JPS62130889A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光記録媒体に関し、特に赤外線レーザーによ
る光書き込みに適した光記録媒体に関する。

〔従来の技術〕

最近、オフィスオートメーションの中心的な存在として
光ディスクが注目を集めている。光ディスクは一枚のデ
ィスク中に大量の文書、文献等を記録保存できるため、
オフィスにおける文書等の整理、管理が効率よ〈実施で
きる。この光デイスク用の記録素子としては、各種のも
のが検討されているが、価格、製造の容易さから有機材
料を用いたものが注目されている。

このような記録素子用の有機材料として、ジアセチレン
誘導体化合物が知られており、該化合物の熱変色性に着
目し、レーザー記録素子として用いる記録技術が特開昭
５８−１４７８０７号に開示されている。しかし、この
明細書中には、どのようなレーザーを用いたか、あるい
は用いるべきかの記載がなく、単にレーザーを用いて記
録を実施したとの記載に留まっている。

木発明者らは、種々のレーザーを用いてこのジアセチレ
ン誘導体化合物のレーザー記録につき検討した結果、ア
ルゴンレーザー等の大型かつ高出力のレーザーを用いれ
ば熱変色記録が可能なものの、小型で比較的低出力の半
導体レーザー（波長８００〜８５０ｎｍ）を使用した場
合にはレーザー記録が実施できないことを確認した。し
かし、光ディスク等の実用的な記録媒体としては、小型
で低出力の半導体レーザーにより光書き込みが可能なこ
とが要請される。

一方、特開昭５９−　４１３８３号および特開昭５９−
１４８０８１号には、各種のビリリウム染料、チオピリ
リウム染料およびセレナピリリウム染料が開示され、こ
れら染料を含有する有機被膜が半導体レーザー輻射波長
領域の輻射線を吸収し発熱するので、レーザーエネルギ
ーによりピットを形成するいわゆるヒートモード記録が
実施できることを開示している。しかし、記録媒体の表
面に物理的なビットを形成して記録を実施する場合には
、初期の記録層の表面が十分に平滑であると同時に記録
後においても記録媒体の表面に傷を付けないよう十分な
注意が必要となるとともに、高密度で高速記録を実施す
ることは比較的困難である。

また、これらの記録媒体の記録層は、ジアセチレン誘導
体化合物の微結晶あるいはビリリウム染料等がバインダ
ー中に分散してなるものであり。

記録層内におけるこれら化合物の配向はランダムであり
、そのため場所によって光の吸収率や反射率が異ったり
、化学反応の程度が相違したりする現象が生じ、高密度
の記録には必ずしも適しているとはいえなかった。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明はかかる従来技術の問題点を解決するためになさ
れたものであり、本発明の目的は小型軽量の半導体レー
ザーで光書き込みが可能な光記録媒体を提供することに
ある。

本発明の他の目的は、高密度、高感度で高速記録の可能
な光記録媒体を提供することにある。

本発明の更に他の目的は、安定性に優れ、高品質な光記
録媒体を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

すなわち、本発明の光記録媒体は、少なくとも親水性部
位および疎水性部位を併有するジアセチレン誘導体化合
物の単分子膜またはその累積膜からなるＡ層の一層以上
と、ビリリウム染料、チオピリリウム染料およびセレナ
ピリリウム染料からなる群より選ばれた一種以上を含有
してなる単分子膜またはその累積膜からなるＢ層の一層
以上とが積層されてなり、かつＡｆｉとＢ層との接合面
を二以上有してなる記録層を有することを特徴とする。

本発明に用いる親木性部位および疎水性部位を併有する
ジアセチレン誘導体化合物（以下、ＤＡ化合物と略称す
る）とは、隣接する分子中のｃ＝ｃ−ｃ＝ｃ官能基間に
おいて１．４−付加重合反応が可能な化合物１１あり１
代表的には下記一般式％式％） （式中、Ｘは、親水性部位を形成する親水性基であり、
ｍ、ｎは整数を表わす、） で表わされる化合物が挙げられる。

ヒ記ＤＡ化合物における親木性基Ｘとしては、例えばカ
ルボキシル基、アミノ基、ヒドロキシ基、ニトリル基、
千オアルコール基、イミノ基、スルホン酸基、スルフィ
ニル基またはその金属若しくはアミン塩が挙げられる。

疎水性部位を形成するＨ（Ｃ：Ｒ２）「表わされるアル
キル基としては炭素原子数が１〜３０の長鎖アルキル基
が好ましい。また、ｎ＋ｍとしては１〜３０の整数が好
ましい。

一方、本発明で用いるビリリウム染料、チオピリリウム
染料およびセレナピリリウム染料（以下、ビリリウム染
料類と略称する）とは、下記の基本構造 （式中、Ｘは酸素原子、イオウ原子またはセレン原子を
表わし、Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３は各種の有機残基を表
わし、Ａは陰イオンを表わす。）を有する化合物であっ
て、７８０〜９００ｎｍに吸収ピークを有し、この波長
の赤外光により発熱する化合物である。このビリリウム
染料類としては、代表的には下記一般式（１）〜（３）
で示される染料が例示される。

一般式（１） 一般式（２） Ａθ 一般式（３） （式中、Ｒ４、Ｒ５，Ｒ６、およびＲ７フェニル、トリ
ル、キシリル、クロロフェニル、メトキシフニルなどの
置換若しくは未置換の７リール基または２−ピリジル、
３−ピリジル、２−フリル、２−チェニル、２−チアゾ
リル、３−カルバゾリル、２−キノリル、３−キノリル
、２−イミダゾリル、２−レビジル、３−メトキシ−２
−ピリジル、６−メチル−２−ピリジル、４，５−ジメ
チル−２−チアゾリル、４．５−ジフェニル−２−チア
ゾリル、４−フェニル−２−チアゾリル、９−エチル−
３−カルバゾリルなどの置換若しくは未置換の複素環基
を表わし、Ｒ４、Ｒ”、Ｒ”、およびＲ７のうちの少な
くとも一つは置換若しくは未置換の複素環基を表わす　
Ｒ８は水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルな
どのアルキル基またはフェニル、トリル、キシリル、ク
ロロフェニル、メトキシフニルなどの置換若しくは未置
換の７リール基を表わす　Ｒ９はメチルまたはエチル基
を表わす。

ｘｌおよびＸ２は酸素原子、イオウ原子またはセレン原
子を表わす、Ａは塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化
物イオン、過塩素酸塩イオン、ベンゼンスルホン酸塩イ
オン、Ｐ−トルエンスルホン酸塩イオン、メチル硫酸塩
イオン、エチル硫酸塩イオン、プロピル硫酸塩イオンな
どの陰イオンを表わす。） これらビリリウム染料類の代表的な具体例を以下に例示
する。但し、陰イオンについては、便宜り全て過塩素酸
イオンで代表させた。

本発明の光記録媒体の代表的な構成を第１図および第２
図に例示する。第１図の例では、基板ＩＬに前記ピリリ
ウム染料類５を含有する単分子膜である８層４が形成さ
れ、その上に前記ＤＡ化合物の累積度２の単分子累積膜
からなるＡ層３が積層され、さらにその上にビリリウム
染料類５を含有する単分子膜の８層４が形成され、これ
ら三層により記録層２が構成されている。すなわち、こ
の光記録媒体は、Ａ層とＢ層との接合面を二つ有してい
る。図において、６は有機担体分子を示し、この有機担
体分子およびＯＡ化合物中の矩形部分は疎水性部分、大
部分は親木性部分を表わしている。第２図の例は、基板
１上に、Ａ層３と８層４との組み合せが五回繰り返して
積層されて記録層２が構成され、したがって、記録層２
はＡ層とＢ層との接合面を九つ有している。Ａ層３と８
層４との積層順序はこれらの図に示される態様に限定さ
れず、基板ｌとの接合面あるいは記録層２の表面に存在
する層は、Ａ層、Ｂ層のいづれであってもよい。また、
必要に応じて、例えば記録層２上に透明な保護層等の他
の層を設けることもできる。

記録層２の膜厚は、特に限定されないが、Ａ層３および
８層４を併せた単分子層の累積度が４００程度までのも
のが実用上好ましい。

本発明の光記録媒体の基板１としては、ガラス、アクリ
ル樹脂等のプラスチック板、ポリエステル等のプラスチ
ックフィルム、紙、金属等の各種の支持材料が使用でき
るが、基板側から輻射線を照射して記録を実施する場合
には、特定波長の記録用輻射線を透過するものを用いる
。

基板１上に、ＤＡ化合物の単分子膜または単分子累積膜
からなるＡ層３を形成するには、例えばＩ。

Ｌａｎｇｍｕｉｒらの開発したラングミュア・プロジェ
ット法（以下、ＬＢ法と略）が用いられる。ＬＢ法は、
分子内に親木基と疎水基を有する構造の分子において、
両者のバランス（両親媒性のバランス）が適度に保たれ
ているとき、この分子は水面りで親木基を下に向けた単
分子の層になることを利用して単分子膜または単分子層
の累積した■々を作成する方法である。水面上の単分子
層は二次元系の特徴をもつ。分子がまばらに散開してい
るときは、一分子当り面積Ａと表面圧■との間に二次元
理想気体の式、 ｎＡ＝ｋＴ が成り立ち、“気体膜″となる。ここに、にはポルツマ
ン定数、Ｔは絶対温度である。Ａを十分小さくすれば分
子間相互作用が強まり二次元固体の゛凝縮膜（または固
体ｌ１ｌ）”になる、凝縮膜はガラスなどの基板の表面
へ一層ずつ移すことができる。

この方法を用いて、ＯＡ化合物の単分子膜または単分子
累積膜は、例えば次のようにして製造される。まずＤＡ
化合物をクロロホルム等の溶剤に溶解し、これを水相上
に展開し、これら化合物を膜状に展開させた展開層を形
成する０次にこの展開層が水相上を自由に拡散して拡が
りすぎないように仕切板（または浮子）を設けて展開層
の面積を制限してＤＡ化合物の集合状態を制御し、その
集合状態に比例した表面圧ｎを得る。この仕切板を動か
し、展開面積を縮少して膜物質の集合状態を制御し、表
面圧を徐々に上昇させ、累積膜の製造に適する表面圧■
を設定することができる。この表面圧を維持しながら静
かに清浄な基板あるいは表面にＢＦＲが形成された基板
を垂直に上下させることにより、ＯＡ化合物の単分子膜
が基板上あるいはＢ層上に移しとられる。単分子膜はこ
のようにして　　。

製造されるが、単分子層累積膜は、前記の操作を緑り返
すことにより所望の累積度の単分子層累積膜が形成され
る。

単分子膜を基板上に移すには、上述した垂直浸漬法の他
、水平付着法、回転円筒法などの方法が採用できる。水
平付着法は基板を水面に水平に接触させて移しとる方法
で、回転円筒法は、円筒型の基体を水面上を回転させて
単分子層を基体表面に移しとる方法である。前述した垂
直浸漬法では、水面を横切る方向に表面が親水性である
基板を水中から引き上げると、一層目はＯＡ化合物の親
木基が基板側に向いた単分子層が基板上に形成される。

基板を上下させると、各行程ごとに一層ずつ単分子膜が
積層されていく、成膜分子の向きが引上げ行程と浸漬行
程で逆になるので、この方法によると２各層間は親木基
と親木基、疎水基と疎水基が向かい合うＹ型膜が形成さ
れる。

これに対し、水平付着法は、基板を水面に水平に接触さ
せて移しとる方法で、ＯＡ化合物の疎水基が基板側に向
いた単分子層が基板上に形成される。この方法では、累
積しても、ＤＡ化合物の分子の向きの交代はなく全ての
層において、疎水基が基板側に向いたＸ型膜が形成され
る０反対に全ての層において親水基が基板側に向いた累
積膜はＸ型膜と呼ばれる。

回転円筒法は１円筒型の基体を水面上を回転させて単分
子層を基体表面に移しとる方法である。

単分子層を基板上に移す方法は、これらに限定されるわ
けではなく、大面積基板を用いる時には、基板ロールか
ら水相中に基板を押し出していく方法などもとり得る。

また、前述した親木基、疎水基の基板への向きは原則で
あり、基板の表面処理等によって変えることもできる。

これらの単分子膜の移し取り操作の詳細については既に
公知であり、例えば「新実験化学講座１８界面とコロイ
ド」４９８〜５０７頁、丸善刊、に記載されている。

なお、　ＤＡ化合物の単分子膜または単分子累積膜から
なるＡ層３は、ＯＡ化合物単独よりなる膜であることが
好ましいが、少量の添加剤化合物を含む膜であってもよ
い。

一方、ビリリウム染料類５は両親媒性物質ではないので
、単独ではＬＢ法によっては単分子膜を形成することは
できない、しかし、例えばステアリン酸、アラギジン酸
などの高級脂肪酸のような両親媒性のバランスの適度に
保たれた有機高分子を担体分子として任意の比率で混合
使用することによりＬＢ法を適用することができる。す
なわち、少なくとも一つの化合物において両親媒性のバ
ランスが保たれていれば、水面上に単分子層が形成され
、他の化合物は両親媒性の化合物に挟持され、結局全体
として分子秩序性のある単分子層が形成されるからであ
る。

したがって、ピリリウム染料類５単独の単分子膜または
その累８１膜を形成することは困難であるが、ピリリウ
ム染料類５を含有する単分子ｎりまたはその累積膜であ
る８層４は、両親媒性物質を併用することによりＬＢ法
で容易に形成することができる。

この手法を採用することにより、Ａ層３と８層４が交互
に累積積層された膜はＬＢ法により容易に形成すること
ができ、このような累積膜は異種の分子の累積）１　ｉ
が含まれるので、以下、ヘテロ累積膜と称する。

このようなヘテロ累積膜は、先に第１図および第２図に
も例示したが、例えば以下のような態様で形成すること
ができる。

■奇数番目の層が［ｌＡ化合物の単分子膜で、偶数番目
の層がビリリウム染料類を含有する単分子膜であるヘテ
ロ累積膜、 ■累積度２のＯＡ化合物の単分子累積膜と累積度６のビ
リリウム染料類を含有する単分子累積膜との積層が交互
に何回か繰り返されたヘテロ累積膜、 ■ＯＡ化合物の単分子膜またはその累積膜とピリリウム
染料類を含有する単分子膜またはその累積膜とが任意な
非周期的な順序で積層されたヘテロ累積膜、 このようにして、基板上に形成されるヘテロ累積■りは
、高密度で高度な秩序性を有しているので、場所による
光吸収のバラツキは極めて小さい。したがって、このよ
うな膜によって記録層を構成することにより、ＤＡ化合
物とビリリウム染料類との機能に応じた光記録、熱的記
録の可能な高密度、高解像度の記録機能を有する記録媒
体が得られる。

なお、上述したようにして形成された［ｌＡ化合物の単
分子膜またはその累積膜からなるＡ層３は、紫外線を照
射することにより、単分子膜またはその累積膜として形
成されたＯＡ化合物が重合したものであってもよい。

本発明の光記録媒体は、各種の方式の光記録を実施する
ことが可能であるが、以下に光や熱を加えることにより
、記録層の吸収波長が変化して見掛けの色が変化するこ
とを利用する半導体レーザーによる記録の機構につき簡
略に説明する。

ＯＡ化合物は、初期にはほぼ無色透明であるが、記録層
に紫外線を照射すると重合し、ポリアセチレン誘導体化
合物へと変化する。この重合は紫外線の照射によっての
み起り、熱等の他の物理的エネルギーの印加によっては
生じない、この重合の結果、記録層は６２０〜ｆ１８０
ｎｍに最大吸収波長を有するようになり、青色乃至暗色
へと変化する。この重合に基づく色相の変化は不可逆変
化であり、一度青色至暗色へ変化した記録層は無色透明
膜へとは戻らない、また、この青色至暗色へ変化したポ
リアセチレン誘導体化合物を約５０℃以上に加熱すると
今度は約５４０ｎｍに最大吸収波長を宥するようになり
、赤色膜へと変化する。この変化も不可逆変化である。

したがって、本発明の光記録媒体を用いた光記録は次の
ような機構により実施される。

先ず本発明の記録媒体の記録層全体に紫外線を照射する
と記録層中のＤＡ化合物が重合しポリアセチレン誘導体
化合物へ変化することにより、記録層２は青色至暗色の
膜へと変化する０次いで、この記録媒体の所定の位置に
情報信号に応じて点滅する波長８００〜８５Ｑｎａ＋の
半導体レーザービーム７を照射すると、ポリアセチレン
誘導体化合物はこのレーザービーム７を吸収しないが、
第３ａ図に示されるように、８層４中のピリリウム染料
類５はこのレーザービーム７を吸収し発熱する（発熱部
位を８で示した。）このピリリウム染料類４の発熱が各
層の接合面を介してＡ層３のポリアセチレン誘導体化合
物に伝わり、赤色へと変化する。かくして、第３ｂ図に
示されるように、入力情報に応じて記録層上の記録部位
９の色変化による光記録が実施される。

〔発明の効果〕

本発明の光記録媒体の効果を以下に列挙する。

（１）記録層中のＯＡ化合物およびビリリウム染料類が
それぞれ（混合）単分子膜またはその累積膜で形成され
ているので記録層は高密度で高度な秩序性を有しており
、したがって高密度で均質な記録が可能である。

（２）記録層が輻射線吸収層と感熱変色層との接合面を
二以上有するペテロ膜として形成されているので、伝熱
効率が高く極めて高感度である。

（３）大面積の支持体に対しても高度に均質な記録層を
安価に製造することが可能である。

（４）記録層が８００〜８５０ｎｍの赤外線を吸収し発
熱するビリリウム染料類を含有しているので、８００〜
８５０ｎｍの赤外線を放射する小型軽量の半導体レーザ
ーを用いた記録が回部である。

（５）光照射による記録層の色相の変化を利用した記録
が可能なので、高速、高感度、高密度な光記録が実施で
きる。

〔実施例〕

以下、本発明を実施例に基づきより詳細に説明する。

実施例１ （ＬＩＡ化合物単分子膜の作製〕 一般式（＋２８＋５−ＣミＣ−（ｊ　Ｃ−Ｃ３Ｈ，６−
Ｃ０ＯＨで表わされるジアセチレン誘導体化合物をクロ
ロホルムにｌＸｌ０−３モル／！の濃度で溶解した溶液
を、ｐＨが６．５で塩化カドミニウム濃度がｌＸｌ０−
３モル／ｌの水相上に展開した。溶媒のクロロホルムを
除去した後、表面圧を一定に保ちながら、十分に清浄し
、表面が親水性となっているガラス基板（既にビリリウ
ム染料類を含有する単分子膜から構成される累積膜等が
形成されている場合を含む）を、水面を横切る方向に上
下速度１．０ｃｍ／分で静かに所定の回数上下させ（途
中、乾燥工程を実施する）　、　ＯＡ化合物の単分子膜
を基板上に移しとり、単分子膜または単分子累積膜を形
成した。

〔ビリリウム染料類を含有する単分子膜の作製〕前記の
染料遂４で表わされるチオピリリウム染料１重量部とア
ラキシン酸２重量部をクロロホルムに　ｌＸｌ０−３モ
ル／ｌの濃度で溶解した溶液を、ｐＨが６．５で塩化カ
ドミニウム濃度がｌＸｌ０−３モル／ｌの水相上に展開
した。溶媒のクロロホルムを除去した後、表面圧を一定
に保ちながら、十分に清浄し、表面が親水性となってい
るガラス基板（既にＯＡ化合物の単分子膜から構成され
る累積膜等が形成されている場合を含む）を、水面を横
切る方向に上下速度１．００１７分で静かに所定の回数
上下させ（途中、乾燥工程を実施する）、ビリリウム染
料類を含有する単分子膜を基板上に移しとり、単分子膜
または単分子累積膜を形成した。

〔ヘテロ累積膜の作製〕

上記した、ＯＡ化合物単分子膜およびビリリウム染料類
を含有する単分子膜の作製プロセスを基本として、これ
らの操作を適宜組合せて実施することにより　８種のへ
テロ累積膜をガラス基板上に作製した。このようにして
作製したヘテロ累積膜（光記録媒体）を第１表に示した
。なお、光記録媒体の構成を示す記号、番号の意味を下
記に例示する。

■Ｇ　／２０ＰＬ／５ＯＤＡ／２０ＰＬガラス基板（Ｇ
）上に、累積度２０のビリリウム染料類を含有する単分
子累ａ膜→累積度６０のＤＡ化合物の単分子累積膜→累
積度２０のビリリウム染料類を含有する単分子累積膜、
の順で積層して構成された記録媒体。

■Ｇ　／　ＩＯＸ　（２ＰＬ／　８ＤＡ）ガラス基板（
Ｇ）上に、累積度２のビリリウム染料類を含有する単分
子累積膜と累積度６のＯＡ化合物の単分子累積膜との積
層の組合せが、１０回繰り返され積層して構成された馳
録媒体。

比較例１ ガラス基板上にＯＡ化合物の４１層の単分子累積膜のみ
を形成した光記録媒体を作製した。

比較例２ ガラス基板上にスパッタリング法により、膜厚１５００
ＡのＧｄ・↑ｂ＊Ｆｅによる輻射線吸収層を設けた。こ
の基板の輻射線吸収層上に、４１層の単分子累積膜を形
成した光記録媒体を作製した。

記録試験ｌ 実施例１および比較例１．２で作成した光記録媒体に２
５４ｎｍの紫外線を均一かつ十分に照射し。

記Ｒ層ケ青色膜にした０次に出力２ｍＷ、波長８３０ｎ
ｍ、　　ビーム径１μｓの半導体レーザービームを入力
情報にしたがい、各光記録媒体表面の所定位置に照射（
照射時間２（ｌＱｎｓ７１ビツト）シ、青色の記録層上
に赤色の記録画像を形成した。

この記録結果の評価を第１表に示した。評価は画像解像
度および画像濃度の良否により判定し、特に良好なもの
をＯ１良好なものをＯ１記録ができないあるいは不良な
ものを×とした。また、記録感度は、同じ出力でレーザ
ービームの照射時間を変更したときに、判読可能な変色
記録を実施するのに必要な最小照射時間で評価した。

比較例３ 前記の染料遂４で表わされるチオピリリウム染料３重量
部とニトロセルロース１重量部とを塩化メチレン２０重
量部に溶解した溶液を塗布液とし調整した。この塗布液
をスピナー塗布機に装着したガラス製のディスク基板（
厚さ１．５ｍｍ、直径２００ｍｍ）の中央部に少量滴下
した後、所定の回転数で所定の時間スピナーを回転させ
塗布し、常温で乾燥し、基板上の乾燥後の塗膜の厚みが
ＩＱＯＯＡの光記録媒体を作成した。

記録試験２ 比較例３の光記録媒体について、紫外線照射を実施せず
に直接半導体レーザービームを入力情報にしたがい、記
録試験１と同じ出力で光記録媒体表面の所定位置に照射
時間を種々変更して記録層表面上に照射（照射時間５Ｇ
Ｏｎ＋／ビツト〜５悶／ビツト）し、ピットを形成する
ことによる記録を実施した。顕微鏡で観察した結果、こ
の記録媒体においては、一つのピットを明瞭に形成する
には４μｓ以上の照射時間を要することが判明した。

実施例２ 一般式〇、２Ｈ２ｓ−（：＝　ｃ−ｃミＣ−Ｃ８Ｈｌ　
６−　Ｃ０ＯＨで表わされるジアセチレン誘導体化合物
に代え、一般式Ｃ，）１．、−　Ｃ＝Ｃ−Ｃ＝Ｃ−Ｃ，
２Ｈ４−ＧＯＯＨを用いたことを除いては実施例１と同
様の方法により光記録媒体を作成した。

実施例３ 染料遂４で表わされるチオピリリウム染料に代え、染料
Ａ５で表わされるピリリウム染料を用いたことを除いて
は実施例１と同様の方法により光記録媒体を作成した。

実施例４ 染料逅４で表わされるチオピリリウム染料に代え、染料
遂７で表わされるセレナピリリウム染料を用いたことを
除いては実施例５と同様の方法により光記録媒体を作成
した。

実施例５ 染料遂４で表わされるチオピリリウム染料に代え、染料
遂１４で表わされるピリリウム染料を用いたことを除い
ては実施例８と同様の方法により光記録媒体を作成した
。

実施例６ 染料逅４で表わされるチオピリリウム染料に代え、染料
遂１６で表わされるチオピリリウム染料を用いたことを
除いては実施例８と同様の方法により光記録媒体を作成
した。

記録試験３ 実施例２〜６で作成した光記録媒体を用いて、記録試験
１と同様にしてそれぞれ記録試験を実施した。この記録
結果の評価を第２表に示した。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は、本発明の光記録媒体の構成を例
示する模式断面図である。第３ａ図および第３ｂ図は、
本発明の光記録媒体の記録の態様を示す模式断面図であ
る。 ■＝基板　　　　　　２：記録層 ３：Ａ層（ジアセチレン誘導体化合物含有層）４：８層
　　　　　　５：ビリリウム染料類６：有機担体分子　
　７：レーザービーム８：発熱部位 ９：赤色変色部位（記録部位） 特許出願人　　キャノン株式会社 代　　理　人　　　若　　林　　　　　忠第　１　図 第２図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）少なくとも親水性部位および疎水性部位を併有する
   ジアセチレン誘導体化合物の単分子膜またはその累積膜
   からなるＡ層の一層以上と、ピリリウム染料、チオピリ
   リウム染料およびセレナピリリウム染料からなる群より
   選ばれた一種以上を含有してなる単分子膜またはその累
   積膜からなるＢ層の一層以上とが積層されてなり、かつ
   Ａ層とＢ層との接合面を二以上有してなる記録層を有す
   ることを特徴とする光記録媒体。 ２）記録層が、Ａ層とＢ層とが周期的に積層されて構成
   されたものである特許請求の範囲第１項記載の光記録媒
   体。