JPS6197862A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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Publication number
JPS6197862A
JPS6197862A JP59219888A JP21988884A JPS6197862A JP S6197862 A JPS6197862 A JP S6197862A JP 59219888 A JP59219888 A JP 59219888A JP 21988884 A JP21988884 A JP 21988884A JP S6197862 A JPS6197862 A JP S6197862A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transistor
diode
emitter
base
switching speed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP59219888A
Other languages
English (en)
Inventor
Fumihiko Kitahara
北原 文彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Original Assignee
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd, Kansai Nippon Electric Co Ltd filed Critical Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Priority to JP59219888A priority Critical patent/JPS6197862A/ja
Publication of JPS6197862A publication Critical patent/JPS6197862A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
    • H10D84/60—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers characterised by the integration of at least one component covered by groups H10D10/00 or H10D18/00, e.g. integration of BJTs
    • H10D84/611—Combinations of BJTs and one or more of diodes, resistors or capacitors
    • H10D84/613—Combinations of vertical BJTs and one or more of diodes, resistors or capacitors
    • H10D84/617—Combinations of vertical BJTs and only diodes

Landscapes

  • Bipolar Transistors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産lユJ夏U帽土此 この発明は各種電源回路等に使用される電力増幅用の半
導体装置に関する。
従来至圧丑 テレビジョン受像機のCRTドライブ回路などの各種電
源回路に使用される電力増幅用トランジスタ回路はその
電流増幅率hiに大きなものが要求されるので、通常は
トランジスタを複数個ダーリントン接続したダーリント
ントランジスタ回路が使用されている。このダーリント
ントランジスタ回路は、1つの素子内で形成することが
可能であり、1つの半導体基板に複数のトランジスタや
抵抗を形成してAj2配線にて接続した半導体装置とし
て実用化され、その基本例を第4図の等価回路を参照し
て以下説明する。
第4図において、Trl及びT r 2はNPN型の第
1及び第2トランジスタで、この両者はダーリントン接
続、Wち両者のコレクタC1、C2を共通にして、第1
トランジスタT r 1のエミッタE1を第2トランジ
スタT r 2のベースB2に接続する。R1及びR2
は第1及び第2トランジスタTr1 、Tr2の各ベー
ス・エミッタ間に接続された第1及び第2抵抗で、共に
半導体抵抗である。(1)は上述トランジスタTr1、
Tr2及び抵抗R,、R2が形成された半導体基板であ
る。
このようなダーリントントランジスタ回路(2)のhF
Eは第1トランジスタT r 1のベース入力端(3)
に入る入力電流I8と第2トランジスタ7r2のエミッ
タ出力端(4)の出力電流1cの比で近似され、これは
第1、第2トランジスタTrl 、Tr2の各々の電流
増幅率をhFEl 、hFE2とすると hFE””hFEl ×hFE2 で表されることが知られている。
号 ゛ しよ゛と る四 ところで、上記のようなダーリントントランジスタ回路
は、簡単な回路で高いhFEが得られることから、各種
電源回路に賞月されているが、hFEが高くなる程にス
イッチング速度が低下することが知られている。このス
イッチング速度低下は電力増幅用トランジスタ単体のも
のでも見られる一般的傾向である。そのため、電力増幅
用トランジスタを単体で、又は複数をダーリントン接続
して電源回路に使用した場合、テレビジョン受像機のC
RTドライブ回路の水平出力段などのように高い応答性
が求められる回路においては問題が多くて改善策が要望
されていた。
p 占  °  るた の 本発明は上記電力増幅用トランジスタを含む回路のスイ
ッチング速度を向上させることを目的とし、電力増幅用
トランジスタ回路の出力端から入力端に順方向にダイオ
ードを接続することにより上記目的を達成したものであ
る。
即ち、電力増幅用トランジスタはhFEを大きくする程
、動作時にエミッタの多数キャリアである電子がベース
に滞留する率が高くなり、これがスイッチング速度を遅
くするといった構造上の基本的特性を持つことが知られ
ている。そこで上記手段のようなダイオードを電力増幅
用トランジスタ回路に付設してダイオードを介しトラン
ジスタのベースに滞留した電子を積極的にエミッタに戻
すことにより、スイッチング速度が上がり、上記従来問
題点が解決される。
皇1皿 本考案の一実施例を第1図及び第2図に基づき説明する
と、TrはNPN型の電力増幅用トヘ ランジスタ、RはトランジスタTrのベース・エミッタ
間に接続された抵抗(半導体抵抗)であり、本考案の特
徴はこのトランジスタTrと抵抗Rからなる一般的トラ
ンジスタ回路(5)におけるトランジスタTrのエミッ
タ端子(6)とベース入力端子(7)の間にPN接合に
ついて逆方向が順方向のダイオードDIを接続すること
である。(8)はトランジスタT r %抵抗R1ダイ
オードD1及び必要に応じトランジスタTrのエミッタ
・コレクタ間に接続した一般的なダンパーダイオードD
°が形成された半導体基板である。半導体基板(8)に
おける前記ダイオードD1は第2図に示すようにNPN
型トランジスタTrのベース領域(9)のエミッタ領域
(10)の近(にN型不純物領域(11)を形成して作
成すればよい。
上記トランジスタ回路(5)においてはトランジスタT
rが動作するとベースBに滞留しかけた電子がダイオー
ドD1を通り直ちにエミッタEに流れるのでスイッチン
グ速度が向上する。
次に第4図のダーリントントランジスタ回路(2)に本
考案を適用したその他の実施例を第3図に基づき説明す
る。この場合は第1トランジスタTr1のベース入力端
子(3)と第2トランジスタTr2のエミッタ端子(4
)の間に、前述の実施例同様なダイオードD2を追加接
続するだけで、第1図の場合と同じ原理でスイッチング
速度を向上させることができる。尚、第3図の破線の(
12)は各トランジスタT r 1、T r 2 、抵
抗R,R2、そして上記ダイオードD2が形成された半
導体基板を示す。
発旦皇立来 本発明によれば電力増幅用トランジスタ回路のスイッチ
ング速度が大幅に向上するので、スイッチング速度に制
限を受けること無く電流増幅率を上げる等することがで
き、通用分野の広い半導体装置が提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本発明の一実施例を示す半導体装置
の等価回路図及び半導体基板の概略断面図、第3図は本
発明の他の実施例を示す半導体装置の等価回路図、第4
図は従来の半導体装置の等価回路図である。 Tr、Trl 、Tr2 ・−=)ランジスタ、D!、
D2・−・・ダイオード、 (2)、 (5)・−・・
・電力増幅用トランジスタ回路、(6)・−・出力端子
(エミッタ端子)、(7)・−・入力端子(ベース端子
)、(8)、(12) −・半導体基板。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)半導体基板に電力増幅用トランジスタ回路とこの
    トランジスタ回路の出力端子から入力端子に順方向に接
    続されたダイオードを形成したことを特徴とする半導体
    装置。
JP59219888A 1984-10-18 1984-10-18 半導体装置 Pending JPS6197862A (ja)

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JP59219888A JPS6197862A (ja) 1984-10-18 1984-10-18 半導体装置

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JP59219888A JPS6197862A (ja) 1984-10-18 1984-10-18 半導体装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5349230A (en) * 1990-12-28 1994-09-20 Fuji Electric Co., Ltd. Diode circuit for high speed switching transistor

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JPS5321579A (en) * 1976-08-11 1978-02-28 Matsushita Electronics Corp Darlington transistor
JPS57176761A (en) * 1981-04-22 1982-10-30 Nec Corp Compound semiconductor device

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