−にトロベンジリデン)アセト酢酸
エステルと 一般式(2) (式中、R2は低級アルキル基を意味する。)で示され
る3−アミノクロトン酸エステルとを反応させるか、又
は 弐〇 で示されるニトロベンズアルデヒドと 一般式(V) CHiCOCHzCOOR’ (9)(R’a
上記の意味を 有する。) で示されるアセト酢酸エステルと上記アミノクーロ一般
式→ で示される2、6−ジメテルー4−二トロ7工二ルー1
.4−ジヒ^リジン−6,5−ジカルボン酸ジエステル
を製造し、次に第2工程として該化合物を酸性条件下に
選択的に加水分解することによって 一般式(I) で示される3−低級アルコキシカルボニル−2゜6−シ
メチルー4−二トロフェニル−1,4−ジヒドロピリジ
ン−5−カルボン酸を製造することができる。
与えることなく容易に脱離しうるエステル残基を意味す
る。)で示される2−にトロベンジリデン)アセト酢酸
エステルと 一般式(2) (式中、R2は低級アルキル基を意味する。)で示され
る3−アミノクロトン酸エステルとを反応させるか、又
は 弐〇 で示されるニトロベンズアルデヒドと 一般式(V) CHiCOCHzCOOR’ (9)(R’a
上記の意味を 有する。) で示されるアセト酢酸エステルと上記アミノクーロ一般
式→ で示される2、6−ジメテルー4−二トロ7工二ルー1
.4−ジヒ^リジン−6,5−ジカルボン酸ジエステル
を製造し、次に第2工程として該化合物を酸性条件下に
選択的に加水分解することによって 一般式(I) で示される3−低級アルコキシカルボニル−2゜6−シ
メチルー4−二トロフェニル−1,4−ジヒドロピリジ
ン−5−カルボン酸を製造することができる。
上記一般式で示された化合物において足義されているR
1は例えに第3級ブチル基、テトラヒドロφ ピラニル基、捻−メトキシベンジル基、ベンズヒドリル
基等であシ、RZは例えばメチルまたはエチル基である
。
1は例えに第3級ブチル基、テトラヒドロφ ピラニル基、捻−メトキシベンジル基、ベンズヒドリル
基等であシ、RZは例えばメチルまたはエチル基である
。
第1工程の反応は例えばtert−ブタノール、イソプ
ロパノール等の有機溶媒中加熱還流下に行うのが有利で
あシ、また第2工程の選択的加水分解は臭化水木酢酸溶
液の存在下などの酸性条件下で容易に遂行される。
ロパノール等の有機溶媒中加熱還流下に行うのが有利で
あシ、また第2工程の選択的加水分解は臭化水木酢酸溶
液の存在下などの酸性条件下で容易に遂行される。
(発明の効果)
本発明によって得ら4する化合物(I)はYM−097
50のジアステレオマー^の右旋性光学異性体や極々の
非対称ジヒドロピリジン化合物の製造中間体として有用
である。
50のジアステレオマー^の右旋性光学異性体や極々の
非対称ジヒドロピリジン化合物の製造中間体として有用
である。
本発明方法によればエステル残基の脱離のためにジヒド
ロピリジン環7gに保護基を導入する必要なく、一段階
で逍択的に脱離させることができ収率、簡便性の点で格
別に有利である。なお本中間体化合物からのYM−09
750裂造過程り次の通シである。
ロピリジン環7gに保護基を導入する必要なく、一段階
で逍択的に脱離させることができ収率、簡便性の点で格
別に有利である。なお本中間体化合物からのYM−09
750裂造過程り次の通シである。
五喋
本発明の化合物を例えは丑城化リン等で活性化Lり後、
(s)−←)−1−ベンジル−5−ヒドロキシピロリジ
ンと反応させてジアステレオマーA、8の混合物となし
、これをシリカゲルを担体とし、酢酸エチル−酢酸を溶
#II液とするカラムクロマトグラフィーで分離し、次
いで塩酸で処理することカ またニデルジビン、ニトレンジピンやニモジピyなどの
非対照エステル類を製造するには対応するベンジルメチ
ルアミノエタノール、メタノールあるいはエタノール、
メトキシエタノールを用いて常法によジエステル化する
。
(s)−←)−1−ベンジル−5−ヒドロキシピロリジ
ンと反応させてジアステレオマーA、8の混合物となし
、これをシリカゲルを担体とし、酢酸エチル−酢酸を溶
#II液とするカラムクロマトグラフィーで分離し、次
いで塩酸で処理することカ またニデルジビン、ニトレンジピンやニモジピyなどの
非対照エステル類を製造するには対応するベンジルメチ
ルアミノエタノール、メタノールあるいはエタノール、
メトキシエタノールを用いて常法によジエステル化する
。
(実施例)
実施例1
g1工程:5−メトキシカルボニル−2,6−シメチル
ー4−(、−二トロフェニル)−1,4−ジヒドロピリ
ジン−5−tert−ブチルエステルの製造。
ー4−(、−二トロフェニル)−1,4−ジヒドロピリ
ジン−5−tert−ブチルエステルの製造。
2− (tI&−ニトロベンジリデン)アセト酢酸te
rt−ブチルエステル5.56tおよび3−アミノクμ
トン酸メチルエステル1.41fとをtert−ブタノ
ール7ゴ中20時間加熱還流に付する。溶媒を減圧下留
去し得られる油状物にn−へキサンを加えて結晶化し、
目的とする5−メトキシカルボニル−2,6−ジメテル
ー4−(惰−二トロフェニル)−1,4−ジヒドロピリ
ジン−3−tart−ブチルエステルの黄色結晶4.6
fを得る。融点120〜122t。
rt−ブチルエステル5.56tおよび3−アミノクμ
トン酸メチルエステル1.41fとをtert−ブタノ
ール7ゴ中20時間加熱還流に付する。溶媒を減圧下留
去し得られる油状物にn−へキサンを加えて結晶化し、
目的とする5−メトキシカルボニル−2,6−ジメテル
ー4−(惰−二トロフェニル)−1,4−ジヒドロピリ
ジン−3−tart−ブチルエステルの黄色結晶4.6
fを得る。融点120〜122t。
第2工程=5−メトキシカルボニル−2,6−シメチル
ー4− (m−ニトロフェニル)−1,4−ジヒドロピ
リジン−5−カルボン酸の製造。
ー4− (m−ニトロフェニル)−1,4−ジヒドロピ
リジン−5−カルボン酸の製造。
25%臭化水素酢酸溶液5 tniに、氷水呉において
前工程の生成物2.52のトルエン溶液5−を滴下する
。氷水冷却下で5分間攪拌した後、氷水50−に注ぐ。
前工程の生成物2.52のトルエン溶液5−を滴下する
。氷水冷却下で5分間攪拌した後、氷水50−に注ぐ。
10%水酸化ナトリウムを用いて塩基性とした後、トル
エンで抽出する。水層を濃塩酸で酸性とし、析出する結
晶をろ取する。結晶をエーテルで洗浄して目的とする5
−メトキシカルボニル−2,6−シメチルー4−(惰−
二トロフェニル)−1,4−ジヒドロピリシン−5−力
竹舅 ルボン酸1.24f t−得る。融点205〜204°
C(向な)。
エンで抽出する。水層を濃塩酸で酸性とし、析出する結
晶をろ取する。結晶をエーテルで洗浄して目的とする5
−メトキシカルボニル−2,6−シメチルー4−(惰−
二トロフェニル)−1,4−ジヒドロピリシン−5−力
竹舅 ルボン酸1.24f t−得る。融点205〜204°
C(向な)。
第1工程の出発物質である2−(fn−二トロベンジリ
デン)アセト酢r11t・「t−ブチルエステルは次の
ようにして製造される。
デン)アセト酢r11t・「t−ブチルエステルは次の
ようにして製造される。
惰−二トロベンズアルデヒド6.04t 、アセト酢散
t@rt−ブチルエステル6.52f、ピペリジン0.
172および酢$ 0.611dのベンゼン溶液20−
を共沸脱水装置を用いて6時間加熱還流に付する。冷後
、水10mを加え、ベンゼン層を分取する。ベンゼン層
を飽和炭酸水素す) IJウム水溶液、飽和食塩水で順
次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒
を減圧下留去した後、得られる残渣をシリカゲルカ2ム
クロマトグラフイーに付する。
t@rt−ブチルエステル6.52f、ピペリジン0.
172および酢$ 0.611dのベンゼン溶液20−
を共沸脱水装置を用いて6時間加熱還流に付する。冷後
、水10mを加え、ベンゼン層を分取する。ベンゼン層
を飽和炭酸水素す) IJウム水溶液、飽和食塩水で順
次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒
を減圧下留去した後、得られる残渣をシリカゲルカ2ム
クロマトグラフイーに付する。
n−ヘキサン:酢酸エチル(5:1容量比)溶出部よシ
得られる結晶をn−ヘキサンで洗浄し、無色結晶として
2−(倶−ニトロベンジリデン)アセト酢酸t@rt−
ブチルエステルの幾何異性体の混合物5.82Fを得る
。融点53〜36℃。
得られる結晶をn−ヘキサンで洗浄し、無色結晶として
2−(倶−ニトロベンジリデン)アセト酢酸t@rt−
ブチルエステルの幾何異性体の混合物5.82Fを得る
。融点53〜36℃。
実施例2
第1工程:5−メトキシカルボニル−2,6−シメチル
ー4−(渭−ニトロフェニル)−1,4−ジヒドロピリ
ジン−3−tart−ブチルエステルの製造。
ー4−(渭−ニトロフェニル)−1,4−ジヒドロピリ
ジン−3−tart−ブチルエステルの製造。
溝−ニトロベンズアルデヒド7.55F、 5−7ミノ
クロトン酸メチルエステル5.75fおよびアセト酢酸
tert−ブチルエステル7.9Ofのtert−ブタ
ノール溶液25−を22時間加熱還流に付する。溶媒を
減圧下留去し、得られる残渣をトルエン15〇−に溶解
し、10チ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム溶液および飽
和食塩水で順次洗浄し友後、無水炭酸マグネシウムで乾
燥する。溶媒を減圧下で留去し、油状物19.62Fを
得る。
クロトン酸メチルエステル5.75fおよびアセト酢酸
tert−ブチルエステル7.9Ofのtert−ブタ
ノール溶液25−を22時間加熱還流に付する。溶媒を
減圧下留去し、得られる残渣をトルエン15〇−に溶解
し、10チ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム溶液および飽
和食塩水で順次洗浄し友後、無水炭酸マグネシウムで乾
燥する。溶媒を減圧下で留去し、油状物19.62Fを
得る。
第2工程:5−メトキシカルボニル−2,6−シメチル
ー4−(常−ニトロフェニル)−1,4−ジヒドロピリ
ジン−3−カルボン酸の製造。
ー4−(常−ニトロフェニル)−1,4−ジヒドロピリ
ジン−3−カルボン酸の製造。
前工程の生成物をトルエン20mに溶解し、氷水冷却下
25%74化水素酢酸溶液20−に滴下する。同温度で
5分間攪拌した後、氷水200dに注ぐ。10チ水8ト
リウム250−を加え、塩基性とした抜トルエン100
−で抽出する。水層を濃塩酸で酸性とし、析出する結晶
をろ取して目的とする生Ilt1w4.51fを得る。
25%74化水素酢酸溶液20−に滴下する。同温度で
5分間攪拌した後、氷水200dに注ぐ。10チ水8ト
リウム250−を加え、塩基性とした抜トルエン100
−で抽出する。水層を濃塩酸で酸性とし、析出する結晶
をろ取して目的とする生Ilt1w4.51fを得る。
実施例3
実施例2の6−アミノクロトン酸エチルエステルのかわ
りに6−アミノクロトン酸エチルエステルを用いて同様
に処理し、5−エトキシカルボニル−2,6−シメチル
ー4−(常−ニトロフェニル)−1,4−ジヒドロピリ
ジン−3−カルボン酸を得る。融点195t(分解)。
りに6−アミノクロトン酸エチルエステルを用いて同様
に処理し、5−エトキシカルボニル−2,6−シメチル
ー4−(常−ニトロフェニル)−1,4−ジヒドロピリ
ジン−3−カルボン酸を得る。融点195t(分解)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は加水分解処理において他の基に影響を
与えることなく容易に脱離しうるエステル残基を意味す
る。)で示される2−(ニトロベンジリデン)アセト酢
酸エステルと 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2は低級アルキル基を意味する。)で示さ
れる3−アミノクロトン酸エステルとを反応させるか、
又は 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示されるニトロベンズアルデヒドと 一般式 CH_3COCH_2COOR^1(R^1は上記の意
味を有する。)で示されるアセト酢酸エステルと上記3
−アミノクロトン酸エステルとを反応させて、一般式▲
数式、化学式、表等があります▼(R^1およびR^2
は上記の意味を有する)で示される2,6−ジメチル−
4−(ニトロフエニル)−1,4−ジヒドロピリジン−
3,5−ジカルボン酸ジエステルを製造し、次いで酸で
選択的に加水分解することを特徴とする 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(R^2は上記の意
味を有する) で示される3−低級アルコキシカルボニル−2,6−ジ
メチル−4−ニトロフエニル−1,4−ジヒドロピリジ
ン−5−カルボン酸の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16332384A JPS6140262A (ja) | 1984-08-01 | 1984-08-01 | ジヒドロピリジン誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16332384A JPS6140262A (ja) | 1984-08-01 | 1984-08-01 | ジヒドロピリジン誘導体の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6140262A true JPS6140262A (ja) | 1986-02-26 |
| JPH0517906B2 JPH0517906B2 (ja) | 1993-03-10 |
Family
ID=15771657
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16332384A Granted JPS6140262A (ja) | 1984-08-01 | 1984-08-01 | ジヒドロピリジン誘導体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6140262A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0957789A (ja) * | 1995-08-25 | 1997-03-04 | Ube Ind Ltd | 射出溶着用材料 |
-
1984
- 1984-08-01 JP JP16332384A patent/JPS6140262A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0957789A (ja) * | 1995-08-25 | 1997-03-04 | Ube Ind Ltd | 射出溶着用材料 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0517906B2 (ja) | 1993-03-10 |
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