JPS6210535B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6210535B2 JPS6210535B2 JP13814279A JP13814279A JPS6210535B2 JP S6210535 B2 JPS6210535 B2 JP S6210535B2 JP 13814279 A JP13814279 A JP 13814279A JP 13814279 A JP13814279 A JP 13814279A JP S6210535 B2 JPS6210535 B2 JP S6210535B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vinyl chloride
- chloride resin
- parts
- mercapto
- tin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
本発明は放射線特にγ線に対して優れた抵抗性
を有する塩化ビニル樹脂組成物に関するものであ
る。 従来医療器具例えば注射針等の殺菌は、プラス
チツク等による包装体の状態でエチレンオキサイ
ドガスあるいは、コバルト60によるγ線処理が採
用されている。 最近はガス処理に比し、取り扱いの容易さから
γ線処理に移行しつゝあるが、これらの包装材料
として用いられる材料群の中でもよく使用される
塩化ビニル樹脂は、γ線照射によつて変色を起す
という欠点があつた。 本発明は、放射線の中でも透過性に優れ殺菌力
の強いγ線を塩化ビニル樹脂による包装体に照射
しても塩化ビニル樹脂の脱塩酸反応等による黄変
色等を防止し得る、γ線に対し強い抵抗性を有
し、且つフイルム、シート等の加工性を損うこと
なく生産できる塩化ビニル樹脂配合組成物で、そ
の要旨は、塩化ビニル樹脂100重量部に対し錫ア
ルキルメルカプト、錫アリールメルカプト又は／
および錫メルカプト酸エステルを0.1〜５重量部
および下記(1)式で示される化合物を１〜５重量部
添加してなる耐γ線性良好な塩化ビニル樹脂組成
物である。 Ｘ−（CH2−CH2−Ｏ）o−Ｈ （式中、Ｘは水酸基、アルコキシ基またはアルキ
ルフエノキシ基） すなわちこの発明に用いられる錫アルキルメル
カプトはジメチル錫ジドデシルメルカプト、ジブ
チル錫ジドデシルメルカプト、ジフエニル錫ジド
デシルメルカプト等であり、錫アリールメルカプ
トとしてはジブチル錫ジフエニルメルカプト等、
また錫メルカプト酸エステルとしては、ジブチル
錫ジイソオクチルチオグリコレート、ジブチル錫
ジｎ−オクタデシルチオグリコレート、ジオクチ
ル錫ジイソオクチルチオグリコレート、トリメチ
ルヘキシル錫ジブチルチオグリコレート、シクロ
ヘキシル錫ジブチルチオグリコレート、ノニル錫
ジブチルチオグリコレート、ジブチル錫βメルカ
プトプロピオネート等が用いられる。 また上記(1)式で示される化合物としては、ポリ
エチレングリコール（上式でＸが水酸基）、ポリ
オキシエチレンオレイルエーテル（Ｘ＝−
OC18H35）、ポリオキシエチレンセチルエーテル
（Ｘ＝−OC16H33）、ポリオキシエチレンラウリル
エーテル（Ｘ＝−OC12H25）、ポリオキシエチレ
ンノニルフエニルエーテル
を有する塩化ビニル樹脂組成物に関するものであ
る。 従来医療器具例えば注射針等の殺菌は、プラス
チツク等による包装体の状態でエチレンオキサイ
ドガスあるいは、コバルト60によるγ線処理が採
用されている。 最近はガス処理に比し、取り扱いの容易さから
γ線処理に移行しつゝあるが、これらの包装材料
として用いられる材料群の中でもよく使用される
塩化ビニル樹脂は、γ線照射によつて変色を起す
という欠点があつた。 本発明は、放射線の中でも透過性に優れ殺菌力
の強いγ線を塩化ビニル樹脂による包装体に照射
しても塩化ビニル樹脂の脱塩酸反応等による黄変
色等を防止し得る、γ線に対し強い抵抗性を有
し、且つフイルム、シート等の加工性を損うこと
なく生産できる塩化ビニル樹脂配合組成物で、そ
の要旨は、塩化ビニル樹脂100重量部に対し錫ア
ルキルメルカプト、錫アリールメルカプト又は／
および錫メルカプト酸エステルを0.1〜５重量部
および下記(1)式で示される化合物を１〜５重量部
添加してなる耐γ線性良好な塩化ビニル樹脂組成
物である。 Ｘ−（CH2−CH2−Ｏ）o−Ｈ （式中、Ｘは水酸基、アルコキシ基またはアルキ
ルフエノキシ基） すなわちこの発明に用いられる錫アルキルメル
カプトはジメチル錫ジドデシルメルカプト、ジブ
チル錫ジドデシルメルカプト、ジフエニル錫ジド
デシルメルカプト等であり、錫アリールメルカプ
トとしてはジブチル錫ジフエニルメルカプト等、
また錫メルカプト酸エステルとしては、ジブチル
錫ジイソオクチルチオグリコレート、ジブチル錫
ジｎ−オクタデシルチオグリコレート、ジオクチ
ル錫ジイソオクチルチオグリコレート、トリメチ
ルヘキシル錫ジブチルチオグリコレート、シクロ
ヘキシル錫ジブチルチオグリコレート、ノニル錫
ジブチルチオグリコレート、ジブチル錫βメルカ
プトプロピオネート等が用いられる。 また上記(1)式で示される化合物としては、ポリ
エチレングリコール（上式でＸが水酸基）、ポリ
オキシエチレンオレイルエーテル（Ｘ＝−
OC18H35）、ポリオキシエチレンセチルエーテル
（Ｘ＝−OC16H33）、ポリオキシエチレンラウリル
エーテル（Ｘ＝−OC12H25）、ポリオキシエチレ
ンノニルフエニルエーテル
【式】ポリオキシエチレン
オクチルフエニルエーテル
【式】等が用いられる。
これらの化合物としては、常温で液状のものが
好ましく、(1)式におけるｎでいえば１〜15のもの
を主成分とする化合物が好適である。 ｎが15を越えて常温でワツクス状ないし粉状に
なると、塩化ビニル樹脂中に均一に分散させ緊密
に相溶させることが難しく、実用性が極めて乏し
くなる。 また主体となる塩化ビニル樹脂は、従来から成
形用として用いられている通常の樹脂でよく、成
形法（押圧法、カレンダー法、射出成形法等）に
応じて適当な単独重合体または共重合体を選択す
る。 次に各成分の添加量について説明するが、以
下、添加割合を示す「部」は「重量部」を意味す
る。 錫アルキルメルカプト、錫アリールメルカプト
および錫メルカプト酸エステルは、単独でまたは
混合して使用し得るが、その添加量は塩化ビニル
樹脂100部に対し0.1〜５部である。0.1部未満で
はγ線に対する抵抗がなくなり黄変色等を起し、
また５部を越えると吹出しを生じ好ましくない。
耐γ線性からみれば１部以上添加するのが好まし
い。 また上記(1)式に示される化合物は１〜５部添加
するのが好ましく、１部未満では耐γ線性が不足
し、５部を越えると吹出しやべとつきを生じる。 本発明の化合物がなぜ耐γ線性を有するかは現
在明確ではないが、錫アルキルメルカプト等を添
加することによつて安定なイオンラジカルを生
じ、γ線照射の照射エネルギーがこれに移行して
安定なイオンラジカルとして停止し、塩化ビニル
樹脂内の連鎖崩壊が阻止されることが一因と推測
される。しかし、上記の特定の錫化合物と(1)式の
化合物とを併用した場合にのみ顕著なγ線抵抗性
を示す理由はさだかでない。 更に、本発明の組成物に、必要に応じ、他の安
定剤、可塑剤、着色剤を加工性、耐γ線性を損な
わない程度に添加してもよい。 本発明組成物は、フイルム・シート状に成形し
て袋、真空成形容器等として使用するほか、ブロ
ー成形びん、厚手のシートからなる箱等の各種容
器として使用し得る。特に本発明組成物は塩化ビ
ニル樹脂の特性を生かして、押出成形法またはカ
レンダー成形法により無延伸シートとしこれを真
空成形または圧空成形で容器状に成形して用いる
のに好適である。 以下実施例について述べる。 実施例 １ 下記表−１に示す各種配合物を190℃でカレン
ダー圧延を行い150μのシートを得た。これを線
量5.0Mradのコバルト60線源でγ線照射を行い、
その照射後の試料の400ｍμ波長での光線透過率
を測定した。その結果を表−１に併記する。な
お、照射前のシートの光線透過率は93％である。
表−１からわかる如く、本発明組成物から得たシ
ート（実験No.４〜８及び11〜12）はγ線照射後も
黄変が小さく高い光線透過率を維持している。な
お表−１に示すシートは、いずれも良好な真空成
形性を示した。
好ましく、(1)式におけるｎでいえば１〜15のもの
を主成分とする化合物が好適である。 ｎが15を越えて常温でワツクス状ないし粉状に
なると、塩化ビニル樹脂中に均一に分散させ緊密
に相溶させることが難しく、実用性が極めて乏し
くなる。 また主体となる塩化ビニル樹脂は、従来から成
形用として用いられている通常の樹脂でよく、成
形法（押圧法、カレンダー法、射出成形法等）に
応じて適当な単独重合体または共重合体を選択す
る。 次に各成分の添加量について説明するが、以
下、添加割合を示す「部」は「重量部」を意味す
る。 錫アルキルメルカプト、錫アリールメルカプト
および錫メルカプト酸エステルは、単独でまたは
混合して使用し得るが、その添加量は塩化ビニル
樹脂100部に対し0.1〜５部である。0.1部未満で
はγ線に対する抵抗がなくなり黄変色等を起し、
また５部を越えると吹出しを生じ好ましくない。
耐γ線性からみれば１部以上添加するのが好まし
い。 また上記(1)式に示される化合物は１〜５部添加
するのが好ましく、１部未満では耐γ線性が不足
し、５部を越えると吹出しやべとつきを生じる。 本発明の化合物がなぜ耐γ線性を有するかは現
在明確ではないが、錫アルキルメルカプト等を添
加することによつて安定なイオンラジカルを生
じ、γ線照射の照射エネルギーがこれに移行して
安定なイオンラジカルとして停止し、塩化ビニル
樹脂内の連鎖崩壊が阻止されることが一因と推測
される。しかし、上記の特定の錫化合物と(1)式の
化合物とを併用した場合にのみ顕著なγ線抵抗性
を示す理由はさだかでない。 更に、本発明の組成物に、必要に応じ、他の安
定剤、可塑剤、着色剤を加工性、耐γ線性を損な
わない程度に添加してもよい。 本発明組成物は、フイルム・シート状に成形し
て袋、真空成形容器等として使用するほか、ブロ
ー成形びん、厚手のシートからなる箱等の各種容
器として使用し得る。特に本発明組成物は塩化ビ
ニル樹脂の特性を生かして、押出成形法またはカ
レンダー成形法により無延伸シートとしこれを真
空成形または圧空成形で容器状に成形して用いる
のに好適である。 以下実施例について述べる。 実施例 １ 下記表−１に示す各種配合物を190℃でカレン
ダー圧延を行い150μのシートを得た。これを線
量5.0Mradのコバルト60線源でγ線照射を行い、
その照射後の試料の400ｍμ波長での光線透過率
を測定した。その結果を表−１に併記する。な
お、照射前のシートの光線透過率は93％である。
表−１からわかる如く、本発明組成物から得たシ
ート（実験No.４〜８及び11〜12）はγ線照射後も
黄変が小さく高い光線透過率を維持している。な
お表−１に示すシートは、いずれも良好な真空成
形性を示した。
【表】
【表】
実施例 ２
下記表−２に示す各種配合を押出温度190℃で
押圧加工して150μのシートを得た。このシート
について実施例１と同一の条件でγ線照射及び光
線透過率の測定を行つた。なお照射前のシートの
光線透過率は95％である。表−２からわかる如く
ジオクチルスズジイソオクチルチオグリコレート
又はジブチルスズβメルカプトプロピオネートあ
るいはノニオンが規定量未満の場合、黄変のため
透過率は60％以下となる（No.１〜３、８）。 本発明組成物から得たシート（No.４〜６及び
９）は良好な耐γ線性を示した。 なおNo.７及び10は、添加物の量が多すぎるた
め、シートに吹出しを生じ好ましくなかつた。
押圧加工して150μのシートを得た。このシート
について実施例１と同一の条件でγ線照射及び光
線透過率の測定を行つた。なお照射前のシートの
光線透過率は95％である。表−２からわかる如く
ジオクチルスズジイソオクチルチオグリコレート
又はジブチルスズβメルカプトプロピオネートあ
るいはノニオンが規定量未満の場合、黄変のため
透過率は60％以下となる（No.１〜３、８）。 本発明組成物から得たシート（No.４〜６及び
９）は良好な耐γ線性を示した。 なおNo.７及び10は、添加物の量が多すぎるた
め、シートに吹出しを生じ好ましくなかつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 塩化ビニル樹脂100重量部に対し、錫アルキ
ルメルカプト、錫アリールメルカプト又は／およ
び錫メルカプト酸エステルを0.1〜５重量部およ
び下記(1)式で示される化合物を１〜５重量部添加
してなる耐γ線性良好な塩化ビニル樹脂組成物。 Ｘ−（CH2−CH2−Ｏ）o−Ｈ…………(1) （式中、Ｘは水酸基、アルコキシ基またはアルキ
ルフエノキシ基）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13814279A JPS5661448A (en) | 1979-10-25 | 1979-10-25 | Vinyl resin composition having good gamma radiation resistance |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13814279A JPS5661448A (en) | 1979-10-25 | 1979-10-25 | Vinyl resin composition having good gamma radiation resistance |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5661448A JPS5661448A (en) | 1981-05-26 |
| JPS6210535B2 true JPS6210535B2 (ja) | 1987-03-06 |
Family
ID=15214979
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13814279A Granted JPS5661448A (en) | 1979-10-25 | 1979-10-25 | Vinyl resin composition having good gamma radiation resistance |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5661448A (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4726928A (en) * | 1983-11-15 | 1988-02-23 | American Hoechst Corporation | Radiation-resistant vinyl halide resin compositions and a process for their production |
| JPS6466257A (en) * | 1987-09-07 | 1989-03-13 | Nitto Kasei Co Ltd | One-pack stabilizer for halogen-containing resin |
| US5599863A (en) * | 1994-06-17 | 1997-02-04 | Cyro Industries | Gamma radiation sterilizable acrylic polymer |
| US5527842A (en) * | 1995-03-10 | 1996-06-18 | Witco Corporation | Alkyl-thio-glycolate PVC stabilizers with added aromatic ether alcohol to prevent precipitation |
| US5567751A (en) * | 1995-06-01 | 1996-10-22 | Witco Corporation | Alkyl-tin PVC stabilizers with added aromatic ether alcohol to prevent precipitation |
| US6348517B1 (en) * | 2000-09-01 | 2002-02-19 | Oxy Services, Inc. | Preparing sterile articles from polymers containing a stabilizer based on a poly(oxyalkylene) |
| EP2920242A1 (en) * | 2012-11-13 | 2015-09-23 | Resilia S.r.l. | Use of pvc for manufacturing sterilisable containers |
| CN106164164A (zh) | 2014-03-27 | 2016-11-23 | 新日本理化株式会社 | 含有非邻苯二甲酸系酯的氯乙烯类树脂用增塑剂和含有该增塑剂的氯乙烯类树脂组合物 |
| KR20180012318A (ko) | 2015-05-27 | 2018-02-05 | 신닛폰 리카 가부시키가이샤 | 에폭시사이클로헥산디카르복시산디에스테르, 가소제, 안정화제, 및 수지조성물 |
-
1979
- 1979-10-25 JP JP13814279A patent/JPS5661448A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5661448A (en) | 1981-05-26 |
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