JPS62117760A - サ−マルヘツド - Google Patents

サ−マルヘツド

Info

Publication number
JPS62117760A
JPS62117760A JP60257610A JP25761085A JPS62117760A JP S62117760 A JPS62117760 A JP S62117760A JP 60257610 A JP60257610 A JP 60257610A JP 25761085 A JP25761085 A JP 25761085A JP S62117760 A JPS62117760 A JP S62117760A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
heat insulating
insulating layer
polyimide resin
resistor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60257610A
Other languages
English (en)
Inventor
Haruo Tanmachi
東夫 反町
Toshio Matsuzaki
松崎 壽夫
Takumi Suzuki
工 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP60257610A priority Critical patent/JPS62117760A/ja
Publication of JPS62117760A publication Critical patent/JPS62117760A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N97/00Electric solid-state thin-film or thick-film devices, not otherwise provided for

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electronic Switches (AREA)
  • Non-Adjustable Resistors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の概要〕 本発明は蓄熱層の一部にポリイミド樹脂を用いたサーマ
ルヘッドを提供するもので低電力駆動が可能となる。
〔産業上の利用分野〕
本発明は感熱記録装置あるいは感熱転写記録装置に用い
るサーマルヘッドに係る。
〔従来の技術と問題点〕
サーマルヘッドは共に発熱抵抗体、リード線及び基板か
らなる。
第3図は従来のサーマルヘッド発熱部の概略断面図であ
る。
第3図において、アルミナ等のセラミック基板1上に、
通常40〜100μm程度の厚さの断熱グレーズ(ガラ
ス)層2、更に200〜2000人程度の厚さの窒化タ
ンタル(Ta、N)からなる発熱抵抗体3が配設されて
いる。発熱抵抗体3上には発熱抵抗体ドツト9を形成す
る部分を残してアルミニウム等からなる導体4が配設さ
れており、更に導体4及び発熱抵抗体ドツト9上に例え
ば五酸化タンタルを二酸化シリコン上に重ねた2層膜か
らなる保護膜5が配設されている。
上記従来の構成のサーマルヘッドを用いて印字するため
にぼ印加パルス幅がl m5ecの場合、約20〜30
W/mm”の電力を要する。サーマルヘッドが高速にな
るに従って大電力を必要とし電源コストを上昇させしか
もサーマルヘッド自身の温度上昇等の問題を生じる。
本発明はサーマルヘッドに印加する電力を減少させるこ
とを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
上記問題点は本発明によれば、基板と該基板上に形成さ
れた断熱層と該断熱層上に形成された抵抗体層と該抵抗
体層上に形成された保護層と該抵抗体層に電力を供給す
るための導体層を具備するサーマルヘッドにおいて、前
記断熱層の少なくとも一部にポリイミド樹脂を含むこと
を特徴とするサーマルヘッドによって解決される。
更に、上記問題点は本発明によれば、基板と該基板上に
形成された断熱層と該断熱層上に形成された抵抗体層と
該抵抗体層上に形成された保護層と該抵抗体層に電力を
供給するための導体層を具備するサーマルヘッドにおい
て、前記断熱層の少なくとも一部にポリイミド樹脂を含
みかつ該断熱層上に無機物層を設けたことを特徴とする
サーマルヘッドによっても解決される。
すなわち、本発明によれば従来のサーマルヘッドの断熱
層の少なくとも一部に熱伝導率が比較的小さなポリイミ
ド樹脂を用いることによってサーマルヘッドの熱効率の
向上を図ったものである。
第1表に従来用いられた高耐熱ガラス、石英ガラス及び
本発明に係るポリイミド樹脂の熱伝導率及び比熱を示す
第1表 第1表かられかるようにポリイミド樹脂は他の2つのガ
ラスと比較して熱伝導率が115以下であり、しかも断
熱層の熱容量を決定する比熱は他と比較してほぼ同等で
ある。従って本発明に係るポリイミド樹脂は従来用いら
れているガラス(グレーズ)よりも優れた熱特性を有し
ている。本発明に用いる無機物層は5tOz+ 5i−
0−N+ 5i3Nn+ hot等が好ましい。また、
無機物層とポリイミド層との密着を向上させるためにC
r、 NiCr、 Ti等の接着層を用いることが好ま
しい。
〔実施例〕
以下本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図及び第2図は本発明の詳細な説明するための要部
断面図である。
第1図に示すようにアルミナ基板1上に約40μmの厚
さにグレーズ層2を塗布する。グレーズ層2上に厚さ役
15μmのポリイミド樹脂6、TazNからなる発熱抵
抗体3及びAlからなる導体4そしてSing  Ta
xesの2層からなる保護膜5が形成されている。
第2図に示した実施例は第1図の実施例1においてポリ
イミド樹脂6上にCr層7を接着層として5i01層8
を厚さ1〜5μmに形成したものである。
ポリイミド樹脂6上にCr 7を設けることによってS
iO□層8と該樹脂との付着強度を高め且つ温度低下を
防止する。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によればポリイミド樹脂の熱
特性を利用することによって低電力で駆動しうるサーマ
ルヘッドを得る。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本発明の詳細な説明するための要部
断面図であり、第3図は従来のサーマルヘッド発熱部の
概略断面図である。 I・・・セラミック基板(アルミナ)、2・・・断熱グ
レーズ層、 3・・・発熱抵抗体、 4・・・導体、 5・・・保護膜、 6・・・ポリイミド樹脂、 7・・・Cr層、 8・・・S+Oz*

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、基板と該基板上に形成された断熱層と該断熱層上に
    形成された抵抗体層と該抵抗体層上に形成された保護層
    と該抵抗体層に電力を供給するための導体層を具備する
    サーマルヘッドにおいて、前記断熱層の少なくとも一部
    にポリイミド樹脂を含むことを特徴とするサーマルヘッ
    ド。 2、基板と該基板上に形成された断熱層と該断熱層上に
    形成された抵抗体層と該抵抗体層上に形成された保護層
    と該抵抗体層に電力を供給するための導体層を具備する
    サーマルヘッドにおいて、前記断熱層の少なくとも一部
    にポリイミド樹脂を含み且つ該断熱層上に無機物層を設
    けたことを特徴とするサーマルヘッド。 3、前記無機物層がCr、NiCr、Tiの群から選ば
    れた接着層とSiO_2、Si−O−N、Si_3N_
    4、Al_2O_3の群から選ばれた絶縁性の耐熱層の
    2層からなることを特徴とする特許請求の範囲第2項記
    載のサーマルヘッド。
JP60257610A 1985-11-19 1985-11-19 サ−マルヘツド Pending JPS62117760A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60257610A JPS62117760A (ja) 1985-11-19 1985-11-19 サ−マルヘツド

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60257610A JPS62117760A (ja) 1985-11-19 1985-11-19 サ−マルヘツド

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62117760A true JPS62117760A (ja) 1987-05-29

Family

ID=17308655

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60257610A Pending JPS62117760A (ja) 1985-11-19 1985-11-19 サ−マルヘツド

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62117760A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01154770A (ja) * 1987-12-11 1989-06-16 Toshiba Corp サーマルヘッド
JPH021339A (ja) * 1988-03-28 1990-01-05 Toshiba Corp 耐熱性絶縁基板、サーマルヘッドおよび感熱記録装置
US4963893A (en) * 1988-03-28 1990-10-16 Kabushiki Kaisha Toshiba Heat-resistant insulating substrate, thermal printing head, and thermographic apparatus
US5252988A (en) * 1989-12-15 1993-10-12 Sharp Kabushiki Kaisha Thermal head for thermal recording machine

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01154770A (ja) * 1987-12-11 1989-06-16 Toshiba Corp サーマルヘッド
JPH021339A (ja) * 1988-03-28 1990-01-05 Toshiba Corp 耐熱性絶縁基板、サーマルヘッドおよび感熱記録装置
US4963893A (en) * 1988-03-28 1990-10-16 Kabushiki Kaisha Toshiba Heat-resistant insulating substrate, thermal printing head, and thermographic apparatus
US5119112A (en) * 1988-03-28 1992-06-02 Kabushiki Kaisha Toshiba Heat-resistant insulating substrate, thermal printing head, and thermographic apparatus
US5177498A (en) * 1988-03-28 1993-01-05 Kabushiki Kaisha Toshiba Heat-resistant insulating substrate, thermal printing head, and thermographic apparatus
EP0335660B1 (en) * 1988-03-28 1993-09-01 Kabushiki Kaisha Toshiba Heat-resistant insulating substrate, thermal printing head, and thermographic apparatus
US5252988A (en) * 1989-12-15 1993-10-12 Sharp Kabushiki Kaisha Thermal head for thermal recording machine

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6284545A (ja) 半導体装置
EP0202877A3 (en) Integrated circuit device and manufacturing method thereof
JPS6042069A (ja) サ−マルプリントヘツド
JPH04288244A (ja) サーマルヘッド
JPS6153954B2 (ja)
JPS62255161A (ja) サ−マルヘツド
JP2582397B2 (ja) 薄膜型サーマルヘッド
JPS62105643A (ja) サ−マルヘツド
JP2567252B2 (ja) 薄膜型サ−マルヘッド
JPH10264429A (ja) 発熱装置およびその製造方法
JPS6125550B2 (ja)
JPS63185644A (ja) サ−マルヘツド
JP2750125B2 (ja) サーマルヘッドの基板構造
JPH03208671A (ja) サーマルヘッド
JPH01148569A (ja) サーマルヘッド
JPS589570B2 (ja) サ−マルヘッドの製造方法
JP2551767B2 (ja) サ−マルヘツド
JPS61168679U (ja)
JP2000318196A (ja) サーマルヘッド
JPS61139455A (ja) サ−マルヘツド
JPH01229658A (ja) エッジタイプサーマルヘッド及びその製造方法
JPS62105644A (ja) サ−マルヘツド
JPS62105647A (ja) サ−マルヘツド及びその製造方法
JPS61262136A (ja) サ−マルヘツド及びその製造方法
JPH10119334A (ja) サ−マルヘッド及びその製造方法