JPS6212659A - 電気絶縁基材用マグネシア質セラミツク焼結体 - Google Patents
電気絶縁基材用マグネシア質セラミツク焼結体Info
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- JPS6212659A JPS6212659A JP60149183A JP14918385A JPS6212659A JP S6212659 A JPS6212659 A JP S6212659A JP 60149183 A JP60149183 A JP 60149183A JP 14918385 A JP14918385 A JP 14918385A JP S6212659 A JPS6212659 A JP S6212659A
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- Japan
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- mgo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は絶縁基材としてのマグネシア(MgO)質セラ
ミック焼結体、さらに詳しくは高い熱伝導性と強度、さ
らには優れた耐水和特性を備えた電気絶縁基材用のMg
O焼結体及びその製造法に関するものである。
ミック焼結体、さらに詳しくは高い熱伝導性と強度、さ
らには優れた耐水和特性を備えた電気絶縁基材用のMg
O焼結体及びその製造法に関するものである。
[従来の技術]
1rIノ+−4N7.1−)舎yl−v*4−1YI’
n−4G[−Jdi口’1”rhQイ1.%ス、絶縁材
料としてはその殆どがAl2O3基板である。
n−4G[−Jdi口’1”rhQイ1.%ス、絶縁材
料としてはその殆どがAl2O3基板である。
これに対してMgO基材は高温での電気絶縁性に優れて
おり、高周波特性や熱伝導率などもAl2O3基材より
優れているので、この種集積回路基板材料として期待さ
れているが、材質的に水相性が大きく強度的にも十分な
ものが得られていないので、前記特性を生かしきれず実
用化には至っていないのが実状である。
おり、高周波特性や熱伝導率などもAl2O3基材より
優れているので、この種集積回路基板材料として期待さ
れているが、材質的に水相性が大きく強度的にも十分な
ものが得られていないので、前記特性を生かしきれず実
用化には至っていないのが実状である。
例えば、MgO基板の開発として過去において2)Ig
O・S i02相の被覆層を形成させることにより、耐
水性を付与しようという試みと提案はいくつかなされて
いるが、充分な成果を達成してはいなかった。
O・S i02相の被覆層を形成させることにより、耐
水性を付与しようという試みと提案はいくつかなされて
いるが、充分な成果を達成してはいなかった。
過去のこのような試みの結果が満足しうる物性に至らな
かった理由としては定かではないが、焼結体としての組
成や微細な細織、構造の違い及びそれらをもたらす製造
方法の違いに実質的には起因するのであろう。
かった理由としては定かではないが、焼結体としての組
成や微細な細織、構造の違い及びそれらをもたらす製造
方法の違いに実質的には起因するのであろう。
例えばその一つの大きな理由は、従来のこの種提案は特
開昭58−217480号公報で開示されているように
殆どが予め成形したシ(板を処理して耐水性のある2M
g0・S io2相を形成させようとするものであった
からとも考えられる。
開昭58−217480号公報で開示されているように
殆どが予め成形したシ(板を処理して耐水性のある2M
g0・S io2相を形成させようとするものであった
からとも考えられる。
即ち、このような方法によるものは充分な耐水性が得ら
れなかったり、充分な熱伝導性を確保できなかったり、
強度的にも十分満足できるには至らないなど特に高機能
基板をu7能とする諸性質を兼ね備えたものとして得ら
れていなかった・ さらに別の方法として特開昭58−181764号には
緻密な焼結体を得るためにマグネシウム化合物と珪酸ナ
トリウム溶液等の液状珪素化合物とを混合することも提
案されているが、充分な耐水和性や強度などを兼ね備え
たものを得るには至っていない。
れなかったり、充分な熱伝導性を確保できなかったり、
強度的にも十分満足できるには至らないなど特に高機能
基板をu7能とする諸性質を兼ね備えたものとして得ら
れていなかった・ さらに別の方法として特開昭58−181764号には
緻密な焼結体を得るためにマグネシウム化合物と珪酸ナ
トリウム溶液等の液状珪素化合物とを混合することも提
案されているが、充分な耐水和性や強度などを兼ね備え
たものを得るには至っていない。
その理由は定かでないが、該特許の目的とする焼結体が
透光性のものであることからして液体状の珪素化合物を
少量にとどめざるを得ないことやそれに関連しているが
どうかは分らないが、混合物の成形前において750〜
1100℃での予備加熱処理をせねばならないことなど
が考えられる。
透光性のものであることからして液体状の珪素化合物を
少量にとどめざるを得ないことやそれに関連しているが
どうかは分らないが、混合物の成形前において750〜
1100℃での予備加熱処理をせねばならないことなど
が考えられる。
[発明が解決しようとする問題点]
これに対し、本発明者らは、このような実状であっても
将来のIC′p&板の高槻地化例えばハイブリッ1−I
Cの開発、積層パッケージの開発等においてはMgO基
材の特質が極めて有効であろうとの観点に立ち、種々研
究の結果として従来の実用化の大きな障害となっていた
前述の水相性などの欠点を改良せしめたMgO基板をも
たらす焼結体の開発に成功したが、本発明はそれらを強
度的にもさらに改良することに成功したものである。
将来のIC′p&板の高槻地化例えばハイブリッ1−I
Cの開発、積層パッケージの開発等においてはMgO基
材の特質が極めて有効であろうとの観点に立ち、種々研
究の結果として従来の実用化の大きな障害となっていた
前述の水相性などの欠点を改良せしめたMgO基板をも
たらす焼結体の開発に成功したが、本発明はそれらを強
度的にもさらに改良することに成功したものである。
[問題を解決するための手段]
即ち本発明は、顕微鏡的にみてにgO結晶粒子の大きさ
が大部分51L以下であって、5iOzは大部分が2M
g0L1SiO2に、 Al2O3は大部分がMgO・
Al2O3になって主にMgOの粒間にある組織から℃
以ト、 100KHzにおける誘電損失(tanδ)が
常温で5X104以下、電気絶縁抵抗が300℃で10
10ΩlIC11以上であるとともに優れた強度と耐水
和特性を有していることを特徴とする電気絶縁基材用マ
グネシア質セラミック焼結体を要旨とするものである。
が大部分51L以下であって、5iOzは大部分が2M
g0L1SiO2に、 Al2O3は大部分がMgO・
Al2O3になって主にMgOの粒間にある組織から℃
以ト、 100KHzにおける誘電損失(tanδ)が
常温で5X104以下、電気絶縁抵抗が300℃で10
10ΩlIC11以上であるとともに優れた強度と耐水
和特性を有していることを特徴とする電気絶縁基材用マ
グネシア質セラミック焼結体を要旨とするものである。
。
本発明はこのように絶縁基板用のMgO焼結体として極
めて優れた特性を備えているものであり、それらを口■
能とする焼結体の組織として微細なMgO結晶(ペリク
レース結晶)粒子とその間に2MgOs SiO2(フ
ォルフチライト)を主体とする相(以下2Mg0LIS
iO2相という)とMgO・Al2O:1相とが介在し
ていることから本質的にもたらされるものであろうと考
えられる。
めて優れた特性を備えているものであり、それらを口■
能とする焼結体の組織として微細なMgO結晶(ペリク
レース結晶)粒子とその間に2MgOs SiO2(フ
ォルフチライト)を主体とする相(以下2Mg0LIS
iO2相という)とMgO・Al2O:1相とが介在し
ていることから本質的にもたらされるものであろうと考
えられる。
本発明焼結体としての高強度及び耐水和性という面から
みた理想的な組織としては1wL細な個々の全てのMg
O結晶粒子間、それも個々の全周に2Mg0・S i0
2相が可及的少騒、即ち極めて薄層として存在し、かつ
MgO・SiO2相がやはり均等ににyO貼1g、粒子
1111に存在1、でいること〒島スと考えられるが、
これらの結晶相は内部に位置しているMgO結晶粒子の
個々の表面や粒子間に少なくとも部分的に被蕾又は介在
して目的の緒特性を兼ね備えたものとして得られている
のであれば、必ずしも完全なものであることは必要では
なく、熱伝導性など一部の性質など考慮すればむしろ2
Mg0・S i(h相の存在は一方では少なくてもよく
、要は2Mg0・SiO2やMgO・Al703相が断
面組織としてMgO粒子間の個々の全周でなく、少なく
とも局部的であっても焼結体組織全体としてみて均等に
なるように分布存在していればよいのである0本明細書
で均等とはそのような組織を示すものである。
みた理想的な組織としては1wL細な個々の全てのMg
O結晶粒子間、それも個々の全周に2Mg0・S i0
2相が可及的少騒、即ち極めて薄層として存在し、かつ
MgO・SiO2相がやはり均等ににyO貼1g、粒子
1111に存在1、でいること〒島スと考えられるが、
これらの結晶相は内部に位置しているMgO結晶粒子の
個々の表面や粒子間に少なくとも部分的に被蕾又は介在
して目的の緒特性を兼ね備えたものとして得られている
のであれば、必ずしも完全なものであることは必要では
なく、熱伝導性など一部の性質など考慮すればむしろ2
Mg0・S i(h相の存在は一方では少なくてもよく
、要は2Mg0・SiO2やMgO・Al703相が断
面組織としてMgO粒子間の個々の全周でなく、少なく
とも局部的であっても焼結体組織全体としてみて均等に
なるように分布存在していればよいのである0本明細書
で均等とはそのような組織を示すものである。
ここで本発明焼結体について顕微鏡写真を参照しながら
より具体的にさらに説明する。
より具体的にさらに説明する。
第1図において、1はMgO粒子、2及び3は2Mg0
φSiO2相、及びMgO・Al2O3である。
φSiO2相、及びMgO・Al2O3である。
このように、MgO粒子lは、粒子同士互いに密接に2
NgO・SiO2相2及びMgO・A I203相3を
介して強固に焼結しており、その大部分が粒径5W以丁
であることが分る。
NgO・SiO2相2及びMgO・A I203相3を
介して強固に焼結しており、その大部分が粒径5W以丁
であることが分る。
尚、焼結体中には粒径が5〜lOμ程度のものも依存し
ているが、その量は多くても20重星%以ドであり、通
常は10%程度乃至それ以ドである。
ているが、その量は多くても20重星%以ドであり、通
常は10%程度乃至それ以ドである。
ここで、2NgO・SiO7相2はMgO粒子の周りを
覆っている(即ち粒界に存在している)ものと複数のM
gO粒子間にまたがって存在しているものがある。そし
てこの2Mg0・S I02相の厚みは、一般的にはこ
れらは0.5μ以下1例えば0.1〜0.5μ程度であ
ることである。
覆っている(即ち粒界に存在している)ものと複数のM
gO粒子間にまたがって存在しているものがある。そし
てこの2Mg0・S I02相の厚みは、一般的にはこ
れらは0.5μ以下1例えば0.1〜0.5μ程度であ
ることである。
また1本発明において、このような2Mg0・SiO2
相は容桔割合として3%程度以上好ましくは5〜8%程
度存在していることが望ましい。
相は容桔割合として3%程度以上好ましくは5〜8%程
度存在していることが望ましい。
尚、この2MgOs SiO2相は、後述する好ましい
製造法で示される如く、MgO微粉と有機シリケートの
S i02成分と反応して生成されるものであるため1
本来MgO粒子の表面にその−・部として一体のものと
して存在することが多い。
製造法で示される如く、MgO微粉と有機シリケートの
S i02成分と反応して生成されるものであるため1
本来MgO粒子の表面にその−・部として一体のものと
して存在することが多い。
また、第1図でMgO・Al2O3相3は、焼成時にM
gOと反応してMgO結晶粒子間に存在するもので、M
gOの結晶粒子成長抑制の作用をなし、焼結基板の強度
向上に寄与しているものと考えられる。
gOと反応してMgO結晶粒子間に存在するもので、M
gOの結晶粒子成長抑制の作用をなし、焼結基板の強度
向上に寄与しているものと考えられる。
ここで、このMgO・Al2O3結晶相は、その多くは
5JL以下として存在するもので、望まくしは1〜3J
L程度とすることである。
5JL以下として存在するもので、望まくしは1〜3J
L程度とすることである。
また、本発明焼結体は目的とする緒特性を具備させるた
め、高純度のMgOを#密に焼結させたものであること
が必要で、組成的にはMgO結晶粒子のMgO純度は化
学分析値として重量%でMgOが99.5%以上、゛特
には99.7%以上であることが望ましい、尚、本明細
書でいうこの8g0粒子の純度とは2Mg0・S I0
2相やllIgO・A I203相を除いた部分の純度
をいう。
め、高純度のMgOを#密に焼結させたものであること
が必要で、組成的にはMgO結晶粒子のMgO純度は化
学分析値として重量%でMgOが99.5%以上、゛特
には99.7%以上であることが望ましい、尚、本明細
書でいうこの8g0粒子の純度とは2Mg0・S I0
2相やllIgO・A I203相を除いた部分の純度
をいう。
また焼結体全体としての組成としては、化学分析値とし
て重量%で、SiO2が0.5〜5%、特ニ0.8〜4
%、Al2O:+ ハ0.5〜20% 、特には1〜1
0%程度がそれぞれ望ましく、かつMgOとSiO2と
Al2O3の含量としては89.5%以上、特には98
.7%以にであることが望ましい。
て重量%で、SiO2が0.5〜5%、特ニ0.8〜4
%、Al2O:+ ハ0.5〜20% 、特には1〜1
0%程度がそれぞれ望ましく、かつMgOとSiO2と
Al2O3の含量としては89.5%以上、特には98
.7%以にであることが望ましい。
これは次のような理由からである。
S + 02 ;J、は少なすぎると耐水和性の向上が
得られず、多すぎても電気絶縁基板用として必要な他の
特性例えば熱伝導性などを損なうことになるし、 Al
2O3は少なすぎるとNgOの粒成長を抑制する効果が
乏しく十分な強度向上につながらないし、多すぎると熱
伝導性などを損なうことになるなどのためである。
得られず、多すぎても電気絶縁基板用として必要な他の
特性例えば熱伝導性などを損なうことになるし、 Al
2O3は少なすぎるとNgOの粒成長を抑制する効果が
乏しく十分な強度向上につながらないし、多すぎると熱
伝導性などを損なうことになるなどのためである。
このような組織1組成をもつ焼結体は本発明として次の
ような緒特性をもつものとして特徴づけられたものであ
る。尚、()内はより望ましい範囲である。
ような緒特性をもつものとして特徴づけられたものであ
る。尚、()内はより望ましい範囲である。
嵩 密 度 3.4
5 以上抗折強度(常温、 kg/ mrn’)
20(28)以上熱伝導率 常温
0.08(0,10)以上(cal/cm* sec・
”0) 300℃ 0.05(0,0G)以上誘電率
(常温、 IQOKHz) 10以下誘電
損失(常温、 100KHz) IX 10= 〜5
X 10−4′屯気絶縁抵抗(300℃;Ωa cm)
10+o以上耐水和性■ 0
.02%以丁■ 耐水和性は、プレッシャクツカー中1
20℃、2気圧蒸気の雰囲気に72時間保持するという
方法において、MgOがMg(OH)2になることによ
る重量増加率として測定(尚、試料の大きさは50ss
X 50+wmX厚さ1mmの板状体であるが、厚みが
この程度の薄板の場合、その大きさの影響は殆どないの
で単位面積当りの増加率に相当、) 尚、電気絶縁基板としての信頼性を評価する試験法とし
ては一般に120℃×2気圧水蒸気中で500時間置く
試験が使われる。この試験法での本発明焼結体を試験し
た結果、重量増加は殆どなかった。
5 以上抗折強度(常温、 kg/ mrn’)
20(28)以上熱伝導率 常温
0.08(0,10)以上(cal/cm* sec・
”0) 300℃ 0.05(0,0G)以上誘電率
(常温、 IQOKHz) 10以下誘電
損失(常温、 100KHz) IX 10= 〜5
X 10−4′屯気絶縁抵抗(300℃;Ωa cm)
10+o以上耐水和性■ 0
.02%以丁■ 耐水和性は、プレッシャクツカー中1
20℃、2気圧蒸気の雰囲気に72時間保持するという
方法において、MgOがMg(OH)2になることによ
る重量増加率として測定(尚、試料の大きさは50ss
X 50+wmX厚さ1mmの板状体であるが、厚みが
この程度の薄板の場合、その大きさの影響は殆どないの
で単位面積当りの増加率に相当、) 尚、電気絶縁基板としての信頼性を評価する試験法とし
ては一般に120℃×2気圧水蒸気中で500時間置く
試験が使われる。この試験法での本発明焼結体を試験し
た結果、重量増加は殆どなかった。
このような本発明焼結体をもたらす製造法。
特に本発明焼結体をもたらす好ましい本発明方法につい
て1次に説明する。
て1次に説明する。
まず主原料であるMgO成分としては高純度のMgO粉
末が用意される。
末が用意される。
ここで使用されるMgO粉末としては、焼結体における
MgO結晶粒子が高純度で存在していることが必要であ
るため、化学分析値が@量%で極めて高純度、具体的に
は98%以上、望ましくは83.5$以丘のものとして
用意される。
MgO結晶粒子が高純度で存在していることが必要であ
るため、化学分析値が@量%で極めて高純度、具体的に
は98%以上、望ましくは83.5$以丘のものとして
用意される。
このように高純度のNgO粉末は高純度のMg(OH)
2を、例えば800℃、2時間仮焼することにより得る
ことができる。
2を、例えば800℃、2時間仮焼することにより得る
ことができる。
また、この使用する粉末の粒度は微細結晶粒子の焼結体
とするために微粉状であることが必要で、具体的には1
0rn’/g以上の比表面積をもつ微粉末であることで
ある。
とするために微粉状であることが必要で、具体的には1
0rn’/g以上の比表面積をもつ微粉末であることで
ある。
つぎに本質的に耐水利性を付与する2)IgO*S I
02相をもたらすSiO7成分としては、これまた焼結
体としてMgOとAhO= との合量で99.5%以」
−特には99.7$以丘とすることが望ましいと同時に
、14g0粉末の個々の粒子表面に可及的に薄層として
2NgO・S I02相を生成させることの必要からし
て有機シリケート溶液を使用することが望ましいことが
見い出された。
02相をもたらすSiO7成分としては、これまた焼結
体としてMgOとAhO= との合量で99.5%以」
−特には99.7$以丘とすることが望ましいと同時に
、14g0粉末の個々の粒子表面に可及的に薄層として
2NgO・S I02相を生成させることの必要からし
て有機シリケート溶液を使用することが望ましいことが
見い出された。
この有機シリケートとしてはシリケートのアルコラード
、例えばエチルシリケート、メチルシリケート、ブチル
シリケートなどが適当で、なかでもエチルシリケートが
最適である。
、例えばエチルシリケート、メチルシリケート、ブチル
シリケートなどが適当で、なかでもエチルシリケートが
最適である。
Ah(hはSiO2と同様可及的に高純度のものが望ま
しく具体的にはAl2O3 として98駕以上のものの
使用がよい。
しく具体的にはAl2O3 として98駕以上のものの
使用がよい。
また、Al2O3源としては微粉A I203具体的に
は平均粒径で5μ以下特には1〜3ル程度の前述の高純
度Ab03粉末として使用するのが望ましいが、焼成し
てAl2O3微粉となりうるもの。
は平均粒径で5μ以下特には1〜3ル程度の前述の高純
度Ab03粉末として使用するのが望ましいが、焼成し
てAl2O3微粉となりうるもの。
本発明では焼成によりMgO・Al2O3を形成しうる
ような有機アルミネートなどの使用も可能である。
ような有機アルミネートなどの使用も可能である。
本発明では、このようまA h 03微粉(源)と、前
述の望ましいSiO2源である有機シリケートと高純度
微粉MgOを混合することでMgO粉末表面に粉末の状
態で、爾後の焼成により2Mg0・SiO7相を生成し
うるようなSiO2賀コートが可能になるものと思われ
るが、この混合に際して、エチルシリケートなどの有機
シリケートは通常空気中では吸湿性が強く、これら自体
が水和しSiO2を沈澱し分離した現象を起こし、前述
のMgO粉末の状態での表面コートが好ましく達成され
難いらしく、エチルシリケートなどが空気と接触しない
ような配慮が有効である。
述の望ましいSiO2源である有機シリケートと高純度
微粉MgOを混合することでMgO粉末表面に粉末の状
態で、爾後の焼成により2Mg0・SiO7相を生成し
うるようなSiO2賀コートが可能になるものと思われ
るが、この混合に際して、エチルシリケートなどの有機
シリケートは通常空気中では吸湿性が強く、これら自体
が水和しSiO2を沈澱し分離した現象を起こし、前述
のMgO粉末の状態での表面コートが好ましく達成され
難いらしく、エチルシリケートなどが空気と接触しない
ような配慮が有効である。
このためにはMgO粉末をAl2OC源とともに有機シ
リケートを含むイtm、溶剤中で混合することで解決で
きる。有機溶剤としてはMgOと水和しないアルコール
等が適当で1例えばエタノールで充分である。
リケートを含むイtm、溶剤中で混合することで解決で
きる。有機溶剤としてはMgOと水和しないアルコール
等が適当で1例えばエタノールで充分である。
このようにMgO粉末を例えばエチルシリケートとエタ
ノールの混合溶剤中で充分混合することでMgO粉末表
面に好ましい耐水和性をもたらす5iO2fiコートが
可能となるものと思われる。
ノールの混合溶剤中で充分混合することでMgO粉末表
面に好ましい耐水和性をもたらす5iO2fiコートが
可能となるものと思われる。
ここで、本発明で加える有機シリケートの配合量につい
てふれると、本発明のより好ましい態様である七分優れ
た耐水利性をもたせるためには前述したようにある程度
以上の2Mg0・S+02相が必要であり、これが焼結
体のS I02量とじて0.5zより多くなる昂二であ
る。
てふれると、本発明のより好ましい態様である七分優れ
た耐水利性をもたせるためには前述したようにある程度
以上の2Mg0・S+02相が必要であり、これが焼結
体のS I02量とじて0.5zより多くなる昂二であ
る。
また、有機シリケートと有機溶剤の割合は、重量%で、
これらの含量中前者が50〜10%、後者が50〜90
%程度とすることである。
これらの含量中前者が50〜10%、後者が50〜90
%程度とすることである。
尚、本発明焼結体は、その焼成により2にgO・SiO
2相をもたらすであろうと思われるMgO粉末表面の結
合状態は、焼成前の段階では、通常極めて薄い層として
存在しているMgO粉末表面のMg(OHh と(C
2H5) SiとCzHsOHとが反応して0・c2o
5 いるものと考えられる。
2相をもたらすであろうと思われるMgO粉末表面の結
合状態は、焼成前の段階では、通常極めて薄い層として
存在しているMgO粉末表面のMg(OHh と(C
2H5) SiとCzHsOHとが反応して0・c2o
5 いるものと考えられる。
Al2O3はMgOと混合されており、焼成中に反応し
て、 llIgO・A I203 となり、 MgO粒
子間に存在することになると考えられる。
て、 llIgO・A I203 となり、 MgO粒
子間に存在することになると考えられる。
ついで、焼成前のこのような状態の混合物をドクタブレ
ード法やプレス法などの公知の方法で所定形状通常シー
ト状に成型し、焼成することで本発明焼結体が得られる
のであるが、ここで特徴的なのは焼成温度である。
ード法やプレス法などの公知の方法で所定形状通常シー
ト状に成型し、焼成することで本発明焼結体が得られる
のであるが、ここで特徴的なのは焼成温度である。
即ち、このような本発明方法によれば、この焼成温度を
極めて低い温度としても焼結が容易に進むということで
あり、このためにAlzO:l を配合せしめることと
合せてMgO結晶の粒成長を効果的に抑制でき、低温焼
結にもかがわたす緻密な高強度の焼結体が得られるから
である。
極めて低い温度としても焼結が容易に進むということで
あり、このためにAlzO:l を配合せしめることと
合せてMgO結晶の粒成長を効果的に抑制でき、低温焼
結にもかがわたす緻密な高強度の焼結体が得られるから
である。
具体的には通常MgO焼結体として緻密なものを得るに
は1600℃以北の高温焼成が必要であるのに対して、
本発明によれば1500℃以下、特に通常1450℃以
下で充分であり、多くの場合1400℃程度でも充分緻
密な焼結体が得られるのである。
は1600℃以北の高温焼成が必要であるのに対して、
本発明によれば1500℃以下、特に通常1450℃以
下で充分であり、多くの場合1400℃程度でも充分緻
密な焼結体が得られるのである。
一方、十分焼結させるためには通常は1300℃以」二
、好ましくは1350℃以上での焼成温度である。
、好ましくは1350℃以上での焼成温度である。
また本発明方法では、混合物からシート状等に成型する
に際し、事前に何らの予備加熱処理なども必要とするこ
となく混合物を乾燥することはあっても直接成型しかつ
直ちに所定の焼成温度での焼成が可能である。
に際し、事前に何らの予備加熱処理なども必要とするこ
となく混合物を乾燥することはあっても直接成型しかつ
直ちに所定の焼成温度での焼成が可能である。
このように本発明により得られるMgO焼結体は電気絶
縁MgO基材用として必要な十分な強度、電気絶縁性な
どの電気的特性を維持しつつ高熱伝導という材質の特徴
を生かし、かつ従来の大きな弱点であった耐水和性の問
題を焼結体を得たあとの耐水和処理を特に必要とするこ
となく(勿論付加的に行うことは差支えないし、有効で
もある)I5シく改良することに成功したものであって
、その工業的価値は、高機能IC基板の開発をより可能
ならしめるなど多大なものである。
縁MgO基材用として必要な十分な強度、電気絶縁性な
どの電気的特性を維持しつつ高熱伝導という材質の特徴
を生かし、かつ従来の大きな弱点であった耐水和性の問
題を焼結体を得たあとの耐水和処理を特に必要とするこ
となく(勿論付加的に行うことは差支えないし、有効で
もある)I5シく改良することに成功したものであって
、その工業的価値は、高機能IC基板の開発をより可能
ならしめるなど多大なものである。
本発明をさらに実施例にて説明する。
[実施例]
99.9%の高純度Mg(OH)2 を800℃で2時
間仮焼することにより比表面積30〜40m″/gのM
gO粉末を得た。
間仮焼することにより比表面積30〜40m″/gのM
gO粉末を得た。
このMgO粉末の100gに対してA h 03粉末(
粒度3延以下、純度99%以上)5g、エチルシリ/r
kつJIFF ff # / ++7 C+nI+
nrrs ゛WΔ礒s 仁fp X F合物を調整し、
さらにバインダーとしてポリビニルブチラール12%溶
液 100ccを加えて混合し、この混合物をシート状
に成型し1つは1450℃でもう1つは1440℃で1
時間焼成し、肉厚的0.5+w+wの2種類のシート状
焼結体を得た。
粒度3延以下、純度99%以上)5g、エチルシリ/r
kつJIFF ff # / ++7 C+nI+
nrrs ゛WΔ礒s 仁fp X F合物を調整し、
さらにバインダーとしてポリビニルブチラール12%溶
液 100ccを加えて混合し、この混合物をシート状
に成型し1つは1450℃でもう1つは1440℃で1
時間焼成し、肉厚的0.5+w+wの2種類のシート状
焼結体を得た。
この焼結体の断面組織をw4微鏡観察した結果及び化学
分析結果は次の通りであった。
分析結果は次の通りであった。
・断面組織
極めて微細なMgO(ペリクレース)結晶粒子が緻密に
絡み合った状態で焼結されており、このMgO結晶粒間
の大部分に2Mg0e SiO2相が容積比で合計約5
%程度として均等に分布して存在し、粒界面の一部にも
2Mg0・SiO2相が生成していた。このMgO結晶
の形状は略円形であり、その大きさはその殆どが1〜5
ルであって、2Mg0φS i02相の厚みは略0.1
〜0.5 #L程度であった。
絡み合った状態で焼結されており、このMgO結晶粒間
の大部分に2Mg0e SiO2相が容積比で合計約5
%程度として均等に分布して存在し、粒界面の一部にも
2Mg0・SiO2相が生成していた。このMgO結晶
の形状は略円形であり、その大きさはその殆どが1〜5
ルであって、2Mg0φS i02相の厚みは略0.1
〜0.5 #L程度であった。
Al2O3はMgO粒間に大部分がMgO・Al2O:
lの粒状結晶として存在し、その大きさは大部分1〜3
終であった。
lの粒状結晶として存在し、その大きさは大部分1〜3
終であった。
・化学分析値(重量%)
焼結体全体
MgO92,9%
5iTo 2.0%
Al2O35,0%
また、焼結体の諸性質、特性の測定結果は次表の通りで
あった。(^: 1450℃焼成品、Bは1440℃焼
成品、AB記載のないものは共通)嵩 密 度
A;3.50.B;3.49抗折強度(k
g/wmz) 常温 ^;31 B、30熱伝導率(c
a I/am・5ec−”0 )常温 0.
11 300℃ 0.OB 誘 電 率(100KHz) 常温 9.3 誘電損失(100KHz、丁anδ) 常温 A: 1.3X10−4. B:2.4
Xl0−4電気絶縁抵抗(Ω・cm ) 300℃ 8XIOI+ 耐水和性′″ 0.012% [)i、明の効果] 本発明は、このように高強度でかつ耐水相性特性にも優
れたMgO焼結体を可能とし、かつ材質的に優れた電気
特性と良熱伝導性を損なうことなく MgOの電気絶縁
材としての実用化を可能とするものでIC基板の高機能
化にとって極めて有効なものとなるのであってその工業
的価値は多大である。
あった。(^: 1450℃焼成品、Bは1440℃焼
成品、AB記載のないものは共通)嵩 密 度
A;3.50.B;3.49抗折強度(k
g/wmz) 常温 ^;31 B、30熱伝導率(c
a I/am・5ec−”0 )常温 0.
11 300℃ 0.OB 誘 電 率(100KHz) 常温 9.3 誘電損失(100KHz、丁anδ) 常温 A: 1.3X10−4. B:2.4
Xl0−4電気絶縁抵抗(Ω・cm ) 300℃ 8XIOI+ 耐水和性′″ 0.012% [)i、明の効果] 本発明は、このように高強度でかつ耐水相性特性にも優
れたMgO焼結体を可能とし、かつ材質的に優れた電気
特性と良熱伝導性を損なうことなく MgOの電気絶縁
材としての実用化を可能とするものでIC基板の高機能
化にとって極めて有効なものとなるのであってその工業
的価値は多大である。
第1図は、本発明焼結体の結晶の構造を示す断面顕微鏡
写真である。縮尺は!目盛が3鉢である。 lはMgO粒子、2は2)IgO・SiO2相、3はM
gO・Al2O3相である。
写真である。縮尺は!目盛が3鉢である。 lはMgO粒子、2は2)IgO・SiO2相、3はM
gO・Al2O3相である。
Claims (6)
- (1)顕微鏡的にみてMgO結晶粒子の大きさが大部分
5μ以下であって、SiO_2は大部分が2MgO・S
iO_2に、Al_2O_3は大部分がMgO・Al_
2O_3になって主にMgOの粒間にある組織からなり
、かつ熱伝導率が常温で0.08cal/cm・sec
・℃以上、100KHzにおける誘電損失(tanδ)
が常温で5×10^−^4以下、電気絶縁抵抗が300
℃で10^1^0Ω・cm以上であるとともに優れた強
度と耐水和特性を有していることを特徴とする電気絶縁
基材用マグネシア質セラミック焼結 体。 - (2)MgO結晶粒子の化学分析値は重量%で39.5
%以上からなる特許請求の範囲第1項記載のマグネシア
質セラミック焼結体。 - (3)焼結体基板としての嵩密度が3.4以上である特
許請求の範囲第1項又は第2項記載のマグネシア質セラ
ミック焼結体。 - (4)焼結体としての化学分析値が、重量%で、SiO
_20.5〜5%、Al_2O_30.5〜20%含み
、かつMgOSとSiO_2とAl_2O_3の含量が
99.5%以上である特許請求の範囲第1項記載の焼結
体。 - (5)常温での抗折強度が25kg/mm^2以上であ
る特許請求の範囲第1項記載のMgO焼結体。 - (6)100kHzでの誘電率が常温で10以下である
特許請求の範囲第1項記載のMgO焼結体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60149183A JPS6212659A (ja) | 1985-07-09 | 1985-07-09 | 電気絶縁基材用マグネシア質セラミツク焼結体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60149183A JPS6212659A (ja) | 1985-07-09 | 1985-07-09 | 電気絶縁基材用マグネシア質セラミツク焼結体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6212659A true JPS6212659A (ja) | 1987-01-21 |
Family
ID=15469611
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60149183A Pending JPS6212659A (ja) | 1985-07-09 | 1985-07-09 | 電気絶縁基材用マグネシア質セラミツク焼結体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6212659A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01282146A (ja) * | 1988-05-10 | 1989-11-14 | Ube Ind Ltd | 高強度マグネシア焼結体及びその製造法 |
| JP2012126591A (ja) * | 2010-12-14 | 2012-07-05 | Ohtsuka Ceramics Inc | 高熱伝導性マグネシアセラミックス焼結体 |
| JP2013193932A (ja) * | 2012-03-21 | 2013-09-30 | Ngk Insulators Ltd | セラミックス材料の製造方法、セラミックス材料及びスパッタリングターゲット部材 |
| US10106953B2 (en) | 2015-03-02 | 2018-10-23 | Ihc Holland Ie B.V. | Drive system for a spud carrier |
-
1985
- 1985-07-09 JP JP60149183A patent/JPS6212659A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01282146A (ja) * | 1988-05-10 | 1989-11-14 | Ube Ind Ltd | 高強度マグネシア焼結体及びその製造法 |
| JP2012126591A (ja) * | 2010-12-14 | 2012-07-05 | Ohtsuka Ceramics Inc | 高熱伝導性マグネシアセラミックス焼結体 |
| JP2013193932A (ja) * | 2012-03-21 | 2013-09-30 | Ngk Insulators Ltd | セラミックス材料の製造方法、セラミックス材料及びスパッタリングターゲット部材 |
| US10106953B2 (en) | 2015-03-02 | 2018-10-23 | Ihc Holland Ie B.V. | Drive system for a spud carrier |
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