JPS6155668B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、湿し水を必要としない平版印刷用印
刷版およびその製造法に関し、さらに詳しくは、
解像性、耐刷性などの点できわめてすぐれた性質
を有する平版印刷用印刷版およびその製造法に関
する。

平版印刷においては、凸版または凹版のように
版面に明瞭な高低がなく、外見上同じ平面上に画
線部と非画線部とを設けた版が使用されるが、こ
の印刷法はつぎの工程で行われる。すなわち、こ
れにはまず水と脂肪とが互いに反発することか
ら、前記非画線部を化学的あるいは機械的処理に
よつて親水性にすると共に、前記画線部を脂肪性
樹脂の転写または写真焼付けなどによつて親油性
とし、ついでこの版面に水を転移させて水を親水
性である非画線部のみに付着させてから、さらに
この版面にインキを転移する。このようにする
と、このインキは水が存在している非画線部には
付着せずに親油性である画線部にのみ付着するの
で、つぎにこれを被印刷物に転移させて目的の印
刷物を得るという工程によつて行われている。

しかし、この平版印刷法には、たとえば上記し
た湿し水のインキローラーへの転移がインキロー
ラー上でのインキの乳化を引き起すため、これが
地よごれなどの原因となるほか、この湿し水の被
印刷物への転移は、被印刷物の寸法変化の原因と
もなるので、特に多色刷り印刷においては印刷画
像が不鮮明になるという大きな欠点がある。また
この平版印刷法においては、色調の一定な印刷物
を得るために、湿し水の量とインキの量とを一定
のつり合いに保つことが必要とされているが、こ
の両者の量を一定のつり合いに保つことは非常に
困難であり、したがつて印刷物の色調にばらつき
が生じるという欠点があつた。

このため、上記した不利を改良する目的におい
て、湿し水を必要としない平版印刷用印刷版の開
発が試みられているが、現在までに知られている
ものはいずれもいまだ実用に耐える充分満足すべ
き性質を示すには至つていない。

たとえば、アルミニウム板などの基板上に、ジ
アゾ型感光性組成物よりなるジアゾ感光層とジメ
チルポリシロキサンゴム層とを形成させ、ついで
この上にさらにポジフイルムを重ね合せてから露
光することによつて露光部分のジアゾ感光層を不
溶化させ、非露光部分のジアゾ感光層を現像処理
により除去し、ついで非露光部分のジメチルポリ
シロキサンゴム層を剥ぎ取るという方法（特公昭
44−23042号公報参照）、あるいはアルミニウム板
などの基板上に、ジアゾ感光層と接着剤層とシリ
コーンゴム層を順次形成させ、ついでこの上にネ
ガフイルムを重ね合せてから露光し、露光部分に
おける感光層の光分解を利用して現像し、ついで
露光部分のシリコーンゴム層を剥ぎ取るという方
法で平版印刷用印刷版を得る方法（特公昭46−
16044号公報参照）が公知とされている。しか
し、これらの方法はいずれもジアゾ感光層とポジ
またはネガフイルムとの間に非感光性のシリコー
ンゴムが存在するため、これにはポジまたはネガ
フイルムに現わされているパターンが正確に再現
されず、さらにはシリコーンゴム層の剥ぎ取りが
感光層の溶剤溶解性の変化を利用して行われるた
めに剥ぎ取り後のシリコーンゴム層によつて形成
される画像はそのエツジ部分のきれが悪く、シヤ
ープなものにならないという重大な欠点があり、
これにはまたその製造が基板上に２〜３層を順次
重ね、露光後、現像するという工程で行われるた
め、操作が複雑であるという不利がある。

以上の現像操作上の欠点を除くものとして、シ
リコーン層を電子線、レーザー光、放電等により
破壊する方法（特公昭42−21879号公報参照）、シ
リコーン層をグローまたはコロナビームで走査す
ることにより親油性に変える方法（特公昭48−
8207号公報参照）が公知とされている。これによ
れば、電子線、レーザー光、放電等によるシリコ
ーン層の破壊またはコロナビームによる処理を行
うことにより、何ら現像操作を必要とせずに湿し
水なしでオフセツト印刷可能である。しかしなが
ら、インキ反発層であるジメチルポリシロキサン
を破壊し低分子量ジメチルポリシロキサンを生成
するためには高エネルギーが必要であり製版装置
が大がかりになる。さらには、シリコーン層のパ
ターニングの際に高エネルギーで熱的にシリコー
ンを破壊することにより画像エツジが盛り上がり
画線のシヤープネスが失われ、解像性および印刷
品質が低下するという欠点を有している。また、
コロナビームの使用ではインキ反発層を走査し画
像を形成するため刷版時間が長く、特有の設備が
必要となる。

本発明者らは、上述した従来の湿し水を必要と
しない平版印刷用印刷版の難点をふまえ、材料の
選択および製造法に関し総合的に検討した結果、
プラズマ状態の活性化された化学種で選択的に化
学処理することにより、オルガノポリシロキサン
の硬化膜は親インキ性でかつ耐摩耗性にすぐれた
物質たとえばアクリルポリオール樹脂などの熱硬
化性樹脂との接着性にすぐれたものとなること、
また適当な保護層を介することにより化学処理を
選択的に防止しうること、低エネルギーで短時間
に化学処理できること、高解像力であることを見
い出し、本発明に到達したものである。

すなわち、本発明は基板の一方の面に、オルガ
ノポリシロキサン硬化膜層からなる非画線部と、
プラズマ状態の活性化された化学種で表面を化学
処理したオルガノポリシロキサン硬化膜層上に形
成した親インキ性でかつ耐摩耗性物質の層からな
る画線部とを有する平版印刷用印刷版およびその
製造法を要旨とする。

本発明の平版印刷用印刷版およびその製造法は
プラズマによる化学処理を応用するため次のよう
なすぐれた特性をもつものである。

(1) オルガノポリシロキサン自体には、パターン
形成能力は必要とされないため、耐溶剤性、耐
摩耗性、基板との接着性等にすぐれたオルガノ
ポリシロキサンから自由に選択できる。

(2) プラズマによる化学処理は、気相−固相間の
反応を利用するものであるから保護層には物理
的な力がほとんどかからず、オルガノポリシロ
キサン硬化膜層との接着性は比較的小さくてよ
い。解像性は使用する保護層自体の解像性のみ
に依存し、パターニングによる影響はないので
高解像度のものが得られる。

(3) オルガノポリシロキサン硬化膜層はガス透過
性が大で活性化学種は該層内部まで容易に侵入
する。このため表面のみでなく内部まで化学処
理される。

(4) プラズマ状態の活性化された化学種を、プラ
ズマ発生室より他室へ導くことが可能であるた
め、一つの発生装置から、複数の室へ活性化学
種を供給することができ、同時に短時間で複数
の刷版が可能であり、装置も比較的安価であ
る。

(5) オルガノポリシロキサン硬化膜の化学処理さ
れた部分に形成される親インキ性でかつ耐摩耗
性物質の層は強固に下地に接着しており、耐刷
性、耐久性にすぐれている。またこの層（画線
部）は若干突出するので平凸版型となり、した
がつてよりすぐれた印刷適性を示し、20万〜30
万枚の耐刷性を示す。

(6) 保護層の選択により容易にネガ、ポジの版材
が作製できる。

以下、本発明について詳細に説明する。

まず、本発明を図面に基づき説明すると、第５
図は本発明の平版印刷用印刷版の構成を概略的に
例示した一部拡大断面図であり、該刷版は、基板
１の一方の面に、オルガノポリシロキサン硬化膜
層からなるインキ反発性の層２（非画線部）と、
プラズマ処理されたオルガノポリシロキサン硬化
膜層２′の上に形成した親インキ性でかつ耐摩耗
性物質の層４とを有する。インキはこの層４上に
付着する（図示せず）。

つぎに、本発明の平版印刷用印刷版の製造法に
つき説明すると、第１図に示すように、基板１の
一方の面に、オルガノポリシロキサン硬化膜層２
をその膜厚が２〜50μｍとなるように設けた後、
第２図に示すように上記オルガノポリシロキサン
硬化膜層２の上にパターン状に保護層３を設け
る。つぎに、プラズマ処理を施こすことにより、
第３図に示すように保護層３を説けていない部分
のオルガノポリシロキサン硬化膜層がプラズマ状
態の活性化された化学種で化学処理される。

つぎに、本発明の方法は第４図ａまたは第４図
ｂに示す工程を経て、第５図に示す平版印刷用印
刷版とするのであるが、第４図ａの工程を経る場
合は、同図に示すように、まず保護層３を除去
し、次いでプラズマ処理層２′の上に親インキ性
でかつ耐摩耗性物質の層４を形成する。他方第４
図ｂの工程を経る場合は、同図に示すように、第
３図でのプラズマ処理後、保護層３を除去するこ
となく、その全面に親インキ性でかつ耐摩耗性物
質の層を形成し、次いで保護層３をその上に存在
する親インキ性でかつ耐摩耗性物質の層と共に除
去することにより、第５図に示す平版印刷用印刷
版とする。

上記基板には、プラズマによる化学処理によつ
て酸化やエツチング、あるいはプラズマで発生す
る紫外光による光劣化反応などの影響を受けない
ものが用いられ、その具体例としては、銅板、ア
ルミニウム板、ステンレス板、亜鉛板、鉄板ある
いはニツケルメツキした銅板もしくは鉄板、また
はクロムメツキ鉄板などの金属板および上記各種
金属箔を他の基板材料、たとえば紙、プラスチツ
ク上に載置したもの、さらに紙、プラスチツク類
の単体または複合体などが使用できる。

つぎに、基板上にオルガノポリシロキサン硬化
膜層２を設けるのに用いるオルガノポリシロキサ
ンとしては、強度、耐摩耗性にすぐれ耐刷性がよ
く、インキ反発性が強いものが望ましく、ポリジ
メチルシロキサンを主成分とする各種熱硬化性オ
ルガノポリシロキサンが好ましく使用される。熱
硬化性オルガノポリシロキサンとしては、一液型
および二液型があり、二液型における硬化は≡Si
−OH、≡Si−OR、≡Si−Ｈ、≡Si−CH＝CH₂
のような反応基をもつシロキサン同士の触媒によ
る架橋反応によるもので、脱水縮合、脱アルコー
ル縮合、脱水素縮合、付加重合などによる架橋反
応が起る。一液型の硬化は空気中の水分と反応し
縮合硬化反応を起すもので、脱酢酸型、脱アミン
型、脱アルコール型、脱オキシム型などがある。
これらは基板の一方の面に、ベンゼン、トルエン
等適当な溶剤に溶かし、回転塗布法、浸漬法、た
れ流し法等により塗布し、加熱乾燥することによ
り設けられる。

インキ反発性のオルガノポリシロキサン硬化膜
層２を形成するためのオルガノポリシロキサンの
具体的種類としては、塗布後常温もしくは加熱に
より架橋硬化してインキ反発性のシリコーンゴム
弾性体となるもので、けい素原子に結合する全有
機基の90モル％以上がメチル基である高重合度オ
ルガノポリシロキサン（これはインキ反発性にす
ぐれている）を主体としてなるものがよく、これ
には(1)分子鎖両末端が水酸基で封鎖された有機基
の90モル％以上がメチル基である高重合度ジオル
ガノポリシロキサン、架橋剤としてメチルハイド
ロジエンポリシロキサンまたはエチルポリシリケ
ート、および縮合触媒として有機酸金属塩からな
るもの、(2)ビニル基含有高重合度ジオルガノポリ
シロキサン（ビニル基以外の有機基の90モル％以
上がメチル基）、架橋剤としてのメチルハイドロ
ジエンポリシロキサン、および付加反応触媒とし
ての白金系触媒からなるもの、(3)分子鎖両末端が
水酸基で封鎖された有機基の90モル％以上がメチ
ル基である高重合度ジオルガノポリシロキサン、
および架橋剤として１分子中に３個以上のアセト
キシ基、アミノ基、オキシム基またはプロペノキ
シ基等の加水分解性基を有するシランまたは低重
合度シロキサン化合物からなるものが例示され
る。本発明においては上記(1)または(2)に例示した
種類のものが特に好適とされる。

なお、上記においてメチル基以外の有機基とし
ては、一般にフエニル基等のアリール基、ビニル
基等のアルケニル基、エチル基、プロピル基等の
アルキル基、トリフロオロプロピル基等のハロゲ
ン置換アルキル基などが例示される。

上記(1)、(2)および(3)に例示した組成物には必要
に応じ、インキ反発性をさらに向上させるための
通常のジオルガノポリシロキサンたとえばジメチ
ルポリシロキサンを硬化塗膜の性質に悪影響を与
えない範囲で添加すること、また耐刷性向上の目
的で少量の補強性充てん剤たとえばシリカ、酸化
アルミニウム、酸化チタン、酸化亜鉛等の微粉末
を添加することは差支えない。

なお、オルガノポリシロキサンの均一被膜形成
のため、予め基板表面を適宜の方法で清浄し、さ
らに必要に応じ、その表面を粗面化し、該被膜と
の密着性を向上させることが望ましい。また、こ
の基板表面は該被膜との接着性向上のためその表
面に予めプライマーを塗布しておくこともよく、
このプライマーとしては、ビニルトリス（２−メ
トキシエトキシ）シラン、３−グリシドキシプロ
ピルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシ
プロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（３−トリメ
トキシシリルプロピル）エチレンジアミン、３−
アミノプロピルトリエトキシシランなどのシラン
単独またはこれらの混合物さらにはこれらの部分
加水分解物または部分共加水分解物が使用され、
これらは回転塗布、ロツドコーテイング、刷毛塗
り、スプレー塗りなどの通常の方法により塗布さ
れる。

つぎに、上記オルガノポリシロキサン硬化膜層
２上に形成される保護層３には、プラズマによる
化学処理で起る種々のラジカル反応、光分解反応
等により著しく影響を受けず、またオルガノポリ
シロキサン硬化膜層の面から剥離してこない材料
が適用されるが、膜厚が数μ以上あればプラズマ
による化学処理が通常数十秒〜数分以内で行なわ
れるため、多くの材料が使用可能となる。このよ
うな材料の例としては、たとえば、シツプレー社
製ホトレジストAZ、東京応化社製ホトレジスト
OMR、TPRの如き市販のホトレジストおよび多
数の感光性樹脂、被覆性のある感光材料が使用で
きる。市販品の場合には通常のホトレジスト製版
法によりパターニングされる。なお、ホトレジス
ト画像を形成するには、ホトレジスト液を直接オ
ルガノポリシロキサン硬化膜層上に通常の塗布法
で塗布する方法と、一旦ポリエチレン、ポリプロ
ピレン等のフイルム上に塗布、乾燥後、加熱圧着
により、オルガノポリシロキサン硬化膜層上に転
写する方法が適用でき、しかる後パターニングを
行う。直接オルガノポリシロキサン硬化膜層上に
塗布する方法においてはオルガノポリシロキサン
硬化膜によりはじかれる場合があるので、適宜の
界面活性剤の添加等によりホトレジスト液の減粘
を行うことが必要となる。

上記市販のホトレジスト類は必ずしもオルガノ
ポリシロキサン硬化膜層との親和性が良好である
とは言えないが、オルガノポリシロキサンに感光
基を導入した感光性シリコーン液は良好な親和性
を示し、最も塗布しやすい。この場合の膜厚は２
〜５μｍで十分なプラズマ耐抗性を示す。

上記感光性シリコーン液（光硬化性オルガノポ
リシロキサン）としては、オルガノポリシロキサ
ン硬化膜層２へのぬれがよいことが必要であり、
そのためにはオルガノポリシロキサン硬化膜層２
と表面張力がほぼ等しいことが好ましく、この目
的に合つたものとして従来公知の光硬化性オルガ
ノポリシロキサンが使用できる。この表面張力と
しては18〜25dyn/cm望ましくは20〜23dyn/cmで
ある。

上記感光性シリコーンのうちでもシリコーン自
体が感光性基を有するものとしてはマレイミド基
または置換原子もしくは基を含有するマレイミド
基が結合したシロキサン単位を有するオルガノポ
リシロキサン（特開昭51−120804号、同51−
125277号、同52−13907号、同52−105002号、同
52−116304号等参照）、アクリロキシ基または置
換原子もしくは基を含有するアクリロキシ基が結
合したシロキサン単位を有するオルガノポリシロ
キサン（特開昭48−16991号、同48−19682号、同
48−21779号、同48−23880号、同48−47997号、
同48−48000号、同48−83722号、同51−34291
号、同51−52001号、同52−105003号、同52−
105004号、同52−113805号、同52−113801号等参
照）、メルカプト基含有シロキサン単位を有する
オルガノポリシロキサンとビニル基含有シロキサ
ン単位を有するオルガノポリシロキサンとの混合
物（特開昭53−17405号等参照）、ビニル基含有シ
ロキサン単位を有するオルガノポリシロキサンと
オルガノハイドロジエンポリシロキサンとの混合
物（特開昭53−15907号等参照）、アミド基を含有
するシロキサン単位を有するオルガノポリシロキ
サン（特開昭52−139200号、同52−139504号等参
照）、アクリロキシ基含有シロキサン単位を有す
るオルガノポリシロキサンとビニル基含有シロキ
サン単位を有するオルガノポリシロキサンとの混
合物（特開昭52−139505号等参照）などが例示さ
れる。

また、シリコーンと感光性物質の混合物からな
るものとしては、アジド化合物、ｐ−キノンジア
ジド化合物、ケイ皮酸類、アクリル酸またはアク
リレート類等の感光性物質とオルガノポリシロキ
サンとの混合物（特開昭49−68803号、同49−
86102号、同49−121601号、同51−134204号等参
照）などの各種シリコーンが例示される。

エチルセルロース、エチルヒドロキシセルロー
ス、アクリル樹脂などを含むインキを用いてスク
リーン印刷することによりレジスト層をパターン
状に形成することもできる。この場合においても
直接印刷と転写法があるが、減粘剤の添加は、印
刷適正を低下するため転写法が望ましい。さらに
また、静電写真用のトナーなどをレジスト材料と
して静電印刷によりレジスト層を形成することも
できる。この場合、オルガノポリシロキサン硬化
膜層が絶縁物であるため、良好な静電潜像および
トナー画像を形成することが可能である。さらに
簡単には成膜性樹脂液を手描きしたり適当な印刷
手段で転写したものでもよい。

本発明においてプラズマによりオルガノポリシ
ロキサンの硬化膜層の表面を化学処理するには、
Ar、He、Neのような不活性ガスまたは酸素もし
くは大気などのような活性ガスによるプラズマ処
理が良好である。プラズマによる化学処理では、
(1)エツチング、(2)化学修飾、(3)架橋、(4)重合の４
種類の変化が複雑に複合して起こるとされている
が、本発明における不活性ガスまたは活性ガスに
よるプラズマ処理においては電子顕微鏡観察、赤
外吸収の測定により、表面のエツチングは起こら
ず主としてオルガノポリシロキサン硬化膜層の化
学修飾、すなわちアルキル基の脱離と水酸基、カ
ルボニル基の生成が起こつている。これによりプ
ラズマ状態における活性化学種がオルガノポリシ
ロキサン硬化膜の表面に衝突することによつて、
アルキルラジカルの脱離、ケイ素ラジカルの生
成、架橋によるオルガノポリシロキサンの三次元
化、アルキル基の酸化等による水酸基、カルボニ
ル基の生成等が起こるものと思われる。さらにこ
れらの反応は、オルガノポリシロキサン硬化膜層
の表面のみでなく、処理時間によつてかなり内部
まで進行している。これはオルガノポリシロキサ
ン硬化膜層が一般にガス透過性に富むため活性化
学種が層内部まで到達するものと推定される。

一方、コロナ処理や火炎処理の場合はごく表面
のみに働き、この効果は手や布で擦つただけで失
なわれるのが普通である。これに対し本発明によ
るプラズマ処理では処理膜が摩耗するほど擦つて
もなお効果は失なわれない。

プラズマ活性化学種を形成させるための低圧ふ
ん囲気は、一般に空気でよいがAr、Ne、He等の
不活性ガス、O₂、N₂、NH₃、CO₂、フツ化炭化水
素ガス等の活性ガスが使用できる。

プラズマ親油化処理時間は条件により変化する
が、たとえば、３×10^-2トル、300Wの条件下に
おいて30秒以上で効果的にオルガノポリシロキサ
ン硬化膜層が改質されるが、同条件下で20分以上
ではエツチング効果により保護層の劣化が起こる
ために好ましくない。

プラズマ保護層を薄くし、より高解像性を与え
ると一般にプラズマ耐抗性が低下する。これは一
般の有機保護層がシリコーン層同様にプラズマで
攻撃され、暫時気化飛散してより薄くなるためで
ある。したがつて該有機保護層内にプラズマ耐抗
性を有する物質を混在させておくと薄い保護層で
も十分な役割をはたし、かつ高解像性が得られ
る。一般に有機もしくは無機の充填剤が用いら
れ、特に無機充填剤が好適である。この理由は仮
りに無機充填剤が酸素プラズマで攻撃されて化学
変化を起こしても、酸化物となつて残存しやすい
からである。したがつてもし金属酸化物たとえば
ZnO、TiO₂、Cu₂Oその他では化学変化が起こら
ず攻撃されないことになる。

プラズマ攻撃の特性としてしやへい物に対し直
角に攻撃するから、オルガノポリシロキサン硬化
膜層上に単に載置した物質でも保護効果がある。
したがつてこの理由から保護層内の充填剤は適当
な量に規制することができる。

これらの無機物質はSiO₂、TiO₂、ZnO、
PbO₂、Al₂O₃、Al（OH）₃、Fe、Zn、Sn、Ni、
Cu、Ge、Alその他の金属粉末、あるいは金属硫
化物、複塩、錯塩粉末等（無機顔料類が好まし
い）が、単独または混合して保護層中に10〜70重
量％程度混入させることが望ましい。

オルガノポリシロキサン硬化膜層が十分にプラ
ズマ処理されたときは非処理部分に比して若干マ
ツト化され、表面が白くなる。しかしあまり視認
性のよいものではない。そこでプラズマガスの化
学反応性を利用して発色または消色その他の色変
化を起こす物質をオルガノポリシロキサン硬化膜
層に含ませておくと、プラズマ処理効果が非常に
判りやすくなる。たとえば酸素または空気プラズ
マ処理において、溶剤可溶性塩基性染料その他の
酸化脱色性染料が共存する場合に、プラズマ処理
部および処理の程度を認知することができる。

上記染料としては、通常の分散染料、およびカ
チオン染料が使用できる。たとえば、分散染料と
してカヤセツト−ブルーFR（日本化薬製）、TS
−バイオレツト501（住友化学製）、カチオン染料
としてはクリスタルバイオレツト、メチレンブル
ーなどがあり、該染料はオルガノポリシロキサン
に対して0.01〜５重量％程度含有せしめることが
望ましい。

一方酸化発色性染料または顔料を含む場合はプ
ラズマ処理部が着色する。たとえばロイコ染料な
どを含むときはその染料の色が処理部のみに形成
される。この種の例としては一般にラクトン環化
されたロイコ染料（メチレンブルー等）や還元無
色化された染料（パツト染料類）などが用いやす
い。

オルガノポリシロキサン硬化膜層はガス透過性
がよいからプラズマ処理のとき活性ガスは層内に
侵入し、結局層全体を処理することができる。し
たがつて処理の終点を判別するためにオルガノポ
リシロキサン硬化膜層の下引層（アンカー層また
はシランカツプリング剤層）に上記変色物質を含
ませておくと、プラズマ処理が完了した時点で下
引層内変色物質に作用し発色または消色その他の
変色を起こさせることができる。この方法はプラ
ズマ処理の終点を判別する上にきわめて有効であ
る。

つぎに、プラズマによる化学処理後保護層を除
去するには、ホトレジストの場合ではオルガノポ
リシロキサン硬化膜層を破損するようなものたと
えば、強酸、強アルカリによるものは好ましくな
く、アセトン、エチルセロソルブ、トルエン等の
溶剤により除去することが望ましい。たとえば、
シツプレー社製ホトレジストAZは、アセトン、
メチルエチルケトン（MEK）等で溶解除去で
き、東京応化製TPRではエチルセロソルブによ
り剥膜可能である。スクリーン印刷でのレジスト
層は、トルエン等の溶剤で除去でき、また静電印
刷でのレジスト層ではMEK等の極性溶剤で除去
可能である。また、オルガノポリシロキサン硬化
膜層は他物質との接着が一般に弱いため残留レジ
スト膜を適当な接着テープや接着シート等でも容
易に除去することができる。

つぎに、本発明の印刷版では実用的耐刷性、耐
久性を与えるために、オルガノポリシロキサン硬
化膜層のプラズマによる化学処理面に親インキ性
でかつ耐摩耗性にすぐれた物質の層を形成する。

幸いプラズマ処理部は親水性および親油性を示
すから、他の耐摩耗性の大きい樹脂などを接着さ
せることができる。たとえば一般的熱硬化性樹脂
などをローラーで塗布すると、第４図ａに示すプ
ラズマ処理部のみに付着するから、そのまま熱硬
化させると強固に接着する。

これらの硬化樹脂は親インキ性であり、かつ耐
摩耗性をもつもので、耐摩耗性画線部４（第５
図）を形成するから、もはやオルガノポリシロキ
サン硬化膜層以上の耐久性を備えるに至る。また
画線部４はオルガノポリシロキサン硬化膜層２の
面より0.1〜５μｍ程度突出するので平凸版型と
なり、よりよい印刷適性を示し、耐刷性は非画線
部であるオルガノポリシロキサン硬化膜層の耐久
性で決まり、20万〜30万枚の耐刷性を示す。

なお、第５図に示した構成の印刷版は上記のよ
うにして製造することができるほか、つぎのよう
にして製造することもできる。すなわち、第４図
ｂに示すように第３図に示したプラズマ処理部
２′と保護層３を有する面に親インキ性でかつ耐
摩耗性物質たとえばアクリルポリオール樹脂など
の熱硬化性樹脂を0.1〜10μｍ程度の厚さにコー
テイングし、硬化させ、次いで前記した保護層の
除去方法たとえばメチルエチルケトンなどの溶剤
を含ませた柔かい布で軽く擦するなどの方法によ
り、保護層３上の樹脂硬化膜はその保護層３と共
に容易に剥離除去され、一方、プラズマ処理部
２′上の樹脂硬化膜は強固に接着しているのでそ
のまま残存し、結果として第５図に示す構成の印
刷版が得られる。

つぎに、実施例をあげて本発明をさらに具体的
に説明する。

実施例 １ アルミニウム基板上にポリジメチルシロキサン
（信越化学製、KS774）の硬化膜層を５μｍの厚
さに形成した後、ポリケイ皮酸系感光性樹脂（東
京応化製、TPR）100重量部と界面活性剤（スリ
ーエム社製、FC431）0.4重量部の混合液を４μ
ｍ厚に塗布し乾燥した。

塗布性能が非常に良好となり、ポリジメチルシ
ロキサン硬化膜層との接着性も向上した。

TPR処理法に準じて露光・現像処理し、この
ものをプラズマ反応室中に入れ、大気下、
300W、0.3トルの条件下で２分間プラズマ処理を
行つた後、シランカツプリング剤（信越化学製、
KBM603）を0.5％トルエン溶液にしてホエラー
塗布し、100℃で乾燥させた。

次いでアクリルポリオール樹脂（総研化学製、
サーモラツクＵ−245B）15重量部、イソシアネ
ート硬化剤（武田薬品製、タケネートＡ−３）10
重量部、酢酸エチル350重量部を混合した溶液を
ホエラー塗布して100℃で硬化させた。この硬化
させた面をメチルエチルケトンを含ませた柔かい
布で軽く擦すると、プラズマ処理されたジメチル
ポリシロキサン硬化膜層上の樹脂硬化膜は強固に
接着していて剥れなかつたが、他の部分はレジス
ト膜と共に容易に剥離し、ジメチルポリシロキサ
ン硬化膜層上の上に硬化した樹脂画像が得られ
た。この硬化樹脂はジメチルポリシロキサン硬化
膜の面から約３μｍ突出して平凸版型となり、イ
ンキ受容性がよく、耐刷性はオフセツト印刷で約
30万通しであつた。

実施例 ２ 実施例１において、プラズマ処理後直ちにメチ
ルエチルケトンを含ませた布で軽く擦すつてレジ
スト膜を除去した。次いでウレタン系熱硬化性接
着剤（武田薬品製、主剤タケラツクＡ−310の12
重量部とイソシアネート系硬化剤タケネートＡ−
３の１重量部とを520重量部の酢酸エチルに混合
したもの）をホエラーで塗布し、60℃に加温し
た。

このとき保護膜によりプラズマ処理されなかつ
たジメチルポリシロキサン硬化膜層上の接着剤
は、プラズマ処理されたジメチルポリシロキサン
硬化膜層上に凝集した。このものを100℃に加熱
して樹脂の硬化を完成させ強固な画像とした。こ
の場合も樹脂部がジメチルポリシロキサン硬化膜
層の面から約５μｍ突出した平凸版型となり、イ
ンキ受容性がよく、オフセツト印刷での耐刷性は
約20万通しであつた。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第５図は、本発明の平版印刷用印刷版
の製造工程を示す逐次段階の一部拡大段面図であ
る。 １……基板、２……オルガノポリシロキサン硬
化膜層からなる非画線部、２′……表面がプラズ
マにより化学処理されたオルガノポリシロキサン
硬化膜層からなる画線部、３……保護層、４……
親インキ性でかつ耐摩耗性物質の層。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 基板の一方の面に、オルガノポリシロキサン
   硬化膜層からなる非画線部と、プラズマ状態の活
   性化された化学種で表面を化学処理したオルガノ
   ポリシロキサン硬化膜層上に形成した親インキ性
   でかつ耐摩耗性物質の層からなる画線部とを有す
   る平版印刷用印刷版。 ２ 基板の一方の面にオルガノポリシロキサン硬
   化膜層を設け、次いで該硬化膜層上にパターン状
   に保護層を設けた後、プラズマ状態の活性化され
   た化学種で該硬化膜層の非保護層部分を化学処理
   し、次いで前記保護層を除去した後、該硬化膜層
   のプラズマ処理面に親インキ性でかつ耐摩耗性物
   質の層を形成することにより、基板上にオルガノ
   ポリシロキサン硬化膜層からなる非画線部とプラ
   ズマ処理したオルガノポリシロキサン硬化膜層上
   に形成された親インキ性でかつ耐摩耗性物質の層
   からなる画線部とを形成することを特徴とする平
   版印刷用印刷版の製造法。 ３ 基板の一方の面にオルガノポリシロキサン硬
   化膜層を設け、次いで該硬化膜層上にパターン状
   に保護層を設けた後、プラズマ状態の活性化され
   た化学種で該硬化膜層の非保護層部分を化学処理
   し、次いで全面に親インキ性でかつ耐摩耗性物質
   の層を形成した後、前記保護層をその上に形成さ
   れた親インキ性でかつ耐摩耗性物質の層と共に除
   去することにより、基板上にオルガノポリシロキ
   サン硬化膜層からなる非画線部とプラズマ処理し
   たオルガノポリシロキサン硬化膜層上に形成され
   た親インキ性でかつ耐摩耗性物質の層からなる画
   線部とを形成することを特徴とする平版印刷用印
   刷版の製造法。