JPS6185143U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6185143U JPS6185143U JP16852784U JP16852784U JPS6185143U JP S6185143 U JPS6185143 U JP S6185143U JP 16852784 U JP16852784 U JP 16852784U JP 16852784 U JP16852784 U JP 16852784U JP S6185143 U JPS6185143 U JP S6185143U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction chamber
- negative pressure
- sealing part
- cover
- membrane manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 7
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 5
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 3
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
第１図Ａはこの考案の膜製造装置の構造の一実
施例を略線的に示す平面図、第１図Ｂは第１図Ａ
の膜製造装置の一部切欠正面図、第２図Ａは従来
の膜製造装置の構造の説明に供する一部切欠平面
図、第２図Ｂは第２図Ａの膜製造装置の一部切欠
正面図である。 １…装置本体、２…反応室、３…凹所、４…パ
ツキン、５…溝、６…第一構成部分（本体構成部
分）、７…第二構成部分（蓋）、８…昇降軸、９
…気密封鎖部、１０…基板ホルダ、１１…基板、
１２…反応ガス送給部、１３，１４，１８…排気
管、１６…カバー、１７…負圧室。
施例を略線的に示す平面図、第１図Ｂは第１図Ａ
の膜製造装置の一部切欠正面図、第２図Ａは従来
の膜製造装置の構造の説明に供する一部切欠平面
図、第２図Ｂは第２図Ａの膜製造装置の一部切欠
正面図である。 １…装置本体、２…反応室、３…凹所、４…パ
ツキン、５…溝、６…第一構成部分（本体構成部
分）、７…第二構成部分（蓋）、８…昇降軸、９
…気密封鎖部、１０…基板ホルダ、１１…基板、
１２…反応ガス送給部、１３，１４，１８…排気
管、１６…カバー、１７…負圧室。
補正 昭６０．１１．２９
実用新案登録請求の範囲を次のように補正する
。
。
【実用新案登録請求の範囲】
互いに気密封鎖することにより密閉反応室を形
成する第一及び第二構成部材を具え、該密閉反応
室に反応ガスを送りかつ反応済ガスを排気出来る
ように構成して成る膜製造装置において、前記気
密反応室の外側の前記第一及び第二構成部材が形
成する気密封鎖部の周辺に、該気密封鎖部を覆い
かつ排気により負圧にされる負圧室を形成するカ
バーを具えることを特徴とする膜製造装置。 図面の簡単な説明を次のように補正する。 明細書第９頁第１３行及び第１４行「部分」を
「部材」と訂正する。
成する第一及び第二構成部材を具え、該密閉反応
室に反応ガスを送りかつ反応済ガスを排気出来る
ように構成して成る膜製造装置において、前記気
密反応室の外側の前記第一及び第二構成部材が形
成する気密封鎖部の周辺に、該気密封鎖部を覆い
かつ排気により負圧にされる負圧室を形成するカ
バーを具えることを特徴とする膜製造装置。 図面の簡単な説明を次のように補正する。 明細書第９頁第１３行及び第１４行「部分」を
「部材」と訂正する。
Claims (1)
- 互いに気密封鎖することにより密閉反応室を形
成する第一及び第二構成部材を具え、該密閉反応
室に反応ガスを送りかつ反応済ガスを排気出来る
ように構成して成る膜製造装置において、前記気
密反応室の外側の前記第一及び第二構成部材が形
成する気密封鎖部の周辺に、該気密封鎖部を覆い
かつ排気により負圧にされる負圧室を形成するカ
バー具えることを特徴とする膜製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16852784U JPH0526735Y2 (ja) | 1984-11-08 | 1984-11-08 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16852784U JPH0526735Y2 (ja) | 1984-11-08 | 1984-11-08 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6185143U true JPS6185143U (ja) | 1986-06-04 |
| JPH0526735Y2 JPH0526735Y2 (ja) | 1993-07-07 |
Family
ID=30726295
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16852784U Expired - Lifetime JPH0526735Y2 (ja) | 1984-11-08 | 1984-11-08 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0526735Y2 (ja) |
-
1984
- 1984-11-08 JP JP16852784U patent/JPH0526735Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0526735Y2 (ja) | 1993-07-07 |
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