JPS6212761A - テトラヒドロインダゾ−ル誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤 - Google Patents
テトラヒドロインダゾ−ル誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤Info
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- JPS6212761A JPS6212761A JP15329985A JP15329985A JPS6212761A JP S6212761 A JPS6212761 A JP S6212761A JP 15329985 A JP15329985 A JP 15329985A JP 15329985 A JP15329985 A JP 15329985A JP S6212761 A JPS6212761 A JP S6212761A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式
〔式中、RはC8〜C,アルキル基、C8〜C,シクロ
アルキy基、C1〜C,アルケニル基またはC1〜C8
アルキニル基を表わす。〕 で示されるテトフヒドロインダゾーpm導体(以下、本
発明化合物と記す0)、その製造法およびそれを有効成
分とする除草剤に関するものである0 ある種のテトラヒドロインダゾール誘導体、例えば、8
−クロロ−2−(2−フルオロ−4−二トロフェニ/l
/ ’) −4,5,6,7−テトラヒドロ−2H−イ
ンダシ−pが、除草剤の成効成分として用いうろことは
、特開昭52−51865号公報に記載されている・し
かしながら、これらの化合物は、除草剤の有効成分とし
て必ずしも充分なものであるヒ\1いえr、Lい。
アルキy基、C1〜C,アルケニル基またはC1〜C8
アルキニル基を表わす。〕 で示されるテトフヒドロインダゾーpm導体(以下、本
発明化合物と記す0)、その製造法およびそれを有効成
分とする除草剤に関するものである0 ある種のテトラヒドロインダゾール誘導体、例えば、8
−クロロ−2−(2−フルオロ−4−二トロフェニ/l
/ ’) −4,5,6,7−テトラヒドロ−2H−イ
ンダシ−pが、除草剤の成効成分として用いうろことは
、特開昭52−51865号公報に記載されている・し
かしながら、これらの化合物は、除草剤の有効成分とし
て必ずしも充分なものであるヒ\1いえr、Lい。
本発明化合物は畑地の茎葉処理および土壌処理において
、問題となる種々の雑草、例えば、ソバカズフ、ヌペリ
ヒュ、シロザ、アオゲイトウ、ダイコン、イチビ、アメ
リカキンゴジカ、フィールドパンジー、アメリカアサガ
オ、マルバアサガオ、セイヨウヒpガオ、シロバナチョ
ウセンアサガオ、イヌホオズキ、オオイヌノフグリ、オ
ナモミ、イヌカミツレ、コーンマリ−コールド等の広葉
雑草、ヒエ、イヌビエ、エノコログサ、メヒシバ、スズ
メノカタビラ、ノスズメノテッポウ、エンバク、セイパ
ンセロコシ、ギョウギシパ、等のイネ科雑草等に対して
除草効力を有し、しかも本発明化合物はラッカセイ、ト
ウモロコシ、コムギ、イネ、ダイス等の主要作物に対し
て問題となるような薬害を示さない。
、問題となる種々の雑草、例えば、ソバカズフ、ヌペリ
ヒュ、シロザ、アオゲイトウ、ダイコン、イチビ、アメ
リカキンゴジカ、フィールドパンジー、アメリカアサガ
オ、マルバアサガオ、セイヨウヒpガオ、シロバナチョ
ウセンアサガオ、イヌホオズキ、オオイヌノフグリ、オ
ナモミ、イヌカミツレ、コーンマリ−コールド等の広葉
雑草、ヒエ、イヌビエ、エノコログサ、メヒシバ、スズ
メノカタビラ、ノスズメノテッポウ、エンバク、セイパ
ンセロコシ、ギョウギシパ、等のイネ科雑草等に対して
除草効力を有し、しかも本発明化合物はラッカセイ、ト
ウモロコシ、コムギ、イネ、ダイス等の主要作物に対し
て問題となるような薬害を示さない。
また、本発明化合物は水田の湛水処理において問題とな
る種々の雑草、例えば、タイヌビエ等のイネ科雑草、ア
ゼナ、キカシグサ等の広葉雑草、タマガヤツリ、ホタル
イ、マツバイ、ミズガヤツリ等のカヤツリグサ科雑草、
コナギ、ウリカワ、ヘラオモダカ等に対して除草効力を
有し、しかもイネに対して問題となるような薬害を示さ
ない〇 本発明化合物は、一般式 れに対して1.0当景〜大過剰量の塩素化剤とを溶媒中
、50℃〜200℃、1時間〜96時間反応させること
によって製造することができるO溶媒としては、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン等の脂肪族炭化水素類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香腰脚化水素類、クロ
ロホμム、四塩化炭素、クロロベンゼン、ジクロロベン
ゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジイソプロピルエーテ
ル、ジオキサン、エチレングリコ−〃ジメチルエーテル
等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、次酸ジエチ
〃等のエヌテμ類等あるいは、それらの混合物があげら
れるO塩素化剤としては、ホスゲン、トリクロロメチル
クロロホーメイト、ンユウ酸クロリド等があげられる0 反応終了後の反応液は、減圧濃縮等の通常[F]後処理
を行い、必要ならば、クロマトグラフィー、再結晶等の
操作によって精製することによシ、目的の本発明化合物
を得ることができる0次に本発明化合物の製造例を示す
・ 製造例1(本発明化合物1の製造) 2−(2−)μオワ−4−二トロー5−イソプロビルア
ミノフz 二/I’ ) −8、8m、4,5,6゜7
−ヘキサヒドロ−2H−インダシ−/I/−3−オン8
.12を1Mホスゲン−トルエン溶液200fflJに
加え8時間還流した◎放冷後減圧で濃縮し、残渣をシリ
カゲμカラムクロマトグラフィー(溶出液:n−ヘキサ
ン−酢酸エチ/L/)で精製し、8−クロロ−2−(2
−フルオロ−4−二トロー5−イソプロピ〃アミノフェ
ニ/L/)−4,5,6,7−テトラヒドロ−2H−イ
ンダシ”−In2.9fを得たO NMR(CDCJj) δppm 1.85(6H,d) 、 1.85(4H,m) 、
2.2−2.9(4H,m)8.5〜4(IH,m)、
6.9(IH,d)、8.0(In、d)−7.8(I
H,m)N旦 このような製造法によって製造できる本発明化合物のい
くつかを、第1表に示す〇 第 1 表 本発明化合物の原料化合物である一般式(2)で示され
るヘキサヒドロインダシロン誘導体は以下のルートで製
造される@ −NH 閉 〔式中・Rは前記と同じ意味を表わす・〕すなわち
、ニトロアニリン誘導体(2)は通常の方法でジアゾニ
ウム塩とした後、塩化第一スズをニトロアニリン誘導体
(2)に対して8.0〜10当量用い、−80〜10℃
で塩酸中還元することによってヒドラジン誘導体的を製
造することができる。
る種々の雑草、例えば、タイヌビエ等のイネ科雑草、ア
ゼナ、キカシグサ等の広葉雑草、タマガヤツリ、ホタル
イ、マツバイ、ミズガヤツリ等のカヤツリグサ科雑草、
コナギ、ウリカワ、ヘラオモダカ等に対して除草効力を
有し、しかもイネに対して問題となるような薬害を示さ
ない〇 本発明化合物は、一般式 れに対して1.0当景〜大過剰量の塩素化剤とを溶媒中
、50℃〜200℃、1時間〜96時間反応させること
によって製造することができるO溶媒としては、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン等の脂肪族炭化水素類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香腰脚化水素類、クロ
ロホμム、四塩化炭素、クロロベンゼン、ジクロロベン
ゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジイソプロピルエーテ
ル、ジオキサン、エチレングリコ−〃ジメチルエーテル
等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、次酸ジエチ
〃等のエヌテμ類等あるいは、それらの混合物があげら
れるO塩素化剤としては、ホスゲン、トリクロロメチル
クロロホーメイト、ンユウ酸クロリド等があげられる0 反応終了後の反応液は、減圧濃縮等の通常[F]後処理
を行い、必要ならば、クロマトグラフィー、再結晶等の
操作によって精製することによシ、目的の本発明化合物
を得ることができる0次に本発明化合物の製造例を示す
・ 製造例1(本発明化合物1の製造) 2−(2−)μオワ−4−二トロー5−イソプロビルア
ミノフz 二/I’ ) −8、8m、4,5,6゜7
−ヘキサヒドロ−2H−インダシ−/I/−3−オン8
.12を1Mホスゲン−トルエン溶液200fflJに
加え8時間還流した◎放冷後減圧で濃縮し、残渣をシリ
カゲμカラムクロマトグラフィー(溶出液:n−ヘキサ
ン−酢酸エチ/L/)で精製し、8−クロロ−2−(2
−フルオロ−4−二トロー5−イソプロピ〃アミノフェ
ニ/L/)−4,5,6,7−テトラヒドロ−2H−イ
ンダシ”−In2.9fを得たO NMR(CDCJj) δppm 1.85(6H,d) 、 1.85(4H,m) 、
2.2−2.9(4H,m)8.5〜4(IH,m)、
6.9(IH,d)、8.0(In、d)−7.8(I
H,m)N旦 このような製造法によって製造できる本発明化合物のい
くつかを、第1表に示す〇 第 1 表 本発明化合物の原料化合物である一般式(2)で示され
るヘキサヒドロインダシロン誘導体は以下のルートで製
造される@ −NH 閉 〔式中・Rは前記と同じ意味を表わす・〕すなわち
、ニトロアニリン誘導体(2)は通常の方法でジアゾニ
ウム塩とした後、塩化第一スズをニトロアニリン誘導体
(2)に対して8.0〜10当量用い、−80〜10℃
で塩酸中還元することによってヒドラジン誘導体的を製
造することができる。
また、このヒドフジン誘導体図はシフ〃オロニトロベン
ゼン誘導体凹を、これに対し2.0〜10当量の抱水、
ヒドラジノあるい無水ヒドラジンとエタノール、メタノ
−μ、テトラヒドロフラン等の溶媒中、0〜40℃で反
応させることによっても製造することができる・ この様にして得たヒドフジン誘導体■は、これに対して
1.0〜1゜1当量の2−ア〃コキシカルボニμシクロ
ヘキサノンと酢酸等の溶媒中、50〜200℃で反応さ
せることによってヘキサヒドロインダシロン誘導体叩を
製造することができる。
ゼン誘導体凹を、これに対し2.0〜10当量の抱水、
ヒドラジノあるい無水ヒドラジンとエタノール、メタノ
−μ、テトラヒドロフラン等の溶媒中、0〜40℃で反
応させることによっても製造することができる・ この様にして得たヒドフジン誘導体■は、これに対して
1.0〜1゜1当量の2−ア〃コキシカルボニμシクロ
ヘキサノンと酢酸等の溶媒中、50〜200℃で反応さ
せることによってヘキサヒドロインダシロン誘導体叩を
製造することができる。
次に、これらの製造例を参考例として示す。
参考例1 (ヘキサヒドロインダシロン銹導体叩の製造
)2−フルオロ−4−ニトロ−5−イソプロピ〃アミノ
フエ二μヒドラジン5.6F、2−エトキシカμボ=p
シクロへキサノン4.2fFr酢酸100mjと共に4
時間還流し九0反応液を水に注ぎ、酢酸エチμで抽出し
九〇抽出液は水、重曹水で洗い、乾燥、濃縮した0残渣
をVリカグμカラムを用いて精製し、2−(2−フルオ
ロ−4−ニトロ−5−イソプロビルアミノフェニyv
) −8,8a、4,5.6.7−へキサヒドロ−2H
−インダゾール−8−オン4.4fを得たOm、p、1
90〜191℃ 同様にして以下のものが得られた@ 参考例2(ヒドフジン誘導体四の製造)N−イソプロピ
/L/−8,4−ジフルオロ−6−ニトロアニリン6.
8tをテトラヒドロフランt o omiに溶かし、こ
れに5℃〜10℃において飽水ヒドラジノ2.22を加
え、10〜20℃に一夜攪拌した◇生じた結晶をF別、
水洗、乾燥して2−フルオロ−4−二トロー5−イソプ
ロピμアミノフェニルヒドラジン6、1 f t−得り
。
)2−フルオロ−4−ニトロ−5−イソプロピ〃アミノ
フエ二μヒドラジン5.6F、2−エトキシカμボ=p
シクロへキサノン4.2fFr酢酸100mjと共に4
時間還流し九0反応液を水に注ぎ、酢酸エチμで抽出し
九〇抽出液は水、重曹水で洗い、乾燥、濃縮した0残渣
をVリカグμカラムを用いて精製し、2−(2−フルオ
ロ−4−ニトロ−5−イソプロビルアミノフェニyv
) −8,8a、4,5.6.7−へキサヒドロ−2H
−インダゾール−8−オン4.4fを得たOm、p、1
90〜191℃ 同様にして以下のものが得られた@ 参考例2(ヒドフジン誘導体四の製造)N−イソプロピ
/L/−8,4−ジフルオロ−6−ニトロアニリン6.
8tをテトラヒドロフランt o omiに溶かし、こ
れに5℃〜10℃において飽水ヒドラジノ2.22を加
え、10〜20℃に一夜攪拌した◇生じた結晶をF別、
水洗、乾燥して2−フルオロ−4−二トロー5−イソプ
ロピμアミノフェニルヒドラジン6、1 f t−得り
。
たO
一般式′
本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合は、
通常固体担体、液体担体、界面・活性剤その他の製剤用
補助剤と混合して、乳剤、水利剤、懸濁剤、粒剤等に製
剤するO これらの製剤には有効成分として本発明化合物を、重量
比で0.0丁〜OOで、好ましくは0.14〜80g6
含有するO 固体担体としては、カオリンクレー、アツタパμジャイ
トクレー、ベントナイト、酸性白土、パイロフィライト
、タルク、珪藻土、尿素、硫酸アンモニウム、合成含水
酸化珪素等の微粉末あるいは粒状物があげられ、液体担
体としては、キシレン、メチルナフタレン等の芳香族炭
化水素類、イソプロパノ−p、エチレンクリコー!、セ
ロソルブ等のアルコ−〃類、アセトン、シクロヘキサノ
ン、イソホロン等のケトン類、大豆油、綿実油等の植物
油、ジメチρスルホキVド、アセトニトリμ、水等があ
げられるO 乳化、分散、湿炭等のために用いられる界面活性剤とし
ては、アルキlv硫酸エステIv塩、アルキルアリ−y
スルホン酸塩、シアμキルス〃ホコハク酸塩、ポリオキ
シエチレン7〜キμアリ−〃エーテルリン酸エステル塩
等の陰イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル、ポリオキシエチレン7〜キμアリーμ工−テ
μ、ポリオキンエチレンポリオキシプロピレンブロック
コボリマー、ソルビタン脂肪酸エステ〃、ポリオキシエ
チレンソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性
剤等があげられる◎製剤用補助剤としては、リグニンス
ルホン酸塩、アルギン酸塩、ポリビニルアルコ−μ、ア
ラビアガム、CMC(力μボキシメチルセルロース)、
PAP(酸性リン酸イソプロピ〃)等があげられる0 次に製剤例を示すOなお、本発明化合物は第1表の化合
物番号で示す0部は重量部を示すO製剤例1 本発明化合物1.50部、リグニンスμホン酸力μシウ
ム8部、ラウリル硫酸ナトリウム2部および合成含水酸
化珪素46部をよく・・粉砕混合して水利剤を得るO 製剤例2 本発明化合物1.10部、ポリオキシエチレンスチリμ
フェニ〜エーテ/L/ 141H5、)デシμベンゼン
スμホン酸力〃シウム6部、キシレン80部およびシク
ロヘキサノン40部をよく混合して乳剤を得るO 製剤例8 本発明化合物4.2部、合成含水酸化珪素1部、リグニ
ンスルホン酸力/L/Vウム2部、ベントナイト80部
およびカオリンクレー65部をよく粉砕混合し、水を加
えてよく練シ合せた後、造粒乾燥して粒剤を得る。
通常固体担体、液体担体、界面・活性剤その他の製剤用
補助剤と混合して、乳剤、水利剤、懸濁剤、粒剤等に製
剤するO これらの製剤には有効成分として本発明化合物を、重量
比で0.0丁〜OOで、好ましくは0.14〜80g6
含有するO 固体担体としては、カオリンクレー、アツタパμジャイ
トクレー、ベントナイト、酸性白土、パイロフィライト
、タルク、珪藻土、尿素、硫酸アンモニウム、合成含水
酸化珪素等の微粉末あるいは粒状物があげられ、液体担
体としては、キシレン、メチルナフタレン等の芳香族炭
化水素類、イソプロパノ−p、エチレンクリコー!、セ
ロソルブ等のアルコ−〃類、アセトン、シクロヘキサノ
ン、イソホロン等のケトン類、大豆油、綿実油等の植物
油、ジメチρスルホキVド、アセトニトリμ、水等があ
げられるO 乳化、分散、湿炭等のために用いられる界面活性剤とし
ては、アルキlv硫酸エステIv塩、アルキルアリ−y
スルホン酸塩、シアμキルス〃ホコハク酸塩、ポリオキ
シエチレン7〜キμアリ−〃エーテルリン酸エステル塩
等の陰イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル、ポリオキシエチレン7〜キμアリーμ工−テ
μ、ポリオキンエチレンポリオキシプロピレンブロック
コボリマー、ソルビタン脂肪酸エステ〃、ポリオキシエ
チレンソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性
剤等があげられる◎製剤用補助剤としては、リグニンス
ルホン酸塩、アルギン酸塩、ポリビニルアルコ−μ、ア
ラビアガム、CMC(力μボキシメチルセルロース)、
PAP(酸性リン酸イソプロピ〃)等があげられる0 次に製剤例を示すOなお、本発明化合物は第1表の化合
物番号で示す0部は重量部を示すO製剤例1 本発明化合物1.50部、リグニンスμホン酸力μシウ
ム8部、ラウリル硫酸ナトリウム2部および合成含水酸
化珪素46部をよく・・粉砕混合して水利剤を得るO 製剤例2 本発明化合物1.10部、ポリオキシエチレンスチリμ
フェニ〜エーテ/L/ 141H5、)デシμベンゼン
スμホン酸力〃シウム6部、キシレン80部およびシク
ロヘキサノン40部をよく混合して乳剤を得るO 製剤例8 本発明化合物4.2部、合成含水酸化珪素1部、リグニ
ンスルホン酸力/L/Vウム2部、ベントナイト80部
およびカオリンクレー65部をよく粉砕混合し、水を加
えてよく練シ合せた後、造粒乾燥して粒剤を得る。
製剤例4
本発明化合物6.25部、ポリオキシエチレンソ〃ビタ
ンセノオレエート8部、CMC8部、水69部を混合し
、粒度が5ミクロン以下になるまで湿式粉砕して懸濁剤
を得る@このようにして製剤された本発明化合物は、雑
草O出芽前または出芽後に土壌処理、茎葉処理または湛
水処理する。土壌処理には、土壊表面処理、土壌混和処
理等があ)、茎葉処理には、植物体の上方からの処理の
ほか、作物に付着しないよう雑草に限つて処理する局部
処理等があるO また、他の除草剤と混合して用いることによシ、除草効
力の増強を期待できる◇さらに、殺虫剤、殺ダニ剤、殺
線虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥料、土壌改良剤等
と混合して用いることもできる〇 なお、本発明化合物は、水田、畑地、果樹園、牧草地、
芝生地、森林あるいは非農耕地等の除草剤の有効成分と
して月いる仁とができる@本発明化合物を除草剤の有効
成分として用いる場合、その処理量は、気象条件、製剤
形態、処理時期、方法、場所、対象雑草、対象作物尋に
よっても異なるが、通常1アー〃あたシ0.1f〜20
0 f、好ましくは、0.32〜100tであp、乳剤
、水利剤、懸濁剤等は、通常その所定量を1アー/Vあ
たシ0.5リット/L/〜10リットμの(必要ならば
、展着剤等の補助剤を添加した)水で希釈して処理し、
粒剤等は、通常なんら希釈することなくそのま一処理す
る〇展着剤としては、前記の界面活性剤のほか、ポリオ
キシエチレン樹脂酸(エステ/!/)、リグニア7−μ
ホン酸塩、アビエチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホ
ン酸塩、パラフィン等がアケられる。
ンセノオレエート8部、CMC8部、水69部を混合し
、粒度が5ミクロン以下になるまで湿式粉砕して懸濁剤
を得る@このようにして製剤された本発明化合物は、雑
草O出芽前または出芽後に土壌処理、茎葉処理または湛
水処理する。土壌処理には、土壊表面処理、土壌混和処
理等があ)、茎葉処理には、植物体の上方からの処理の
ほか、作物に付着しないよう雑草に限つて処理する局部
処理等があるO また、他の除草剤と混合して用いることによシ、除草効
力の増強を期待できる◇さらに、殺虫剤、殺ダニ剤、殺
線虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥料、土壌改良剤等
と混合して用いることもできる〇 なお、本発明化合物は、水田、畑地、果樹園、牧草地、
芝生地、森林あるいは非農耕地等の除草剤の有効成分と
して月いる仁とができる@本発明化合物を除草剤の有効
成分として用いる場合、その処理量は、気象条件、製剤
形態、処理時期、方法、場所、対象雑草、対象作物尋に
よっても異なるが、通常1アー〃あたシ0.1f〜20
0 f、好ましくは、0.32〜100tであp、乳剤
、水利剤、懸濁剤等は、通常その所定量を1アー/Vあ
たシ0.5リット/L/〜10リットμの(必要ならば
、展着剤等の補助剤を添加した)水で希釈して処理し、
粒剤等は、通常なんら希釈することなくそのま一処理す
る〇展着剤としては、前記の界面活性剤のほか、ポリオ
キシエチレン樹脂酸(エステ/!/)、リグニア7−μ
ホン酸塩、アビエチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホ
ン酸塩、パラフィン等がアケられる。
次に、本発明化合物が除草剤の有効成分として有用であ
ることを試験例で示す。なお、本発明化合物は、第1表
の化合物番号で示し、比稜対照に用いた化合物は第2表
の化合物記号で示すO また、除草効力は、調査時の供試植物の出芽および生育
阻害の程度を自限観察し、化合物を供試していない場合
と全くないしほとんど違いがないものをrOJとし、供
試植物が枯死ないし生育が完全に阻害されてhるものを
「5」として、0〜6の6段階に評価し、o、 i、2
.8.4.6で示す◎ 試験例1 畑地茎葉処理試験 直径IQm、深さ10awの円筒型プラスチックポット
に畑地土壌を詰め、ヒエ、エンバク、マルバアサガオ、
イチビを播種し、温室内で10日間育成した0その後、
製剤例2に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を
17−〃あたシ5リットル相当の展着剤を含む水で希釈
し、小型噴霧器で植物体の上方から茎葉処理した@処理
後20日間温室内で育成し、除草効力を調査した◎その
結果を第8表に示す。
ることを試験例で示す。なお、本発明化合物は、第1表
の化合物番号で示し、比稜対照に用いた化合物は第2表
の化合物記号で示すO また、除草効力は、調査時の供試植物の出芽および生育
阻害の程度を自限観察し、化合物を供試していない場合
と全くないしほとんど違いがないものをrOJとし、供
試植物が枯死ないし生育が完全に阻害されてhるものを
「5」として、0〜6の6段階に評価し、o、 i、2
.8.4.6で示す◎ 試験例1 畑地茎葉処理試験 直径IQm、深さ10awの円筒型プラスチックポット
に畑地土壌を詰め、ヒエ、エンバク、マルバアサガオ、
イチビを播種し、温室内で10日間育成した0その後、
製剤例2に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を
17−〃あたシ5リットル相当の展着剤を含む水で希釈
し、小型噴霧器で植物体の上方から茎葉処理した@処理
後20日間温室内で育成し、除草効力を調査した◎その
結果を第8表に示す。
試験例2 水田湛水処理試験
直径8cI11、深さ12110円Wi型グフスチッ?
dlッ)K水出土埃を詰め、タイヌビエ、広葉雑草<ア
ゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ)の種子を1〜2傷の深
さに混ぜ込んだ・湛水して水田状態にした後、ウリカワ
の塊茎を1〜2cI11の深さに埋め込み、更に2葉期
のイネを移植し、温室内で育成した06日後(各雑草の
発生初期)If−製剤例2に準じて供試化合 物を乳
剤にし、その所定量を水面に処理し九〇処理後20日間
温室内で育成し、除草効力を調査した◎その結果を第4
表に示す。
dlッ)K水出土埃を詰め、タイヌビエ、広葉雑草<ア
ゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ)の種子を1〜2傷の深
さに混ぜ込んだ・湛水して水田状態にした後、ウリカワ
の塊茎を1〜2cI11の深さに埋め込み、更に2葉期
のイネを移植し、温室内で育成した06日後(各雑草の
発生初期)If−製剤例2に準じて供試化合 物を乳
剤にし、その所定量を水面に処理し九〇処理後20日間
温室内で育成し、除草効力を調査した◎その結果を第4
表に示す。
第 4 表
試験例8 畑地茎葉処理試験
面積88x2Bcd、深さ11cI11のバットに畑地
土壌を詰め、ツッカセくダイス、イチビ、マμパアサガ
オ、オナモミ、シロザ、アオゲイトつを播種し、25日
間育成した@その後、製剤例2に準じて供試化合物を乳
剤にし、その所定量を展着剤を含む1アー/I/あた。
土壌を詰め、ツッカセくダイス、イチビ、マμパアサガ
オ、オナモミ、シロザ、アオゲイトつを播種し、25日
間育成した@その後、製剤例2に準じて供試化合物を乳
剤にし、その所定量を展着剤を含む1アー/I/あた。
910リツトル相当の水で希釈し、小型噴霧器で植物体
の上方から茎葉部会面に均一に処理したOこのとき雑草
および作物の生育状況は車種により異なるが、2〜5葉
期で、草丈は4〜18国であった0処理30日後に除草
効力を調査した◎その結果を第5表に示す0なお、本試
験は、全期間を通して温室内で行ったO試験例4 水田
湛水処理試験 200−のボッ)K水田土壌を詰め、タイヌビエ、広葉
雑草(アゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ)の種子および
マツバイ越冬茎を1〜2asの深さに混ぜ込んだ。湛水
して水田状態にした後、ウリカワの塊茎を1〜2eI1
1の深さに埋め込み、更に8葉期のイネを移植し、温室
内で育成し九・11日後(タイヌビエの2、0期)K、
製剤例2に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を
水面に処理し9、その水深を4tmとした0処理後20
日間温室内で育成し、除草効力を調査した0その結果を
第6表に示す0なお、処理の翌日から2日間は、1日あ
たJ)8mの水深に相当する量の漏水をかヒなっ九〇 第 6 表 試験例5 畑地土壊処理試験
の上方から茎葉部会面に均一に処理したOこのとき雑草
および作物の生育状況は車種により異なるが、2〜5葉
期で、草丈は4〜18国であった0処理30日後に除草
効力を調査した◎その結果を第5表に示す0なお、本試
験は、全期間を通して温室内で行ったO試験例4 水田
湛水処理試験 200−のボッ)K水田土壌を詰め、タイヌビエ、広葉
雑草(アゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ)の種子および
マツバイ越冬茎を1〜2asの深さに混ぜ込んだ。湛水
して水田状態にした後、ウリカワの塊茎を1〜2eI1
1の深さに埋め込み、更に8葉期のイネを移植し、温室
内で育成し九・11日後(タイヌビエの2、0期)K、
製剤例2に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を
水面に処理し9、その水深を4tmとした0処理後20
日間温室内で育成し、除草効力を調査した0その結果を
第6表に示す0なお、処理の翌日から2日間は、1日あ
たJ)8mの水深に相当する量の漏水をかヒなっ九〇 第 6 表 試験例5 畑地土壊処理試験
Claims (3)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、RはC_1〜C_8アルキル基、C_3〜C_
7シクロアルキル基、C_3〜C_8アルケニル基また
はC_3〜C_8アルキニル基を表わす。〕 で示されるテトラヒドロインダゾール誘導体。 - (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、RはC_1〜C_8アルキル基、C_3〜C_
7シクロアルキル基、C_3〜C_8アルケニル基また
はC_3〜C_8アルキニル基を表わす。〕 で示されるヘキサヒドロインダゾロン誘導体を塩素化す
ることを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは前記と同じ意味を表わす。〕 で示されるテトラヒドロインダゾール誘導体の製造法。 - (3)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、RはC_1〜C_8アルキル基、C_3〜C_
7シクロアルキル基、C_3〜C_8アルケニル基また
はC_3〜C_8アルキニル基を表わす。〕 で示されるテトラヒドロインダゾール誘導体を有効成分
とすることを特徴とする除草剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15329985A JPS6212761A (ja) | 1985-07-11 | 1985-07-11 | テトラヒドロインダゾ−ル誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15329985A JPS6212761A (ja) | 1985-07-11 | 1985-07-11 | テトラヒドロインダゾ−ル誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6212761A true JPS6212761A (ja) | 1987-01-21 |
Family
ID=15559437
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15329985A Pending JPS6212761A (ja) | 1985-07-11 | 1985-07-11 | テトラヒドロインダゾ−ル誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6212761A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04202164A (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-22 | Wako Pure Chem Ind Ltd | 被酸化性呈色試薬 |
| US8004058B2 (en) | 2008-05-15 | 2011-08-23 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Schottky diode for high speed and radio frequency application |
-
1985
- 1985-07-11 JP JP15329985A patent/JPS6212761A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04202164A (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-22 | Wako Pure Chem Ind Ltd | 被酸化性呈色試薬 |
| US8004058B2 (en) | 2008-05-15 | 2011-08-23 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Schottky diode for high speed and radio frequency application |
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