JPS6146558B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6146558B2 JPS6146558B2 JP3380878A JP3380878A JPS6146558B2 JP S6146558 B2 JPS6146558 B2 JP S6146558B2 JP 3380878 A JP3380878 A JP 3380878A JP 3380878 A JP3380878 A JP 3380878A JP S6146558 B2 JPS6146558 B2 JP S6146558B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- recording
- metal film
- silver mirror
- disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、金属膜にレーザ加工により情報を
記録した記録盤からレプリカデイスクを製造する
ための金型製造方法に関する。
記録した記録盤からレプリカデイスクを製造する
ための金型製造方法に関する。
超高密度記録が可能な記録方法として、ガラス
盤に金属膜を被覆し、この金属膜の一部をレーザ
加工により選択的に除去してこの情報を記録する
方法がある。この方法を第１図によつて説明す
る。第１図Ａは未記録盤の一部断面を示す図で、
第１図Ｂは記録盤の金属膜の表面の一部を拡大し
て示した一部拡大図、第１図Ｃは記録盤の一部断
面を拡大して示した拡大図である。図中１は基盤
であるガラス盤、２はガラス盤に被着され、情報
が記録される記録媒体用の金属膜、３はレーザ光
線によつて信号を記録した加工孔（以下、ピツト
と称す）、４は金属膜２の表面である記録面、１
０はピツトがない金属膜２とガラス盤１から成る
末記録盤、１１はピツトが記録された金属膜２と
ガラス盤１から成る記録盤である。
盤に金属膜を被覆し、この金属膜の一部をレーザ
加工により選択的に除去してこの情報を記録する
方法がある。この方法を第１図によつて説明す
る。第１図Ａは未記録盤の一部断面を示す図で、
第１図Ｂは記録盤の金属膜の表面の一部を拡大し
て示した一部拡大図、第１図Ｃは記録盤の一部断
面を拡大して示した拡大図である。図中１は基盤
であるガラス盤、２はガラス盤に被着され、情報
が記録される記録媒体用の金属膜、３はレーザ光
線によつて信号を記録した加工孔（以下、ピツト
と称す）、４は金属膜２の表面である記録面、１
０はピツトがない金属膜２とガラス盤１から成る
末記録盤、１１はピツトが記録された金属膜２と
ガラス盤１から成る記録盤である。
次に、末記録盤１０への記録について説明す
る。レーザ光線を記録する信号に応じて適当な方
法で強度変調し、これを集光して、回転する末記
録盤１０の金属膜２に当てる。レーザ光線が集光
されて金属膜２に当たると、金属膜２のその部分
は、瞬時に加熱されて蒸発あるいは溶解飛散して
ピツト３が刻まれる。金属膜の材料として、種々
考えられるが、我々の実験では例えば、蒸着によ
つて形成されたクロム薄膜あるいはクロム―金―
クロムの積層膜が用いられ、その膜厚は例えば数
100Å〜2000Åである。変調の方法によつてそれ
ぞれ異なるが、ピツト３の長手方向の形状または
間隔などの位置関係で情報を記録し、再生するこ
とができる。このように記録した金属膜２の記録
面４には、第１図Ｂに示すようにピツトが刻まれ
ていて、またＸ―Ｙなる線に沿つた断面は第１図
Ｃに示すようになる。第１図Ｃにおいて、ピツト
３部は蒸発あるいは溶解飛散により金属が除去さ
れたため凹型となつている。このように記録され
た記録盤１１から特性劣化の少ないプロセスによ
り、レプリカレコードを大量に製造できること
が、特性がよく、そして安価なレプリカレコード
を実現するために必要な条件である。これは、こ
の種のレコード普及および発展に係る大きな問題
である。
る。レーザ光線を記録する信号に応じて適当な方
法で強度変調し、これを集光して、回転する末記
録盤１０の金属膜２に当てる。レーザ光線が集光
されて金属膜２に当たると、金属膜２のその部分
は、瞬時に加熱されて蒸発あるいは溶解飛散して
ピツト３が刻まれる。金属膜の材料として、種々
考えられるが、我々の実験では例えば、蒸着によ
つて形成されたクロム薄膜あるいはクロム―金―
クロムの積層膜が用いられ、その膜厚は例えば数
100Å〜2000Åである。変調の方法によつてそれ
ぞれ異なるが、ピツト３の長手方向の形状または
間隔などの位置関係で情報を記録し、再生するこ
とができる。このように記録した金属膜２の記録
面４には、第１図Ｂに示すようにピツトが刻まれ
ていて、またＸ―Ｙなる線に沿つた断面は第１図
Ｃに示すようになる。第１図Ｃにおいて、ピツト
３部は蒸発あるいは溶解飛散により金属が除去さ
れたため凹型となつている。このように記録され
た記録盤１１から特性劣化の少ないプロセスによ
り、レプリカレコードを大量に製造できること
が、特性がよく、そして安価なレプリカレコード
を実現するために必要な条件である。これは、こ
の種のレコード普及および発展に係る大きな問題
である。
本発明は、上記記録盤１１から、特性の良い、
安価なレプリカレコードを作るために必要な金型
の製造方法を提供するものである。
安価なレプリカレコードを作るために必要な金型
の製造方法を提供するものである。
第２図により、本発明の一実施例を説明する。
第２図の各図は、いずれも一部断面の拡大図で、
記録盤１１の内周部については記載していない。
第２図Ａに示すのが記録盤１１で、第１図Ｃと同
じ過程の記録盤１１でる。第２図Ｂは記録盤１１
の内周および外周において所定巾に渡り、金属膜
２上に同心円状の溝を多数刻む面荒し作業後の記
録盤１１、第２図Ｃは面荒し後に金属膜２の表面
に銀鏡を施した記録盤１１、第２図Ｄは銀盤を施
した後に銀鏡膜の表面にニツケルをメツキした記
録盤１１、第２図Ｅはメツキ後の記録盤１１から
剥離した一体型の銀鏡膜とニツケル層からなる金
型３０である。
第２図の各図は、いずれも一部断面の拡大図で、
記録盤１１の内周部については記載していない。
第２図Ａに示すのが記録盤１１で、第１図Ｃと同
じ過程の記録盤１１でる。第２図Ｂは記録盤１１
の内周および外周において所定巾に渡り、金属膜
２上に同心円状の溝を多数刻む面荒し作業後の記
録盤１１、第２図Ｃは面荒し後に金属膜２の表面
に銀鏡を施した記録盤１１、第２図Ｄは銀盤を施
した後に銀鏡膜の表面にニツケルをメツキした記
録盤１１、第２図Ｅはメツキ後の記録盤１１から
剥離した一体型の銀鏡膜とニツケル層からなる金
型３０である。
ガラス盤１に金属膜２を被着させた末記録盤１
０を定速回転させ、記録信号に応じて強度変調さ
れたレーザ光線を金属膜２に集光して当てること
により記録盤１１ができる。そして第２図Ａに示
すこの記録盤１１の内周および外周の記録のない
部分において、所定幅（例えば２cm程であるが）
に渡り金属膜２を荒す。この部分は第２図Ｂにお
いて面荒し部２１として表わしている。これは、
例えば記録盤１１を回転させておき、サンドペー
パーにより摩擦すれば良い。また、これは後述す
るニツケル層２３が記録盤１１から剥離するのを
防ぐために行なうものである。この面荒しを行な
つた記録盤１１は第２図Ｂに示す。この第２図Ｂ
の記録盤１１の金属膜２のピツト３では、記録に
より金属が蒸発あるいは溶解飛散によりなくなつ
ている。
０を定速回転させ、記録信号に応じて強度変調さ
れたレーザ光線を金属膜２に集光して当てること
により記録盤１１ができる。そして第２図Ａに示
すこの記録盤１１の内周および外周の記録のない
部分において、所定幅（例えば２cm程であるが）
に渡り金属膜２を荒す。この部分は第２図Ｂにお
いて面荒し部２１として表わしている。これは、
例えば記録盤１１を回転させておき、サンドペー
パーにより摩擦すれば良い。また、これは後述す
るニツケル層２３が記録盤１１から剥離するのを
防ぐために行なうものである。この面荒しを行な
つた記録盤１１は第２図Ｂに示す。この第２図Ｂ
の記録盤１１の金属膜２のピツト３では、記録に
より金属が蒸発あるいは溶解飛散によりなくなつ
ている。
このためピツト３にはガラス盤１が露出してい
て、メツキに必要な被メツキ部に電極がないこと
になる。これは後述するニツケルのメツキにおい
て問題となる。このために、記録盤１１の金属膜
２を含む表面全面に渡り銀鏡を施す。銀鏡法を説
明すると、まず銀鏡膜の付着を容易にする為に塩
化スズ溶液を記録盤１１全面に塗布し、次にアン
モニア性硝酸銀溶液と還元剤であるブドウ糖溶液
を同時に塗布する事により記録盤１１の金属膜２
を含む面に銀鏡膜２２が形成される。この銀鏡を
施した記録盤１１を第２図Ｃに示す。この銀鏡膜
２２の厚さは例えば1000Åから2000Åである。こ
の銀鏡膜２２を電極として、ニツケルをメツキす
る。このメツキは、十分な機械的強度を持つた金
型を得るために行なうもので、このメツキ後の記
録盤１１を第２図Ｄに示す。このメツキ層の厚さ
は例えば0.1mmである。２３はニツケル層であ
る。このメツキ作業において、前述した記録盤１
１の内周および外周における所定幅に渡り施した
面荒しの効果により、メツキ液が金属膜２と銀鏡
膜２２との間に浸透することが妨げられ、メツキ
中にニツケル層２３が記録盤１１から剥離するこ
とがなくなる、以上の工程により、凹型ピツトを
有する第２図Ａの記録盤１１から、特性劣化の少
ない凸型ピツト３の記録面が、銀鏡膜２２とニツ
ケル層２３からなる一体型に形成される。この銀
鏡膜２２とニツケル層２３からなる一体型を、記
録盤１１から剥離することにより、凸型ピツト３
をもつ金型３０が作られる。この金型３０を第２
図Ｅに示す。
て、メツキに必要な被メツキ部に電極がないこと
になる。これは後述するニツケルのメツキにおい
て問題となる。このために、記録盤１１の金属膜
２を含む表面全面に渡り銀鏡を施す。銀鏡法を説
明すると、まず銀鏡膜の付着を容易にする為に塩
化スズ溶液を記録盤１１全面に塗布し、次にアン
モニア性硝酸銀溶液と還元剤であるブドウ糖溶液
を同時に塗布する事により記録盤１１の金属膜２
を含む面に銀鏡膜２２が形成される。この銀鏡を
施した記録盤１１を第２図Ｃに示す。この銀鏡膜
２２の厚さは例えば1000Åから2000Åである。こ
の銀鏡膜２２を電極として、ニツケルをメツキす
る。このメツキは、十分な機械的強度を持つた金
型を得るために行なうもので、このメツキ後の記
録盤１１を第２図Ｄに示す。このメツキ層の厚さ
は例えば0.1mmである。２３はニツケル層であ
る。このメツキ作業において、前述した記録盤１
１の内周および外周における所定幅に渡り施した
面荒しの効果により、メツキ液が金属膜２と銀鏡
膜２２との間に浸透することが妨げられ、メツキ
中にニツケル層２３が記録盤１１から剥離するこ
とがなくなる、以上の工程により、凹型ピツトを
有する第２図Ａの記録盤１１から、特性劣化の少
ない凸型ピツト３の記録面が、銀鏡膜２２とニツ
ケル層２３からなる一体型に形成される。この銀
鏡膜２２とニツケル層２３からなる一体型を、記
録盤１１から剥離することにより、凸型ピツト３
をもつ金型３０が作られる。この金型３０を第２
図Ｅに示す。
以上のように、ガラス盤１の表面に金属膜２を
被着させ、記録信号に応じて強度変調されたレー
ザ光線を、金属膜２に集光してピツト３を記録し
た記録盤１１において、内周および外周の記録
のない部分において面荒しを行ない、金属膜２
を含む表面全面に銀鏡を施し、銀鏡膜２２の表
面にニツケルのメツキを行ない、銀鏡膜２２と
ニツケル層２３を一体型にして記録盤１１から分
離することにより、特性劣化の少ない金型３０を
作ることができた。この金型３０から直接、ある
いは金型３０から更に数回メツキ処理を行ない得
られた金型からレプリカレコードを大量に製造す
ることができる。
被着させ、記録信号に応じて強度変調されたレー
ザ光線を、金属膜２に集光してピツト３を記録し
た記録盤１１において、内周および外周の記録
のない部分において面荒しを行ない、金属膜２
を含む表面全面に銀鏡を施し、銀鏡膜２２の表
面にニツケルのメツキを行ない、銀鏡膜２２と
ニツケル層２３を一体型にして記録盤１１から分
離することにより、特性劣化の少ない金型３０を
作ることができた。この金型３０から直接、ある
いは金型３０から更に数回メツキ処理を行ない得
られた金型からレプリカレコードを大量に製造す
ることができる。
以上のように、本発明の製造方法によれば、金
属膜にレーザ光線により高密度記録した盤から、
特性劣化の少ない金型を歩留りよく作ることがで
き、この金型を基にして特性の良いレプリカレコ
ードを安価に製造できるという実用上大きな効果
が得られるものである。
属膜にレーザ光線により高密度記録した盤から、
特性劣化の少ない金型を歩留りよく作ることがで
き、この金型を基にして特性の良いレプリカレコ
ードを安価に製造できるという実用上大きな効果
が得られるものである。
第１図は本発明の金型製造法に係る原盤の説明
図、第２図は金型を製造する過程における記録盤
および金型の断面図である。 図中、１はガラス盤、２は金属膜、３はピツ
ト、４は記録面、１０は末記録盤、１１は記録
盤、２１は面荒し部、２２は銀鏡膜、２３はニツ
ケル層、３０は金型である。なお、図中同一符号
は同一又は相当部分を示す。
図、第２図は金型を製造する過程における記録盤
および金型の断面図である。 図中、１はガラス盤、２は金属膜、３はピツ
ト、４は記録面、１０は末記録盤、１１は記録
盤、２１は面荒し部、２２は銀鏡膜、２３はニツ
ケル層、３０は金型である。なお、図中同一符号
は同一又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基盤の一主面に被覆した金属膜の一部を選択
的に除去して情報を記録した記録盤の内周及び外
周部において所定巾に渡り上記金属膜の面荒しを
行なう工程と、上記面荒しを行なつた上記記録盤
の上記金属膜を含む表面全面に銀鏡膜を施す工程
と、上記銀鏡膜を施した記録盤の表面に上記銀鏡
膜を電極としてメツキ膜を施す工程と、上記メツ
キ膜を施した後、上記記録盤から上記銀鏡膜とメ
ツキ膜とを一体にて剥離して金型を形成する工程
とより成る高密度記録レプリカデイスクの金型製
造方法。 ２ メツキ膜はニツケルメツキ膜である特許請求
の範囲第１項記載の高密度記録レプリカデイスク
の金型製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3380878A JPS54125141A (en) | 1978-03-24 | 1978-03-24 | Manufacture of metal mold for high density recording replica disc |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3380878A JPS54125141A (en) | 1978-03-24 | 1978-03-24 | Manufacture of metal mold for high density recording replica disc |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54125141A JPS54125141A (en) | 1979-09-28 |
| JPS6146558B2 true JPS6146558B2 (ja) | 1986-10-15 |
Family
ID=12396768
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3380878A Granted JPS54125141A (en) | 1978-03-24 | 1978-03-24 | Manufacture of metal mold for high density recording replica disc |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS54125141A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6415244U (ja) * | 1987-07-15 | 1989-01-25 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10948419B2 (en) * | 2015-11-18 | 2021-03-16 | Hamamatsu Photonics K.K. | Concentration measurement method |
-
1978
- 1978-03-24 JP JP3380878A patent/JPS54125141A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6415244U (ja) * | 1987-07-15 | 1989-01-25 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54125141A (en) | 1979-09-28 |
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