JPS6142308A - 複合膜の製法 - Google Patents
複合膜の製法Info
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- JPS6142308A JPS6142308A JP16418285A JP16418285A JPS6142308A JP S6142308 A JPS6142308 A JP S6142308A JP 16418285 A JP16418285 A JP 16418285A JP 16418285 A JP16418285 A JP 16418285A JP S6142308 A JPS6142308 A JP S6142308A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D69/12—Composite membranes; Ultra-thin membranes
-
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/56—Polyamides, e.g. polyester-amides
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
形し、引き続いてｍ−フェニレンジアミンおよび種々の
多官能性酸塩化物のその場重合を行なって、多孔性ポリ
スルホン膜の上に薄膜を生成させることにより、複合逆
浸透膜を製造する方法に関する。
多官能性酸塩化物のその場重合を行なって、多孔性ポリ
スルホン膜の上に薄膜を生成させることにより、複合逆
浸透膜を製造する方法に関する。
米国特許第３，９２６，７９８号は、ポリスルホンの如
き支持フィルムおよび酸重合されたフルフリルアルコー
ルの層からなる、複合逆浸透膜を開示している。
き支持フィルムおよび酸重合されたフルフリルアルコー
ルの層からなる、複合逆浸透膜を開示している。
米国特許第４，０３９，４４０号は、ポリスルホンの如
き支持体の上に製造された複合逆浸透膜を開示している
。ポリエチレンイミンが水溶液から支持体の１−へ堆積
され、多官能性試剤で処理されて膜を生成させる。
き支持体の上に製造された複合逆浸透膜を開示している
。ポリエチレンイミンが水溶液から支持体の１−へ堆積
され、多官能性試剤で処理されて膜を生成させる。
米国特許第４．２７７．３４４号は、その好ましい形に
おいては、多孔性ポリスルホン支持体上のポリ（フェこ
レンジアミントリメスアミド）の超薄膜である、複合逆
浸透膜を開示している。この膜は、ポリスルホンの溶液
を表面上に流し造成形し、溶媒を一部蒸発させ、こうし
て一部生成された多孔性の支持部材を水の中で急冷して
ポリマーをゲル化させ、この支持部材をフェニレンジア
ミンで含浸させ、そしてこの支持部材をトリメソイルク
ロリドの溶液で処理して、多孔性ポリスルホン支持体の
１−にポリ（フェニレンジアミントリメスアミド）の超
薄層を有する逆浸透膜を形成することによって製造され
る。
おいては、多孔性ポリスルホン支持体上のポリ（フェこ
レンジアミントリメスアミド）の超薄膜である、複合逆
浸透膜を開示している。この膜は、ポリスルホンの溶液
を表面上に流し造成形し、溶媒を一部蒸発させ、こうし
て一部生成された多孔性の支持部材を水の中で急冷して
ポリマーをゲル化させ、この支持部材をフェニレンジア
ミンで含浸させ、そしてこの支持部材をトリメソイルク
ロリドの溶液で処理して、多孔性ポリスルホン支持体の
１−にポリ（フェニレンジアミントリメスアミド）の超
薄層を有する逆浸透膜を形成することによって製造され
る。
本発明の方法は、ポリスルホンの溶液を支持体表面上代
波し造成形し、そして生成する部材をｍ−フェニレンジ
アミンの水溶液中で急冷して、ポリスルホンをゲル化さ
せ、多孔性の膜支持体を生成させ、そして支持体にｍ−
フェニレンジアミンを含浸させることを含むものである
。過剰の水溶液は除去され、含浸された膜は次にトリメ
ンイルクロリド、１，３．５−シクロヘキサントリカル
ボニルクロリドもしくはこれらのものの混合物の如き多
官能性の酸塩化物の稀薄溶液で処理されるが、このもの
はｍ−フェニレンジアミンと急速に反応して、多孔性ポ
リスルホンに支持された超薄膜を生成する。
波し造成形し、そして生成する部材をｍ−フェニレンジ
アミンの水溶液中で急冷して、ポリスルホンをゲル化さ
せ、多孔性の膜支持体を生成させ、そして支持体にｍ−
フェニレンジアミンを含浸させることを含むものである
。過剰の水溶液は除去され、含浸された膜は次にトリメ
ンイルクロリド、１，３．５−シクロヘキサントリカル
ボニルクロリドもしくはこれらのものの混合物の如き多
官能性の酸塩化物の稀薄溶液で処理されるが、このもの
はｍ−フェニレンジアミンと急速に反応して、多孔性ポ
リスルホンに支持された超薄膜を生成する。
本発明の第一・段階は、芳香族ポリスルホンからミクロ
ポーラス基板もしくは支持体を製造することである。好
ましいポリスルホン基板は、究極的には約２０ｎｍより
小さい直径の孔を有するものである。これは、有極性有
機溶媒中のｌＯ乃至２０重量％、好ましくは１４〜！６
重量％のポリスルホン溶液から流し造成形することによ
って容易に達成される。好ましい溶媒はジメチルホルム
アミドであるが、ジメチルアセトアミドおよびＮ−メチ
ルビロリドンの如き他の有極性溶媒もまた使用し得る。
ポーラス基板もしくは支持体を製造することである。好
ましいポリスルホン基板は、究極的には約２０ｎｍより
小さい直径の孔を有するものである。これは、有極性有
機溶媒中のｌＯ乃至２０重量％、好ましくは１４〜！６
重量％のポリスルホン溶液から流し造成形することによ
って容易に達成される。好ましい溶媒はジメチルホルム
アミドであるが、ジメチルアセトアミドおよびＮ−メチ
ルビロリドンの如き他の有極性溶媒もまた使用し得る。
本発明の方法における次の段階が本発明では重要である
。新しく流し造成形されたポリスルホン基板な、０．１
〜１０重量％、好ましくは０．５〜５重量％、そして最
も好ましくは１〜３重量％のｍ−フェニレンジアミンを
含有する水溶液の中で直ちに急冷する。直ちにというの
は、３０秒以内を意味するものとし、好ましくは３秒以
内とする。流し造成形および急冷の間のこの短い時間を
もってしてもなお、溶媒の一部の蒸発は起り得る。これ
とは別に、ポリスルホン溶液は、ｍ −フェニレンジア
ミンの水溶液の中へ直接流し造成形もしくは押出成形す
ることができる。これはポリスルホン基板にｍ−フェニ
レンジアミンをのせる働きをする。ジアミンの濃度は、
基板の上に支持された究極のポリアミドの一様性および
厚さをこれが制御し得るので、結果として得られる複合
材料の性能における重要な因子である。もしコーティン
グが一様でなければ、膜の塩排除性（ＳａＩｔｒｅＪｅ
ｃｔｉｏｎ）に悪影響を及ぼす、小さい穴を有したり或
いは発現させたりしやすい。
。新しく流し造成形されたポリスルホン基板な、０．１
〜１０重量％、好ましくは０．５〜５重量％、そして最
も好ましくは１〜３重量％のｍ−フェニレンジアミンを
含有する水溶液の中で直ちに急冷する。直ちにというの
は、３０秒以内を意味するものとし、好ましくは３秒以
内とする。流し造成形および急冷の間のこの短い時間を
もってしてもなお、溶媒の一部の蒸発は起り得る。これ
とは別に、ポリスルホン溶液は、ｍ −フェニレンジア
ミンの水溶液の中へ直接流し造成形もしくは押出成形す
ることができる。これはポリスルホン基板にｍ−フェニ
レンジアミンをのせる働きをする。ジアミンの濃度は、
基板の上に支持された究極のポリアミドの一様性および
厚さをこれが制御し得るので、結果として得られる複合
材料の性能における重要な因子である。もしコーティン
グが一様でなければ、膜の塩排除性（ＳａＩｔｒｅＪｅ
ｃｔｉｏｎ）に悪影響を及ぼす、小さい穴を有したり或
いは発現させたりしやすい。
場合によりジアミン溶液は１０重量％までのジメチルホ
ルムアミドの如き有極性有機溶媒を含有し得る。過剰の
溶液は、線条（ｄｒａｗｉｎｇ）、圧延（ｒｏｌｌｉｎ
ｇ）、スポンジがけ（ｓｐ。
ルムアミドの如き有極性有機溶媒を含有し得る。過剰の
溶液は、線条（ｄｒａｗｉｎｇ）、圧延（ｒｏｌｌｉｎ
ｇ）、スポンジがけ（ｓｐ。
ｎｇｉｎｇ）もしくはエアナイフ（ａｉｒ−ｋｎｉｆｅ
）の使用の如き他の好適な手段によって、基板の表面か
ら取り除かれる。
）の使用の如き他の好適な手段によって、基板の表面か
ら取り除かれる。
負荷された基板を、次に、ポリスルホン基板の多孔性構
造に悪影響を与えない、水と混じり合わない溶媒中の、
トリメソイルクロリド、シクロヘキサン−１，３，５−
トリカルボニルクロリド、もしくはこれらのものの混合
物の、場合によりイソフタロイルクロリドもしくはテレ
フタロイルクロリドを含有する溶液中に、室温で５〜９
０秒、好ましくは１０〜３０秒浸す。この段階のために
好ましい溶媒は、ヘキサンおよびトリクロロトリフルオ
ロエタンの如きクロロフルオロカーボン類である。ポリ
アミドの生成は、初め光沢のあった基板に、鈍色の仕上
げを発現させる。
造に悪影響を与えない、水と混じり合わない溶媒中の、
トリメソイルクロリド、シクロヘキサン−１，３，５−
トリカルボニルクロリド、もしくはこれらのものの混合
物の、場合によりイソフタロイルクロリドもしくはテレ
フタロイルクロリドを含有する溶液中に、室温で５〜９
０秒、好ましくは１０〜３０秒浸す。この段階のために
好ましい溶媒は、ヘキサンおよびトリクロロトリフルオ
ロエタンの如きクロロフルオロカーボン類である。ポリ
アミドの生成は、初め光沢のあった基板に、鈍色の仕上
げを発現させる。
生成する複合材料を、次に、２０°〜１００℃、好まし
くは５０’〜７０℃の温度で５〜１８０秒間またはこれ
より低い温度でより長い時間乾燥させる。
くは５０’〜７０℃の温度で５〜１８０秒間またはこれ
より低い温度でより長い時間乾燥させる。
残留するジアミンおよび反応副生成物を、次に、水の中
に浸すことによって抽出する。
に浸すことによって抽出する。
本発明の膜は、水の中で急冷されそして次に酸塩化物と
の反応に先立ってジアミンの水溶液で処理された膜量上
に、改善された水流速（ｗａｔｅｒ ｆｌｕｘ）もし
くは塩排除性を示す。
の反応に先立ってジアミンの水溶液で処理された膜量上
に、改善された水流速（ｗａｔｅｒ ｆｌｕｘ）もし
くは塩排除性を示す。
他に指示がなければ、全ての透過度特性は、その間に実
際の測定がとり行なわれることになる乃〜１時間の引き
続き時間を含む、約１５〜２０分の短い割りこみ時間（
ｂｒｅａｋ−ｉｎ ｐｅｒｉｏｄ）の後に、指示され
た圧力および外囲温度において、磁気的に攪拌された透
過セルの中で、３２〜３３ ｇ／ｌのＮａＣ１の溶液を
用いて測定した。結果は、排除されるＮａＣｕの％、お
よびｍ／秒／テラパスカル単位のＫｗとして表現される
。
際の測定がとり行なわれることになる乃〜１時間の引き
続き時間を含む、約１５〜２０分の短い割りこみ時間（
ｂｒｅａｋ−ｉｎ ｐｅｒｉｏｄ）の後に、指示され
た圧力および外囲温度において、磁気的に攪拌された透
過セルの中で、３２〜３３ ｇ／ｌのＮａＣ１の溶液を
用いて測定した。結果は、排除されるＮａＣｕの％、お
よびｍ／秒／テラパスカル単位のＫｗとして表現される
。
式中、Ｃｐは透過液中のＮａ０文の濃度であり、Ｃｆは
供給液中のＮａＣ立の濃度である。
供給液中のＮａＣ立の濃度である。
ここで流速は膜を通る渣れの速度であり、有効圧力＝供
給圧カー逆浸透圧である。ＫＷはｍ、ｓ−” 、ＴＰ
ａ−’単位で報告されるものとする。
給圧カー逆浸透圧である。ＫＷはｍ、ｓ−” 、ＴＰ
ａ−’単位で報告されるものとする。
丈ム掬」：」
ミクロポーラスなポリスルホン基板を、ジメチルホルム
アミド中で約３５．０００の分子量を有する、ビスフェ
ノールＡおよびｐ、ｐ’−ジクロロジフェニルスルホン
（Ｕｄｅｌ［有］Ｐ３５００ 。
アミド中で約３５．０００の分子量を有する、ビスフェ
ノールＡおよびｐ、ｐ’−ジクロロジフェニルスルホン
（Ｕｄｅｌ［有］Ｐ３５００ 。
ユニオンカーバイドから入手）から誘導されるポリスル
ホンの１５％溶液から製造した。流し造成形ナイフ（ｃ
ａｓｔｉｎｇ ｋｎｉｆｅ）を６ミルに設定して、ガ
ラス板」二に室温で製造された流し造成形体を、３秒以
内に、５重置％ジメチルホルムアミドおよび２重量％ｍ
−フェニレンジアミン（ＭＰＤ）の水溶液中で、２２〜
２５℃において、示された時間だけ急冷し、次に、第工
表に示される時間だけ、例示の如く水系２虫酸％ｍ−フ
ェニレンジアミン中で抽出した。スポンジゴムローラー
（ｓｐｏｎｇｅ ｒｕｂｂｅｒ ｒｏｌｌ ｅ ｒ
）で圧延した後、膜を０．１％ｗ／ｖのトリメソイルク
ロリドを含有するフレオン＠ＴＦ（１，２，２−）ジク
ロロ−１，１，２−トリフルオロエタン）溶液と、室温
で３０秒間反応させ、その後、室温で終夜乾燥させた。
ホンの１５％溶液から製造した。流し造成形ナイフ（ｃ
ａｓｔｉｎｇ ｋｎｉｆｅ）を６ミルに設定して、ガ
ラス板」二に室温で製造された流し造成形体を、３秒以
内に、５重置％ジメチルホルムアミドおよび２重量％ｍ
−フェニレンジアミン（ＭＰＤ）の水溶液中で、２２〜
２５℃において、示された時間だけ急冷し、次に、第工
表に示される時間だけ、例示の如く水系２虫酸％ｍ−フ
ェニレンジアミン中で抽出した。スポンジゴムローラー
（ｓｐｏｎｇｅ ｒｕｂｂｅｒ ｒｏｌｌ ｅ ｒ
）で圧延した後、膜を０．１％ｗ／ｖのトリメソイルク
ロリドを含有するフレオン＠ＴＦ（１，２，２−）ジク
ロロ−１，１，２−トリフルオロエタン）溶液と、室温
で３０秒間反応させ、その後、室温で終夜乾燥させた。
試験に先立って、膜を水中で２３±１℃で６０分間抽出
した。
した。
几烹に１
ポリスルホンＵｄｅ ｌ＠Ｐ３５００のジメチルホルム
アミド中の１５％溶液から、ミクロポーラスな基板を製
造した。流し造成形ナイフを６ミルに設定して、カラス
板トに室温で製造された流し造成形体を３秒以内に水中
で２２〜２３℃で急冷し、水中で１５分抽出し、次に表
中に示す如く水系ｍ−フェニレンジアミン中に３分間浸
した。スポンジゴムローラーで圧延した後、第■表中に
示される如く、膜を、トリメソイルクロリドおよびｍ−
フェニレンジアミンを含有するフレオンＯＴＦ溶液と３
０秒間反応させ、その後、室温で終夜乾燥させた。実施
例１〜４の如く試験する前に、６膜を蒸留水中で６０分
間抽出した。
アミド中の１５％溶液から、ミクロポーラスな基板を製
造した。流し造成形ナイフを６ミルに設定して、カラス
板トに室温で製造された流し造成形体を３秒以内に水中
で２２〜２３℃で急冷し、水中で１５分抽出し、次に表
中に示す如く水系ｍ−フェニレンジアミン中に３分間浸
した。スポンジゴムローラーで圧延した後、第■表中に
示される如く、膜を、トリメソイルクロリドおよびｍ−
フェニレンジアミンを含有するフレオンＯＴＦ溶液と３
０秒間反応させ、その後、室温で終夜乾燥させた。実施
例１〜４の如く試験する前に、６膜を蒸留水中で６０分
間抽出した。
実施例９および１０は、抽出浴中のみのＭＰＤが、急冷
および抽出段階におけるＭＰＤと同じくらい良好な１＠
きをするのではないか調べるために、短い急冷および抽
出時間との相互比較を目的として行なった。再び、急冷
においてＭＰＤを有することが役に立っている。
および抽出段階におけるＭＰＤと同じくらい良好な１＠
きをするのではないか調べるために、短い急冷および抽
出時間との相互比較を目的として行なった。再び、急冷
においてＭＰＤを有することが役に立っている。
文隻迩遣」１１」」
ミクロポーラスな基板を、ビスフェノールＡおよびｐ、
ｐ′−ジクロロジフェニルスルホンから誘導され、約３
５．０００の分子量を有する、ポリスルホ７ （Ｕｄｅ
Ｉ＠Ｐ３５００）のジメチルホルムアミド中の１５％
溶液から製造した。流し込成形ナイフを６ミルに設定し
て、ガラス板上に製造された流し造成形体を、３秒以内
に、５重量％のジメチルホルムアミドおよび第■表に報
告されている量のｍ−フェニレンジアミンを含有する水
系急冷媒体中で２分間急冷し、次に水系ｍ −フェニレ
ンジアミン（２％Ｗ／Ｗ）中で２分間もしくはそれ以上
抽出した。スポンジゴムローラーで圧延した後、膜を０
．１２％Ｗ／Ｖのトリメンイルクロリドを含有するフレ
オン＠ＴＦ溶液と４０秒間反応させ、その後、室温で終
夜乾燥させた。試験の前に膜を水中で６０分間抽出した
。
ｐ′−ジクロロジフェニルスルホンから誘導され、約３
５．０００の分子量を有する、ポリスルホ７ （Ｕｄｅ
Ｉ＠Ｐ３５００）のジメチルホルムアミド中の１５％
溶液から製造した。流し込成形ナイフを６ミルに設定し
て、ガラス板上に製造された流し造成形体を、３秒以内
に、５重量％のジメチルホルムアミドおよび第■表に報
告されている量のｍ−フェニレンジアミンを含有する水
系急冷媒体中で２分間急冷し、次に水系ｍ −フェニレ
ンジアミン（２％Ｗ／Ｗ）中で２分間もしくはそれ以上
抽出した。スポンジゴムローラーで圧延した後、膜を０
．１２％Ｗ／Ｖのトリメンイルクロリドを含有するフレ
オン＠ＴＦ溶液と４０秒間反応させ、その後、室温で終
夜乾燥させた。試験の前に膜を水中で６０分間抽出した
。
０ ９８．２ １．８８ ８８．８ ２．０８
ｉａ７．３ ２．８１ ９８．２ ２．！３４２
８７．９ ２．８４ １３Ｂ、８ ２．９８
８Ｂ、８ ３．９４ ８９．２ ４．２８支巖倒
」ユご」」 実施例２の如き手順とするが、但し、２分の急冷および
２分の抽出の両者において下記の如き濃度でｍ−フェニ
レンジアミンを用い（室温）、そして２種の異なる水準
のトリメソイルクロリド（ＴＭｅｓＣ党）を使用。
ｉａ７．３ ２．８１ ９８．２ ２．！３４２
８７．９ ２．８４ １３Ｂ、８ ２．９８
８Ｂ、８ ３．９４ ８９．２ ４．２８支巖倒
」ユご」」 実施例２の如き手順とするが、但し、２分の急冷および
２分の抽出の両者において下記の如き濃度でｍ−フェニ
レンジアミンを用い（室温）、そして２種の異なる水準
のトリメソイルクロリド（ＴＭｅｓＣ党）を使用。
災蓋億１５−２２
ミクロポーラスなポリスルホン基板を、ジメチルホルム
アミド中のＵｄｅ ｌ＠Ｐ３５００ｃ７）１５％溶液か
ら製造した。この溶液は、また、錯有機ホスフェートエ
ステル（ジー、ニー、エフ、コープ（ＧＡＦ Ｃｏｒ
ｐ、）からのＧａｆａｃ ＲＥ６１０）の避難酸の形
である表面活性剤０．２％および水０．３％を含有する
ものとした。流し込成形ナイフを６ミルに設定し、ガラ
ス板−ヒに製造された流し造成形体を、３秒以内に、記
載の如くｍ−フェニレンジアミンを含有する２％ジメチ
ルホルムアミドの水溶液中で８℃で２分間急冷し、そし
て次に水系ｍ−フェニレンジアミン中で、記載の如く３
分間抽出した。
アミド中のＵｄｅ ｌ＠Ｐ３５００ｃ７）１５％溶液か
ら製造した。この溶液は、また、錯有機ホスフェートエ
ステル（ジー、ニー、エフ、コープ（ＧＡＦ Ｃｏｒ
ｐ、）からのＧａｆａｃ ＲＥ６１０）の避難酸の形
である表面活性剤０．２％および水０．３％を含有する
ものとした。流し込成形ナイフを６ミルに設定し、ガラ
ス板−ヒに製造された流し造成形体を、３秒以内に、記
載の如くｍ−フェニレンジアミンを含有する２％ジメチ
ルホルムアミドの水溶液中で８℃で２分間急冷し、そし
て次に水系ｍ−フェニレンジアミン中で、記載の如く３
分間抽出した。
この抽出後、水で膨潤した基板を、柔らかいゴムローラ
ーで表面溶液が無くなるように圧延し、次にフレオン＠
ＴＦ中のシクロヘキサン−１゜３．５−トリカルボニル
クロリドの溶液中に、示された時間だけ、下記に示され
る如く室温で浸した。室温で１時間乾燥させた後、膜を
試験する前に蒸留水中で終夜抽出した。試験結果は、全
て、８００ｐｓｉ （５，５ＸｌＯ’ Ｐａ） におけ
る１７時間の操作の後に、１０００ｐｓｉ （６，９Ｘ
１０’Ｐａ）で得られたものである。
ーで表面溶液が無くなるように圧延し、次にフレオン＠
ＴＦ中のシクロヘキサン−１゜３．５−トリカルボニル
クロリドの溶液中に、示された時間だけ、下記に示され
る如く室温で浸した。室温で１時間乾燥させた後、膜を
試験する前に蒸留水中で終夜抽出した。試験結果は、全
て、８００ｐｓｉ （５，５ＸｌＯ’ Ｐａ） におけ
る１７時間の操作の後に、１０００ｐｓｉ （６，９Ｘ
１０’Ｐａ）で得られたものである。
比較涜１しとニヱＡ
流し造成形体を３秒以内に水中で８℃で急冷した点景外
は、実施例１５〜２０の如くにして、ミクロポーラスな
ポリスルホン基板を製造した。蒸留水中で室温で終夜抽
出した後、膜を１．３％水系ｍ−フェニレンジアミン中
に室温で下記の時間だけ浸し、その後、フレオン＠ＴＦ
中シクロヘキサン−１，３，５−トリカルボニルクロリ
ド（０，０９％Ｗ／Ｖ）と下記の時間だけ反応させた。
は、実施例１５〜２０の如くにして、ミクロポーラスな
ポリスルホン基板を製造した。蒸留水中で室温で終夜抽
出した後、膜を１．３％水系ｍ−フェニレンジアミン中
に室温で下記の時間だけ浸し、その後、フレオン＠ＴＦ
中シクロヘキサン−１，３，５−トリカルボニルクロリ
ド（０，０９％Ｗ／Ｖ）と下記の時間だけ反応させた。
室温で１時間乾燥させた後、８００ｐｓｉ（５，５Ｘ１
０” Ｐａ）における２４時間の操作後に実施例１５〜
２２の如（１０００ｐｓｉ（６，９Ｘ１０’Ｐａ）にお
ける試験の前に、膜を水中で終夜抽出した。
０” Ｐａ）における２４時間の操作後に実施例１５〜
２２の如（１０００ｐｓｉ（６，９Ｘ１０’Ｐａ）にお
ける試験の前に、膜を水中で終夜抽出した。
乳−亘−Ｊ
（分） 秒
ｆｌ １５ ９５．１ ４．０２８
２５ ８３．０ ３．９８３０
１５ ９４Ｊ ４．００３０
２５ ８５．４ ４．３９ここで、濃度がＫｗの
値を高めるべく調整された場合には、塩の排除率の水準
は海水脱塩には受は入れられないものであった。
２５ ８３．０ ３．９８３０
１５ ９４Ｊ ４．００３０
２５ ８５．４ ４．３９ここで、濃度がＫｗの
値を高めるべく調整された場合には、塩の排除率の水準
は海水脱塩には受は入れられないものであった。
特許出願人 イー・アイ・デュポン・デ・ニモアスｅア
ンド・カンパニー
ンド・カンパニー
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、薄膜複合膜を製造するための方法にして、１０乃至
２０重量％のポリスルホンを含有する有極性有機溶媒中
のポリスルホンの溶液から膜を形成し、生成する膜を０
．１乃至１０重量／容量％のｍ−フェニレンジアミンを
含有する水系の浴中で急冷し、生成するｍ−フェニレン
ジアミンを含有する多孔性ポリスルホンフィルムを水系
浴から取り出し、そして０．０５乃至５重量／容量％の
トリメソイルクロリド、シクロヘキサン−１，３，５−
トリカルボニルクロリド、もしくはこれらのものの混合
物を含有してなる水と混じり合わない溶液の中に該多孔
性ポリスルホンフィルムを浸漬して、これによってｍ−
フェニレンジアミンがトリメソイルクロリドもしくはシ
クロヘキサン−１，３，５−トリカルボニルクロリドと
反応して、多孔性ポリスルホン膜によって支持された連
続的な層を形成することを特徴とする方法。 ２、この水系急冷浴中のｍ−フェニレンジアミンの濃度
が０．５乃至５重量／容量％である特許請求の範囲第１
項記載の方法。 ３、ポリスルホン用の有極性有機溶媒がジメチルホルム
アミドである特許請求の範囲第２項記載の方法。 ４、トリメソイルクロリドもしくはシクロヘキサン−１
，３，５−トリカルボニルクロリド用の溶媒がクロロフ
ルオロカーボンである特許請求の範囲第３項記載の方法
。 ５、特許請求の範囲第１項記載の方法によって製造され
た薄膜複合膜。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/635,746 US4520044A (en) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | Production of composite membranes |
| US635746 | 1984-07-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6142308A true JPS6142308A (ja) | 1986-02-28 |
| JPH0532090B2 JPH0532090B2 (ja) | 1993-05-14 |
Family
ID=24548950
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16418285A Granted JPS6142308A (ja) | 1984-07-30 | 1985-07-26 | 複合膜の製法 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4520044A (ja) |
| EP (1) | EP0170232B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6142308A (ja) |
| AU (1) | AU588818B2 (ja) |
| CA (1) | CA1246816A (ja) |
| DE (1) | DE3569476D1 (ja) |
| DK (1) | DK344185A (ja) |
| ES (1) | ES8607034A1 (ja) |
| IL (1) | IL75939A (ja) |
| MX (1) | MX164977B (ja) |
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