JPS6155671B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、湿し水を必要としない平版印刷用印
刷版およびその製造法に関し、さらに詳しくは、
解像性、耐刷性などの点で極めてすぐれた性質を
有する平版印刷用印刷版およびその製造法に関す
る。

平版印刷においては、凸版または凹版のように
版面に明瞭な高低がなく、外見上同じ平面上に画
線部と非画線部とを設けた版が使用されるが、こ
の印刷法はつぎの工程で行われる。すなわち、こ
れにはまず水と脂肪とが互に反発することから、
前記非画線部を化学的あるいは機械的処理によつ
て親水性にすると共に、前記画線部を脂肪性樹脂
の転写または写真焼付けなどによつて親油性と
し、ついでこの版面に水を転移させて水を親水性
である非画線部のみに付着させてから、さらにこ
の版面にインキを転移する。このようにすると、
このインキは水が存在している非画線部には付着
せずに親油性である画線部にのみ付着するので、
つぎにこれを被印刷物に転移させて目的の印刷物
を得るという工程によつて行われている。

しかし、この平版印刷法には、たとえば上記し
た湿し水のインキローラーへの転移がインキロー
ラー上でのインキの乳化を引き起すため、これが
地よごれなどの原因となるほか、この湿し水の被
印刷物への転移は、被印刷物の寸法変化の原因と
もなるので、特に多色刷り印刷においては印刷画
像が不鮮明になるという大きな欠点がある。また
この平版印刷法においては、色調の一定な印刷物
を得るために、湿し水の量とインキの量とを一定
のつり合いに保つことが必要とされているが、こ
の両者の量を一定のつり合いに保つことは非常に
困難であり、したがつて印刷物の色調にばらつき
が生じるという欠点があつた。

このため、上記した不利を改良する目的におい
て、湿し水を必要としない平版印刷用印刷版の開
発が試みられているが、現在までに知られている
ものはいずれもいまだ実用に耐える充分満足すべ
き性質を示すには至つていない。

たとえば、アルミニウム板などの基板上に、ジ
アゾ型感光性組成物よりなるジアゾ感光層とジメ
チルポリシロキサンゴム層とを形成させ、ついで
この上にさらにポジフイルムを重ね合せてから露
光することによつて露光部分のジアゾ感光層を不
溶化させ、非露光部分のジアゾ感光層を現像処理
により除去し、ついで非露光部分のジメチルポリ
シロキサンゴム層を剥ぎ取るという方法（特公昭
44−23042号公報参照）、あるいはアルミニウム板
などの基板上に、ジアゾ感光層と接着剤層とシリ
コーンゴム層を順次形成させ、ついでこの上にネ
ガフイルムを重ね合せてから露光し、露光部分に
おける感光層の光分解を利用して現像し、ついで
露光部分のシリコーンゴム層を剥ぎ取るという方
法で平版印刷用印刷版を得る方法（特公昭46−
16044号公報参照）が公知とされている。しか
し、これらの方法はいずれもジアゾ感光層とポジ
またはネガフイルムとの間に非感光性のシリコー
ンゴムが存在するため、これにはポジまたはネガ
フイルムに現わされているパターンが正確に再現
されず、さらにはシリコーンゴム層の剥ぎ取りが
感光層の溶剤溶解性の変化を利用して行われるた
めに剥ぎ取り後のシリコーンゴム層によつて形成
される価像はそのエツジ部分のきれが悪く、シヤ
ープなものにならないという重大な欠点があり、
これにはまたその製造が基板上に２〜３層を順次
重ね、露光後、現像するという工程で行われるた
め、操作が複雑であるという不利がある。

以上の現像操作上の欠点を除くものとして、シ
リコーン層を電子線、レーザー光、放電等により
破壊する方法（特公昭42−21879号公報参照）、シ
リコーン層をグローまたはコロナビームで走査す
ることにより親油性に変える方法（特公昭48−
8207号公報参照）が公知とされている。これによ
れば、電子線、レーザー光、放電等によりシリコ
ーン層の破壊またはコロナビームによる処理を行
うことにより、何ら現像操作を必要とせずに湿し
水なしでオフセツト印刷可能である。しかしなが
ら、インキ反発層であるジメチルポリシロキサン
を破壊し低分子量ジメチルポリシロキサンを生成
するためには高エネルギーが必要であり製版装置
が大がかりになる。さらには、シリコーン層のパ
ターニングの際に高エネルギーで熱的にシリコー
ンを破壊することにより画像エツジが盛り上がり
画線のシヤープネスが失われ、解像性および印刷
品質が低下するという欠点を有している。また、
コロナビームの使用ではインキ反発層を走査し画
像を形成するため刷版時間が長く、特有の設備が
必要となる。

本発明者らは、上述した従来の湿し水を必要と
しない平版印刷用印刷版の難点をふまえ、材料の
選択および製造法に関し総合的に検討した結果、
プラズマ状態の活性化された化学種で選択的に化
学処理することにより、発油性のオルガノポリシ
ロキサン硬化膜が親油性に変化することおよびこ
の変化はコロナ放電や火災処理などと異なり該硬
化膜層表面のみでなく内部にまで及んでいるこ
と、また適当な保護層を介することにより、化学
処理を選択的に防止しうること、基板とオルガノ
ポリシロキサン硬化膜層との間にプラズマ状態の
活性化された化学種により変色する物質層を存在
させることによりプラズマ処理の程度を正確に判
定することができること、低エネルギーで短時間
に処理できること、高解像力であることを見い出
し、本発明に到達したものである。

すなわち、本発明は基板の一方の面にプラズマ
状態の活性化された化学種により変色する物質層
を介してオルガノポリシロキサンの硬化膜層を設
け、次いで該硬化膜層上にパターン状に保護層を
設けた後、プラズマ状態の活性化された化学種で
該硬化膜層の非保護層部分を化学処理し、次いで
前記保護層を除去することにより、基板上にオル
ガノポリシロキサンの硬化膜層からなる非画線部
と該化学処理されたオルガノポリシロキサン層か
らなる画線部とを形成することを特徴とする平版
印刷用印刷版の製造法を要旨とする。

本発明の平版印刷用印刷版の製造法はプラズマ
による化学処理を応用するため次のようなすぐれ
た特性をもつものである。

(1) オルガノポリシロキサン自体には、パターン
形成能力は必要とされないため、耐溶剤性、耐
摩耗性、基板との接着性等にすぐれたオルガノ
ポリシロキサンから自由に選択できる。

(2) プラズマによる化学処理は、気相一固相間の
反応を利用するものであるから保護層には物理
的な力がほとんどかからず、オルガノポリシロ
キサン硬化膜層との接着性は比較的小さくてよ
い。解像性は使用する保護層自体の解像性のみ
に依存し、パターニングによる影響はないので
高解像度のものが得られる。

(3) オルガノポリシロキサン硬化膜層はガス透過
性が大で活性化学種は該層内部まで容易に侵入
する。このため表面のみでなく内部まで化学処
理される。

(4) プラズマ状態の活性化された化学種を、プラ
ズマ発生室より他室へ導くことが可能であるた
め、一つの発生装置から複数の室へ活性化学種
を供給することができ、同時に短時間で複数の
刷版が可能であり、装置も比較的安価である。

(5) 本発明の平版印刷用印刷版は、画線部、非画
線部の高低差が全くないため、従来のシリコー
ン層の除去によつて得られる平凹版にくらべ、
インキの版ブランケツトへの転移が向上し、印
刷品質の向上が得られる。

(6) 保護層の選択により容易にネガ、ポジの版材
が作製できる。

以下、本発明について詳細に説明する。

まず、本発明を図面に基づき説明すると、第４
図は本発明の平版印刷用印刷版の構成を概略的に
例示した一部拡大断面図であり、該刷版は、基板
１の一方の面に、プラズマ変色物質層２，２′を
介して、オルガノポリシロキサン硬化膜層からな
るインキ反発性の層３（非画線部）と、プラズマ
により化学処理されたオルガノポリシロキサン硬
化膜層からなるインキ受理性の層３′（画線部）
とを有する。

つぎに、本発明の平版印刷用印刷版の製造法に
つき説明すると、第１図に示すように、基板１の
一方の面に、プラズマ状態の活性化学種の作用に
より変色する物質層２を介して、オルガノポリシ
ロキサン硬化膜層３をその膜厚が２〜50μｍとな
るように設けた後、第２図に示すように上記オル
ガノポリシロキサン硬化膜層３の上にパターン状
に保護層４を設ける。つぎに、プラズマにより化
学処理すると、第３図に示すように保護層４を設
けていない部分のオルガノポリシロキサン硬化膜
層が改質されて親油化し、しかしてインキ受理性
の画線部３′が形成される。しかる後、保護層４
を除去すると、第４図に示すように上記本発明の
刷版が得られる。

上記基板には、プラズマによる化学処理によつ
て酸化やエツチング、あるいはプラズマで発生す
る紫外光による光劣化反応などの影響を受けない
ものが用いられ、その具体例としては、銅板、ア
ルミニウム板、ステンレス板、亜鉛板、鉄板ある
いはニツケルメツキした銅板もしくは鉄板、また
はクロムメツキ鉄板などの金属板および上記各種
金属箔を他の基板材料、たとえば紙、プラスチツ
ク上に載置したもの、さらに紙、プラスチツク類
の単体または複合体などが使用できる。

つぎに、基板上に前記プラズマで変色する物質
層２を介してオルガノポリシロキサン硬化膜層３
を設けるに用いるオルガノポリシロキサンとして
は（プラズマで変色する物質層２については後述
する）、強度、耐摩耗性にすぐれ耐刷性がよく、
インキ反発性が強いものが望ましく、ポリジメチ
ルシロキサンを主成分とする各種熱硬化性オルガ
ノポリシロキサンが好ましく使用される。熱硬化
性オルガノポリシロキサンとしては、一液型、二
液型があり、二液型における硬化は、≡Si−
OH、≡Si−OR、≡Si−Ｈ、≡Si−CH＝CH₂の
ような反応基をもつシロキサン同士の触媒による
架橋反応によるもので、脱水縮合、脱アルコール
縮合、脱水素縮合、付加重合などによる架橋反応
が起る。一液型の硬化は空気中の水分と反応し縮
合硬化反応を起すもので、脱酢酸型、脱アミン
型、脱アルコール型、脱オキシム型などがある。
これらはベンゼン、トルエン等適当な溶剤に溶か
し、回転塗布法、浸漬法、たれ流し法等により塗
布し、加熱乾燥することにより設けられる。

インキ反発性のオルガノポリシロキサン硬化膜
層３を形成するためのオルガノポリシロキサンの
具体的種類としては、塗布後常温もしくは加熱に
より架橋硬化してインキ反発性のシリコーンゴム
弾性体となるもので、けい素原子に結合する全有
機基の90モル％以上がメチル基である高重合度オ
ルガノポリシロキサン（これはインキ反発性にす
ぐれている）を主体としてなるものがよく、これ
には(1)分子鎖両末端が水酸基で封鎖された有機の
90モル％以上がメチル基である高重合度ジオルガ
ノポリシロキサン、架橋剤としてメチルハイドロ
ジエンポリシロキサンまたはエチルポリシリケー
ト、および縮合触媒として有機酸金層塩からなる
もの、(2)ビニル基含有高重合度ジオルガノポリシ
ロキサン（ビニル基以外の有機基の90モル％以上
がメチル基）、架橋剤としてのメチルハイドロジ
エンポリシロキサン、および付加反応触媒として
の白金系触媒からなるもの、(3)分子鎖両末端が水
酸基で封鎖された有機基の90モル％以上がメチル
基である高重合度ジオルガノポリシロキサン、お
よび架橋剤として１分子中に３個以上のアセトキ
シ基、アミノ基、オキシム基またはプロペノキシ
基等の加水分解性基を有するシランまたは低重合
度シロキサン化合物からなるものが例示される。
本発明においては上記(1)または(2)に例示した種類
のものが特に好適とされる。

なお、上記においてメチル基以外の有機基とし
ては、一般にフエニル基等のアリール基、ビニル
基等のアルケニル基、エチル基、プロピル基等の
アルキル基、トリフロオロプロピル基等のハロゲ
ン置換アルキル基などが例示される。

上記(1)、(2)および(3)に例示した組成物には必要
に応じ、インキ反発性をさらに向上させるための
通常のジオルガノポリシロキサンたとえばジメチ
ルポリシロキサンを硬化塗膜の性質に悪影響を与
えない範囲で添加すること、また耐刷性向上の目
的で少量の補強性充てん剤たとえばシリカ、酸化
アルミニウム、酸化チタン、酸化亜鉛等の微粉末
を添加することは差支えない。

なお、オルガノポリシロキサンの均一被膜形成
のため、あらかじめ基板表面を適宜の方法で清浄
し、さらに必要に応じ、その表面を粗面化し、該
被膜との密着性を向上させることが望ましい。ま
た、この基板表面は該被膜との接着性向上のため
その表面にあらかじめプライマーを塗布しておく
こともよく、このプライマーとしては、ビニルト
リス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタ
クリルオキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−
（３−トリメトキシシリルプロピル）エチレンジ
アミン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン
などのシラン単独またはこれらの混合物さらには
これらの部分加水分解物または部分共加水分解物
が使用され、これらは回転塗布、ロツドコーテイ
ング、刷毛塗り、スプレー塗りなどの通常の方法
により塗布される。

つぎに、上記オルガノポリシロキサン硬化膜層
３上に形成される保護層４には、プラズマによる
化学処理で起る種々のラジカル反応、光分解反応
等により著しく影響を受けず、またオルガノポリ
シロキサン硬化膜層の面から剥離してこない材料
が適用されるが、膜厚が数μ以上あれば、プラズ
マによる化学処理が通常数十秒〜数分以内で行わ
れるため、多くの材料が使用可能となる。このよ
うな材料の例としてはたとえばシツプレー社製ホ
トレジストAZ、東京応化社製ホトレジスト
OMR、TPRの如き市販のホトレジストおよび多
数の感光性樹脂、被覆性のある感光材料が使用で
きる。市販品の場合には通常のホトレジスト製版
法によりパターニングされる。なお、ホトレジス
ト画像を形成するには、ホトレジスト液を直接オ
ルガノポリシロキサン硬化膜層上に通常の塗布法
で塗布する方法と、一旦ポリエチレン、ポリプロ
ピレン等のフイルム上に塗布、乾燥後、加熱圧着
により、オルガノポリシロキサン硬化膜層上に転
写する方法が適用でき、しかる後パターニングを
行う。直接オルガノポリシロキサン硬化膜層上に
塗布する方法においてはオルガノポリシロキサン
硬化膜によりはじかれる場合があるので、適宜の
界面活性剤の添加等によりホトレジスト液の減粘
を行うことが必要となる。

上記市販のホトレジスト類は必ずしもオルガノ
ポリシロキサン硬化膜層との親和性が良好である
とは言えないが、オルガノポリシロキサンに感光
基を導入した感光性シリコーン液は良好な親和性
を示し、最も塗布しやすい。この場合の膜厚は２
〜５μｍで十分なプラズマ耐抗性を示す。

上記感光性シリコーン液（光硬化性オルガノポ
リシロキサン）としては、オルガノポリシロキサ
ン硬化膜層２へのぬれがよいことが必要であり、
そのためにはオルガノポリシロキサン硬化膜層２
と表面張力がほぼ等しいことが好ましく、この目
的に合つたものとして従来公知の光硬化性オルガ
ノポリシロキサンが使用できる。この表面張力と
しては18〜25dyn/cm望ましくは20〜23dyn/cmで
ある。

上記感光性シリコーンのうちでもシリコーン自
体が感光性基を有するものとしてはマレイミド基
または置換原子もしくは基を有するマレイミド基
が結合したシロキサン単位を有するオルガノポリ
シロキサン（特開昭51−120804号、同51−125277
号、同52−13907号、同52−105002号、同52−
116304号等参照）、アクリロキシ基または置換原
子もしくは基を含有するアクリロキシ基が結合し
たシロキサン単位を有するオルガノポリシロキサ
ン（特開昭48−16991号、同48−19682号、同48−
21779号、同48−23880号、同48−47997号、同48
−48000号、同48−83722号、同51−34291号、同
51−52001号、同52−105003号、同52−105004
号、同52−113805号、同52−113801号等参照）、
メルカプト基含有シロキサン単位を有するオルガ
ノポリシロキサンとビニル基含有シロキサン単位
を有するオルガノポリシロキサンとの混合物（特
開昭53−17405号等参照）、ビニル基含有シロキサ
ン単位を有するオルガノポリシロキサンとオルガ
ノハイドロジエンポリシロキサンとの混合物（特
開昭53−15907号等参照）、アミド基を含有するシ
ロキサン単位を有するオルガノポリシロキサン
（特開昭52−139200号、同52−139504号等参照）、
アクリロキシ基含有シロキサン単位を有するオル
ガノポリシロキサンとビニル基含有シロキサン単
位を有するオルガノポリシロキサンとの混合物
（特開昭52−139505号等参照）などが例示され
る。

また、シリコーンと感光性物質の混合物からな
るものとしては、アジド化合物、ｐ−キノンジア
ジド化合物、ケイ皮酸類、アクリル酸またはアク
リレート類等の感光性物質とオルガノポリシロキ
サンとの混合物（特開昭49−68803号、同49−
86102号、同49−121601号、同51−134204号等参
照）などの各種シリコーンが例示される。

エチルセルロース、エチルシドロキシセルロー
ス、アクリル樹脂などを含むインキを用いてスク
リーン印刷することによりレジスト層をパターン
状に形成することもできる。この場合においても
直接印刷と転写法があるが、減粘剤の添加は、印
刷適性を低下するため転写法が望ましい。さらに
また、静電写真用トナーなどをレジスト材料とし
て静電印刷によりレジスト層を形成することもで
きる。この場合、オルガノポリシロキサン硬化膜
層が絶縁物であるため、良好な静電潜像およびト
ナー画像を形成することが可能である。さらに簡
単には成膜性樹脂液を手描きしたり適当な印刷手
段で転写したものでもよい。

本発明においてプラズマによりオルガノポリシ
ロキサンの硬化膜層の表面を化学処理するには、
Ar、He、Neのような不活性ガスまたは酸素もし
くは大気などのような活性ガスによるプラズマ処
理が良好である。プラズマによる化学処理では、
(1)エツチング、(2)化学修飾、(3)架橋、(4)重合の４
種類の変化が複雑に複合して起こるとされている
が、本発明における不活性ガスまたは活性ガスに
よるプラズマ処理においては電子顕微鏡観察、赤
外吸収の測定により、表面のエツチングは起こら
ず主としてオルガノポリシロキサン硬化膜層の化
学修飾、すなわちアルキル基の脱離と水酸基、カ
ルボニル基の生成が起こつている。これによりプ
ラズマ状態における活性化学種がオルガノポリシ
ロキサン硬化膜の表面に衝突することによつて、
アルキルラジカルの脱離、ケイ素ラジカルの生
成、架橋によるオルガノポリシロキサンの三次元
化、アルキル基の酸化等による水酸基、カルボニ
ル基の生成等が起こるものと思われる。さらにこ
れらの反応は、オルガノポリシロキサン硬化膜層
の表面のみでなく、処理時間によつてかなり内部
まで進行している。これはオルガノポリシロキサ
ン硬化膜層が一般にガス透過性に富むため活性化
学種が層内部まで到達するものと推定される。

一方、コロナ処理や火災処理の場合はごく表面
のみに働き、この効果は手や布で擦つただけで失
なわれるのが普通である。これに対し本発明によ
るプラズマ処理では処理膜が摩耗するほど擦つて
もなお効果は失なわれない。

プラズマ活性化学種を形成させるための低圧ふ
ん囲気は、一般に空気でよいがAr、Ne、He等不
活性ガス、O₂、N₂、HN₃、CO₂、フツ化炭化水素
ガス等の活性ガスが使用できる。

プラズマによる処理時間は条件により変化する
が、たとえば３×0.01トル、300Wの条件下にお
いて30秒以上で効果的にオルガノポリシロキサン
硬化膜層が改質されるが、同条件下で20分以上で
はエツチング効果により保護層の劣化が起こるた
め好ましくない。

プラズマ保護層を薄くし、より高解像性を与え
ると一般にプラズマ耐抗性が低下する。これは一
般の有機保護層がシリコーン層同様にプラズマで
攻撃され、暫時気化飛散してより薄くなるためで
ある。したがつて該有機保護層内にプラズマ耐抗
性を有する物質を混在させておくと薄い保護層で
も十分な役割をはたし、かつ高解像性が得られ
る。一般に有機もしくは無機の充填剤が用いら
れ、特に無機充填剤が好適である。この理由はか
りに無機充填剤が酸素プラズマで攻撃されて化学
変化を起こしても、酸化物となつて残存しやすい
からである。したがつてもし金属酸化物たとえば
ZnO、TiO₂、Cu₂Oその他では化学変化が起こら
ず攻撃されないことになる。

プラズマ攻撃の特性としてしやへい物に対し直
角に攻撃するから、オルガノポリシロキサン硬化
膜層上に単に載置した物質でも保護効果がある。
したがつてこの理由から保護層内の充填剤は適当
な量に規制することができる。

これらの無機物質はSiO₂、TiO₂、ZnO、
PbO₂、Al₂O₃、Al（OH）₃、Fe、Sn、Ni、Cu、
Ge、Alその他の金属粉末、あるいは金属硫化
物、複塩、錯塩粉末等（無機顔料類が好ましい）
が、単独または混合して保護層中に10〜70重量％
程度混入させることが望ましい。

オルガノポリシロキサン硬化膜層が十分にプラ
ズマ処理されたときは非処理部分に比して若干マ
ツト化され、表面が白くなる。しかしあまり視認
性のよいものではない。さいわい、オルガノポリ
シロキサン硬化膜層はガス透過性がよく、プラズ
マ処理のとき活性ガスは層内に侵入し、結局全体
を処理することができるので、この処理効果を判
別するために本発明にしたがつてプラズマで変色
する物質層２を設ける手段が有効となる。すなわ
ち、オルガノポリシロキサン硬化膜層３の下引層
（アンカー層またはシランカツプリング剤層）に
プラズマ変色物質を含ませておくと、プラズマ処
理が完了した時点で下引層内変色物質に作用し発
色または消色その他の変色を起こさせることがで
きる。この方法はプラズマ処理の終点を判別する
上にきわめて有効である。

たとえば酸素または空気プラズマ処理におい
て、溶剤可溶性塩基性染料その他の酸化脱色性染
料が共存する場合に、プラズマ処理部が脱色して
処理部および処理の程度を認知することができ
る。

上記染料としては、通常の分散染料、およびカ
チオン染料が使用できる。たとえば、分散染料と
してカヤセツト−ブルーFR（日本化薬製）、TS
−バイオレツト501（住友化学製）、カチオン染料
としてはクリスタルバイオレツト、メチレンブル
ーなどがあり、該染料は下引層中に0.01〜５重量
％程度含有せしめることが望ましい。

一方酸化発色性染料または顔料を含む場合はプ
ラズマ処理部が着色する。たとえばロイコ染料な
どを含むときはその染料の色が処理部のみに形成
される。この種の例としては一般にラクトン環化
されたロイコ染料（メチレンブルー等）や還元無
色化された染料（バツト染料類）などが用いやす
い。

つぎに、プラズマによる化学処理後保護層を除
去するには、ホトレジストの場合ではオルガノポ
リシロキサン硬化膜層を破損するようなものたと
えば、強酸、強アルカリによるものは好ましくな
く、アセトン、エチルセロソルブ、トルエン等の
溶剤により除去することが望ましい。たとえば、
シツプレー社製ホトレジストAZは、アセトン、
メチルエチルケトン（MEK）等で溶解除去で
き、東京応化製TPRではエチルセロソルブによ
り剥膜可能である。スクリーン印刷でのレジスト
層は、トルエン等の溶剤で除去でき、また静電印
刷でのレジスト層ではMEK等の極性溶剤で除去
可能である。また、オルガノポリシロキサン硬化
膜層は他物質との接着が一般に弱いため残留レジ
スト膜を適当な接着テープや接着シート等でも容
易に除去することができる。

上記の如くして製造される本発明の平版印刷用
印刷版は、第４図に示す如き構成を有するもので
あるが、この非画線部３のオルガノポリシロキサ
ン硬化膜層はきわめて剥離性に富み、付着力の低
い物性を有するため、平版印刷用印刷版にインキ
ローラーからインキを供給するとインキと非画線
部、すなわちオルガノポリシロキサン硬化膜層と
の付着力がインキとローラー間、あるいはインキ
の粒子間の凝集力などに比べて低いため、非画線
部３にインキが転移されず、インキは表面をプラ
ズマ処理された画線部３′にのみ付着する。した
がつて、これによれば従来必要とされている湿し
水は全く不要になるという利点が得られる。

つぎに、実施例をあげて本発明をさらに具体的
に説明する。

実施例 １ アルミニウム基板の一方の面に、プライマーと
しての３−アミノプロピルトリエトキシシラン中
に0.01重量％のクリスタルバイオレツトラクトン
を混入した塗布液を用いてホエラーコートし、乾
燥後この処理面にポリジメチルシロキサン（信越
化学製、KS774）の硬化膜層を５μｍの厚さに形
成した後、ポリケイ皮酸系感光性樹脂（東京応化
製、TPR）100重量部と界面活性剤（スリーエム
社製、FC431）0.4重量部の混合液を４μｍ厚に
塗布し乾燥した後、TPR処理法に準じて露光・
現像処理し、パターン状の保護層を形成した。こ
のものをプラズマ反応室中に入れ、大気下、
300W、0.3トルの条件下で５分間プラズマ処理を
行つたところ、十分に処理された部分のみ青色発
色し、処理時間が１分程度の短時間の場合あるい
は保護層の現像むらによるプラズマ処理むらのあ
る部分などは発色しなかつた。この方法により、
プラズマ処理は表面のみでなくオルガノポリシロ
キサン硬化膜層を貫通させることもできることが
判ると共に、プラズマ処理の終点を示す指標とな
ることが判明した。

プラズマ処理後、レジスト層をエチルセロソル
ブにより剥離し、平版印刷用印刷版を製造した。
耐刷性は３万〜５万枚であつた。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第４図は、本発明の平版印刷用印刷版
の製造工程を示す逐次段階の一部拡大断面図であ
る。 １……基板、２……プラズマ変色物質層、３…
…オルガノポリシロキサン硬化膜層からなる非画
線部、３′……表面がプラズマにより化学処理さ
れたオルガノポリシロキサン硬化膜層からなる画
線部、４……保護層。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 基板の一方の面に、プラズマ状態の活性化学
   種の作用により変色する物質層を介してオルガノ
   ポリシロキサンの硬化膜層を設け、次いで該硬化
   膜層上にパターン状に保護層を設けた後、プラズ
   マ状態の活性化された化学種で該硬化膜層の非保
   護層部分を化学処理し、次いで前記保護層を除去
   することにより、基板上にオルガノポリシロキサ
   ンの硬化膜層からなる非画線部と該化学処理され
   たオルガノポリシロキサン層からなる画線部とを
   形成することを特徴とする平版印刷用印刷版の製
   造法。