JPS619590A - 電鋳装置 - Google Patents
電鋳装置Info
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- JPS619590A JPS619590A JP13010784A JP13010784A JPS619590A JP S619590 A JPS619590 A JP S619590A JP 13010784 A JP13010784 A JP 13010784A JP 13010784 A JP13010784 A JP 13010784A JP S619590 A JPS619590 A JP S619590A
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- Japan
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- matrix
- master
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- anode part
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の技術分野）
本発明は電鋳装置に関し、さらに詳しくはその電鋳用陽
極Ｃ二関する。
極Ｃ二関する。
（発明の技術的背景とその問題点〕
レコード盤の製造工程（二おいて、スタンパ−と呼ばれ
る薄型円盤状金属板が用いられることは良く知られてい
る。このスタンパ−は次の工程で作らｎでいる。
る薄型円盤状金属板が用いられることは良く知られてい
る。このスタンパ−は次の工程で作らｎでいる。
すなわちラッカー板に針を用いて溝状にパターンを刻設
して、まず原盤を作る。
して、まず原盤を作る。
次にこの原盤に銀鏡反応等（二より、４電層な設けた後
、厚さ２００〜３０咽ｍのニッケルめっきを施し、剥離
したニッケル膜をマスターとした。次にマスター表面を
剥離処理した後、ニッケルめっきを施し、剥離したニッ
ケル膜なマザーとした。更にマザー表面を剥離処理した
後、ニッケルめっきを施し、剥離処理したニッケ／ｌ’
ｌＢｆ’をスタンパ−として使用するのである。
、厚さ２００〜３０咽ｍのニッケルめっきを施し、剥離
したニッケル膜をマスターとした。次にマスター表面を
剥離処理した後、ニッケルめっきを施し、剥離したニッ
ケル膜なマザーとした。更にマザー表面を剥離処理した
後、ニッケルめっきを施し、剥離処理したニッケ／ｌ’
ｌＢｆ’をスタンパ−として使用するのである。
これに対し、記録をより高密度にさせる目的で、例えば
硝子板に塗布した感光性樹脂膜に光学的エツチングを施
して、微細パターンを刻設した原盤が知られている。こ
の原盤からも、上記と同様にしてスタンパ−が得られる
。
硝子板に塗布した感光性樹脂膜に光学的エツチングを施
して、微細パターンを刻設した原盤が知られている。こ
の原盤からも、上記と同様にしてスタンパ−が得られる
。
このような微細パターンを持つ原盤よりスタンパ−を作
る際に、陽極として溶解性ニッケル陽極を使用した場合
、溶解させる金属が＠極近傍で酸化して不溶解性沈澱物
のスライムを形成したり、あるいは陽極表面に酸化物の
スマットを生成したりする。これらは電鋳ニッケル膜内
にとり込まれ微細パターンを損なうという問題点があっ
た。さら（二、ニッケル陽ａが溶（するＣ二したがって
その陽極と陰極との間の極間距離が変化してつ（られる
ニッケル膜の膜厚を不均一にする等の問題点もあった。
る際に、陽極として溶解性ニッケル陽極を使用した場合
、溶解させる金属が＠極近傍で酸化して不溶解性沈澱物
のスライムを形成したり、あるいは陽極表面に酸化物の
スマットを生成したりする。これらは電鋳ニッケル膜内
にとり込まれ微細パターンを損なうという問題点があっ
た。さら（二、ニッケル陽ａが溶（するＣ二したがって
その陽極と陰極との間の極間距離が変化してつ（られる
ニッケル膜の膜厚を不均一にする等の問題点もあった。
これらの問題点は、特開昭５８−１５７９８４に開示さ
れているように、陽極として不溶解陽極を使用するとと
ζ；より解決できる。
れているように、陽極として不溶解陽極を使用するとと
ζ；より解決できる。
しかしながら、従来使用されていた不溶解陽極は平板状
であったため、めっきする原盤を回転させても得られた
スタンパ−の中心部あるいは周辺部の膜厚が他の部分に
比べて厚くあるいは薄くなって不均一になりこれを使用
して複製したディスクの膜厚が不均一（二なるという間
匙点があった。
であったため、めっきする原盤を回転させても得られた
スタンパ−の中心部あるいは周辺部の膜厚が他の部分に
比べて厚くあるいは薄くなって不均一になりこれを使用
して複製したディスクの膜厚が不均一（二なるという間
匙点があった。
この発明の目的は、微細パターンの転写性が良好で、か
つ均一な膜厚のスタンパ−が得られる電鋳装置を提供す
ることシニある。
つ均一な膜厚のスタンパ−が得られる電鋳装置を提供す
ることシニある。
本発明は、微細パターンが形成されている原盤を回転さ
せながら、不溶解陽極を用いて電鋳する電鋳装置におい
て、前記陽極が、中心部（二位置する第１の陽ａ部と、
前記ＷＩｌの陽極部のまわりに前記第１の陽極部と段差
を有して設けられた単数あるいは複数の第２の陽極部と
の組み合わせからなり、かつ前記第１の陽極部あるいは
第２の陽極部における前記原盤の回転の中心に対する位
置から、前記原盤と平行な方向で等距離にある同心円上
では少くども二種以上の異った極間距離を有している部
分があるとと゛を特徴としている。
せながら、不溶解陽極を用いて電鋳する電鋳装置におい
て、前記陽極が、中心部（二位置する第１の陽ａ部と、
前記ＷＩｌの陽極部のまわりに前記第１の陽極部と段差
を有して設けられた単数あるいは複数の第２の陽極部と
の組み合わせからなり、かつ前記第１の陽極部あるいは
第２の陽極部における前記原盤の回転の中心に対する位
置から、前記原盤と平行な方向で等距離にある同心円上
では少くども二種以上の異った極間距離を有している部
分があるとと゛を特徴としている。
第１図は１本発明に係る電鋳装置の一例を示した縦断面
模式図である。図で、原盤ｌはパターン面を露出面とし
たようにして回転陰極２に取付けられている。陽極部は
不溶解溶極で中心部（二位置する第１の陽極部（３り及
びそのまわりに段差を有シテ配置された第２の陽極部（
３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅ、３りの組み合わせからなって
いる。そして、１１！析槽゛４；′内に設けられためつ
き浴５中で電源６によりめっきが行なわれる。又、回転
陰極２はモーター７（二より所定の速度で回転する。一
方めっき浴５は循環用ポンプ８により溶解槽９から濾過
フィルター１０を通して清浄にした後電析槽４（二供給
されまた溶解第１９＋二戻る。
模式図である。図で、原盤ｌはパターン面を露出面とし
たようにして回転陰極２に取付けられている。陽極部は
不溶解溶極で中心部（二位置する第１の陽極部（３り及
びそのまわりに段差を有シテ配置された第２の陽極部（
３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅ、３りの組み合わせからなって
いる。そして、１１！析槽゛４；′内に設けられためつ
き浴５中で電源６によりめっきが行なわれる。又、回転
陰極２はモーター７（二より所定の速度で回転する。一
方めっき浴５は循環用ポンプ８により溶解槽９から濾過
フィルター１０を通して清浄にした後電析槽４（二供給
されまた溶解第１９＋二戻る。
ここで用いられる不溶解陽極の一例としてはニッケル板
に金又は白金を被覆したものあるいはチタン板１；金又
は白金を被覆したもの等があげられスー、＄−Ｌ″ｆ″
ｇＭ１□□□で云１７かように段差を有して設けたこと
により半径方向において異なった極間距離ができ、これ
によってたとえば従来のような一枚の平板よりなる陽極
を用いた場合喀：めっき膜が厚くなってしまう周辺部の
ような位置では、極間距離を大きくすることができるの
で、所定の厚さにまで前記めっき膜の厚さを薄（するこ
とができる。そして前記第１のｒａ＆部あるいは第２の
陽極部における前記原板の回転の中心に対する位置から
、前記原盤と平行な方向で等距離にある同心円上におい
ては、少くとも二種以上の異なった極間距離を有してい
る部分があることから、より均一なめつき膜を形成する
ことが可能になる。これは、たとえば本発明に係る電鋳
装置の陽ａ部を例示した模式図である！２図のように第
１の陽極部（３Ｊｌ）及び第２の陽極部を楕円形状にす
ることによって、回転する原盤のある部分では第１の陽
極部（３ａ知１らだけよりめっきが施されるが、その外
側の部分では回転するに従って前記Ｎ＆１の陽極部（３
り及び前記第１の陽極部（３ａ）とは極間距離の異なる
第２の陽極部（３ｂ）から交互にめっきを施されさらに
その外側では第２の陽極部（３ｂ）からだけによりめっ
きが施される。こうして、たとえば同心円状からなる段
差を有した第１１ｉ＃１極部及び第２陽極部の組み合わ
せよりなる陽極を用いた場合に生じる段差に対応する部
分に起きやすいめっき膜の段差の生成を妨げて、より均
一な厚さのめつき膜をつくることができる。又、本発明
の電鋳装置と同様な効果を生む他の陽極としては、第３
図の模式図に示すようＣ；偏心した円の組み合わせ等が
あげられる。
に金又は白金を被覆したものあるいはチタン板１；金又
は白金を被覆したもの等があげられスー、＄−Ｌ″ｆ″
ｇＭ１□□□で云１７かように段差を有して設けたこと
により半径方向において異なった極間距離ができ、これ
によってたとえば従来のような一枚の平板よりなる陽極
を用いた場合喀：めっき膜が厚くなってしまう周辺部の
ような位置では、極間距離を大きくすることができるの
で、所定の厚さにまで前記めっき膜の厚さを薄（するこ
とができる。そして前記第１のｒａ＆部あるいは第２の
陽極部における前記原板の回転の中心に対する位置から
、前記原盤と平行な方向で等距離にある同心円上におい
ては、少くとも二種以上の異なった極間距離を有してい
る部分があることから、より均一なめつき膜を形成する
ことが可能になる。これは、たとえば本発明に係る電鋳
装置の陽ａ部を例示した模式図である！２図のように第
１の陽極部（３Ｊｌ）及び第２の陽極部を楕円形状にす
ることによって、回転する原盤のある部分では第１の陽
極部（３ａ知１らだけよりめっきが施されるが、その外
側の部分では回転するに従って前記Ｎ＆１の陽極部（３
り及び前記第１の陽極部（３ａ）とは極間距離の異なる
第２の陽極部（３ｂ）から交互にめっきを施されさらに
その外側では第２の陽極部（３ｂ）からだけによりめっ
きが施される。こうして、たとえば同心円状からなる段
差を有した第１１ｉ＃１極部及び第２陽極部の組み合わ
せよりなる陽極を用いた場合に生じる段差に対応する部
分に起きやすいめっき膜の段差の生成を妨げて、より均
一な厚さのめつき膜をつくることができる。又、本発明
の電鋳装置と同様な効果を生む他の陽極としては、第３
図の模式図に示すようＣ；偏心した円の組み合わせ等が
あげられる。
これらの陽＆はたとえば板状をした原材料を打ちぬいて
作製する他にも、１枚の原１材料をプレス等によりつな
げたまま加工して作製したり、複数の板な積み重ねて作
製することも可能である。
作製する他にも、１枚の原１材料をプレス等によりつな
げたまま加工して作製したり、複数の板な積み重ねて作
製することも可能である。
以下に実施例を示す。
実施例１
第１図に示した構造を有する電鋳装置を用いて以下の条
件でめっきを行なった。
件でめっきを行なった。
硝子板Ｃ：塗布した感光性樹脂膜に光学的エツチングを
施して微細パターンを刻設した原盤Ｉ：金を３００１−
１０００１蒸看し、原盤のパターン面、に導電性を付与
した。ついでこの原盤ｌを回転陰極２にパターン面を露
出面としたように取付けた。陽極３としてはチタン板に
白金を被覆したものを用いた。その形状は第２図に示す
ような楕円状の６つのリングから構成されている。モー
タ７により約ＩＱＱＲＰＭで回転している原盤ｌを電析
槽４のスルファミン酸ニッケルめっき浴５中で電源６に
より０．２５．餡の厚さまでニッケルめっきした後、原
盤から電鋳膜を剥離すると、表面に金を付看した電鋳ニ
ッケル膜が光学ディスク形成用マスタースタンパ−とし
て得られた。ここで、めっき浴５は、スルファミン酸ニ
ッケル６００．９／ｊ、ホウ酸４０９／１とピット防止
剤ナイスター８０６（上材工業（株）商品名） ｌ ａ
ｌｌｌ とから構成した。
施して微細パターンを刻設した原盤Ｉ：金を３００１−
１０００１蒸看し、原盤のパターン面、に導電性を付与
した。ついでこの原盤ｌを回転陰極２にパターン面を露
出面としたように取付けた。陽極３としてはチタン板に
白金を被覆したものを用いた。その形状は第２図に示す
ような楕円状の６つのリングから構成されている。モー
タ７により約ＩＱＱＲＰＭで回転している原盤ｌを電析
槽４のスルファミン酸ニッケルめっき浴５中で電源６に
より０．２５．餡の厚さまでニッケルめっきした後、原
盤から電鋳膜を剥離すると、表面に金を付看した電鋳ニ
ッケル膜が光学ディスク形成用マスタースタンパ−とし
て得られた。ここで、めっき浴５は、スルファミン酸ニ
ッケル６００．９／ｊ、ホウ酸４０９／１とピット防止
剤ナイスター８０６（上材工業（株）商品名） ｌ ａ
ｌｌｌ とから構成した。
又、めっきは浴温４５℃、電流密度１２Ａ／ｄｏ？浴の
ｐＨ４，２±０．２の条件で行なった。この電鋳装置で
は、陽極として不溶解陽極を使用するためζ二、めっき
中にニッケル濃度が減少し、浴のｐＨは低下する。その
ため、溶解種口炭酸ニッケル（ＮＩＣ０，・２Ｎｉ（Ｏ
Ｈ）、・４Ｈ，０）を添加し、ニッケル濃度及び浴のｐ
Ｈｆ＆：Ｍ潜時の値に保つようにした。
ｐＨ４，２±０．２の条件で行なった。この電鋳装置で
は、陽極として不溶解陽極を使用するためζ二、めっき
中にニッケル濃度が減少し、浴のｐＨは低下する。その
ため、溶解種口炭酸ニッケル（ＮＩＣ０，・２Ｎｉ（Ｏ
Ｈ）、・４Ｈ，０）を添加し、ニッケル濃度及び浴のｐ
Ｈｆ＆：Ｍ潜時の値に保つようにした。
第２図に例示したような陽極を構成する第１のＭＡ極部
（３り及び第２の陽極部（３ｂ）、（３Ｃ） 、 （３
ｄ） 。
（３り及び第２の陽極部（３ｂ）、（３Ｃ） 、 （３
ｄ） 。
（３ｅ）、（３ｆ）の各々と陰極との極間距離はそれぞ
れ２０ 、２１ 、２２ 、２３ 、２４ 、５０１１
１とした場合に、スタツフ、（−膜厚の半径方向の変化
は第４図の曲線（ａｌに示したように半径１４５ ａｌ
ｌまでは２５０±２μｍと非常に均一なものになった。
れ２０ 、２１ 、２２ 、２３ 、２４ 、５０１１
１とした場合に、スタツフ、（−膜厚の半径方向の変化
は第４図の曲線（ａｌに示したように半径１４５ ａｌ
ｌまでは２５０±２μｍと非常に均一なものになった。
比較例として従来の平板陽極を使用し、極間距離を４０
１１１１とした場合、スタンパ−膜厚の半径方向の変化
は第４図の曲線（ｂ）に示したように半径１４５葬まで
で２５０士四μｍ と不均一なもの（二なった。
１１１１とした場合、スタンパ−膜厚の半径方向の変化
は第４図の曲線（ｂ）に示したように半径１４５葬まで
で２５０士四μｍ と不均一なもの（二なった。
実施例２
第３図に示したような偏心した円からなる陽ａを用いて
実施例１と同様の条件でめっきを行なった。この陽極は
第１の陽極部（３ａ）及び第２の陽極部（３ｂ）、Ｃ３
Ｃ） 、（３ｄ）、 （３６）からなり、それぞれの陽
極部の外周は円形を有しているが内側に設けられた白状
の陽極部は偏心した位置に設けられている。
実施例１と同様の条件でめっきを行なった。この陽極は
第１の陽極部（３ａ）及び第２の陽極部（３ｂ）、Ｃ３
Ｃ） 、（３ｄ）、 （３６）からなり、それぞれの陽
極部の外周は円形を有しているが内側に設けられた白状
の陽極部は偏心した位置に設けられている。
又Ｓ第１の陽極部（３り及び第２の陽極部（３ｂ）。
（３Ｃ）、（３ｄ）、（３ｅ）の各々は陰極との極間距
離を各々２２１１Ｍ 、 ２０ｆｉ 、 ２２１１１１
、２４１１ｍ 、 ５０８１１としてめっきを行なっ
た。その結果、第５図の曲線（ａｌに示すようにスタン
パ−膜厚の半径方向の変化は半径１４５１１１１までは
、２５０±２μｍと非常に均一なもの（二なった。
離を各々２２１１Ｍ 、 ２０ｆｉ 、 ２２１１１１
、２４１１ｍ 、 ５０８１１としてめっきを行なっ
た。その結果、第５図の曲線（ａｌに示すようにスタン
パ−膜厚の半径方向の変化は半径１４５１１１１までは
、２５０±２μｍと非常に均一なもの（二なった。
また、比較例として従来の平板陽極を使用し、楢間距離
を４０１１１とした場合、スタンパ−膜厚の半径方向の
変化は第５図の曲線（ｂ）のように半径１４５ｍ１１＋
までで２５０±２０／ｘｎ と不均一なもの（＝なった
。
を４０１１１とした場合、スタンパ−膜厚の半径方向の
変化は第５図の曲線（ｂ）のように半径１４５ｍ１１＋
までで２５０±２０／ｘｎ と不均一なもの（＝なった
。
上述したようＣ二、本発明による電鋳装置では従来の平
板状の陽極を用いる場合に比べて極間距離に段差をもた
せたことにより、さら（二同心円状に配された陽＆によ
るめっきを行なう時に生じやすい半径方向の段差も、め
っきされる部分によっては１段差を有する第１の陽極部
と第２の陽極部又は第２の陽極部の複数の陽極部から又
互にめっきされることにより、スタンパ−の膜厚を均一
にすることができる。
板状の陽極を用いる場合に比べて極間距離に段差をもた
せたことにより、さら（二同心円状に配された陽＆によ
るめっきを行なう時に生じやすい半径方向の段差も、め
っきされる部分によっては１段差を有する第１の陽極部
と第２の陽極部又は第２の陽極部の複数の陽極部から又
互にめっきされることにより、スタンパ−の膜厚を均一
にすることができる。
第１図は本発明に係る電鋳装置の模式縦断１１ｉ１１１
゜第を第３図は、本発明に係る電鋳装置に用いる陽極の
１例を上からみた形状を表わした模式図。 第４図、第５図は実施例シニおけるスタンバ−の膜厚及
び比較例におけるスタンバ−の半径方向に関する膜厚の
変化を示した特性因。 １・・・原ｌ ２・・・回転陰極３・・
・陽極 ３ａ・・・第１の陽極部（３ｂ）
、（３Ｃ） 、（３ｄ） 、（３ｅ）、（３ｆ）−・・
第２の陽極部４・・・電析槽 ５・・・めっ
き浴６・・・電源 ７・・・モーター８・
・・循環用ポンプ ９・・・溶解槽ｌＯ・・・濾過
フィルター 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 （ほか１名） 第 １ 図 第 ２ 図
゜第を第３図は、本発明に係る電鋳装置に用いる陽極の
１例を上からみた形状を表わした模式図。 第４図、第５図は実施例シニおけるスタンバ−の膜厚及
び比較例におけるスタンバ−の半径方向に関する膜厚の
変化を示した特性因。 １・・・原ｌ ２・・・回転陰極３・・
・陽極 ３ａ・・・第１の陽極部（３ｂ）
、（３Ｃ） 、（３ｄ） 、（３ｅ）、（３ｆ）−・・
第２の陽極部４・・・電析槽 ５・・・めっ
き浴６・・・電源 ７・・・モーター８・
・・循環用ポンプ ９・・・溶解槽ｌＯ・・・濾過
フィルター 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 （ほか１名） 第 １ 図 第 ２ 図
Claims (3)
- （１）微細パターンが形成されている原盤を回転させな
がら不溶解陽極を用いて電鋳する電鋳装置において、 前記陽極が、中心部に位置する第１の陽極部と、前記第
１の陽極部のまわりに前記第一の陽極部と段差を有して
設けられた単数あるいは複数の第２の陽極部との組み合
わせからなり、かつ前記第１の陽極部あるいは第２の陽
極部における前記原盤の回転の中心に対する位置から、
前記原盤と平行な方向で等距離にある同心円上では少く
とも二種以上の異つた極間距離を有している部分がある
ことを特徴とした電鋳装置。 - （２）前記第１の陽極部あるいは第２の陽極部の少くと
も一方が楕円形状であることを特徴とした特許請求の範
囲第１項記載の電鋳装置。 - （３）前記第１の陽極部あるいは第２の陽極部の少くと
も一方が円形状を有し、かつ偏心した組み合わせである
ことを特徴とした特許請求の範囲第１項記載の電鋳装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13010784A JPS619590A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | 電鋳装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13010784A JPS619590A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | 電鋳装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS619590A true JPS619590A (ja) | 1986-01-17 |
| JPH0144794B2 JPH0144794B2 (ja) | 1989-09-29 |
Family
ID=15026116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13010784A Granted JPS619590A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | 電鋳装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS619590A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104372385A (zh) * | 2013-08-13 | 2015-02-25 | 赛特莱特（佛山）塑胶制品有限公司 | 电铸槽 |
-
1984
- 1984-06-26 JP JP13010784A patent/JPS619590A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104372385A (zh) * | 2013-08-13 | 2015-02-25 | 赛特莱特（佛山）塑胶制品有限公司 | 电铸槽 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0144794B2 (ja) | 1989-09-29 |
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