JPS62145501A - 磁気記録方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

工　発明の背景 技術分野 本発明は、磁気記録方法に関するものである。　さらに
詳しくはより一層の高記録密度化が可能な磁気記録方法
に関する。 先行技術とその問題点 近年、磁気記録に関して、記録の大容量化、小型化を達
成するために記録密度の向上か強く要望されている。 従来、生産性等に優わだメリットを有する塗布型の磁気
記録媒体としては、ｒ−Ｆｅ２０３、Ｃｏ被被着−Ｆ　
ｅ　Ｏ３等の針状磁性粉を含有させた磁性層を有するも
のが汎用されてきた。 しかしながら、このような磁性粉を有する磁気記録媒体
では、その記録密度に、おのずから限界かある。 そこで、より高記録密度化を可能ならしめる方策として
、磁気記録媒体の面に対し垂直方向の残留磁化を有する
ＢａフェライトやＳｒフェライト等の六方晶系板状磁性
粉を磁性層に含有する磁気記録媒体がある。 このような媒体を用いることによって、より高い記録密
度化等か可能になるが、これらの媒体特性は例えば磁気
ヘッド等の記録・再生手段を有するハードをも含めたシ
ステム全体に大きく左右される。 とりわけ、記録、再生、消去をつかさどる磁気ヘットと
媒体とは特に密接な関係を有する。 ところで、フロッピー用の磁気ヘッドとしては、従来か
ら、トンネルイレーズ型ヘッド、ストラドルイレーズ型
ヘッド等のいわゆる１ヘツドタイプと呼ばれるものと、
リードライト独立型ヘッド、イレーズおよびリードライ
トコンビネーションヘッド等のいわゆる２ヘツドタイプ
と呼ばれるものが知られている。 前者のものは１つのリードライトコアに記録および再生
の２つの機能を有する１つのリードライトギャップを有
する構造となっている。 そのため記録・再生・消去を同一のギャップで行わなけ
ればならない。　このような場合、キャップ間隙を小さ
くすわば、それだけ記録密度は向上するか、その反面オ
ーバーライド特性か悪くなり、そのため高記録密度化は
容易に達成てきなくなる。 他方、後者のものは、リードライトヘッドあるいはリー
ドヘッドに、それぞれイレーズヘットあるいはライトヘ
ッドを別個に付加し、独立てしかもそれぞれ別個のギャ
ップ間隙を有する２つのギャップを用いて記録、再生、
消去を行っているために、通常、上述した前者の場合の
ようなオーバーライド特性の問題は生じず、そのため、
高記録密度に適した暖気ヘッドであると考えられている
。 そこで後者の磁気ヘッドを用い、より一層の高記録密度
化を達成すへ〈磁気記録媒体と磁気ヘットとの諸条件と
を関連づけた磁気記録方法か要望されている。 ■　発明の目的 本発明の目的は、いわゆる２ヘツドタイプと呼ばれるフ
ロッピー用磁気ヘッドと、磁気記録媒体を用いて、高記
録密度化を可能にした磁気記録方法を提供することにあ
る。 ■　発明の開示 このような目的は、下記の本発明によって達成される。 すなわち、本発明は支持体上に平均粒径が０．２μｌ以
下の六方晶系板状磁性粉とバインダーとを含有する膜厚
１．５μ「以下の磁性層を有する磁気記録媒体と、第１
の磁気へ・ントとしてライトヘットおよび第２の磁気ヘ
ッドとしてリードヘッド、あるいは第１の磁気ヘッドと
してイレーズヘットおよび第２の磁気ヘッドとしてリー
ドライトヘッドを用いて記録、再生および消去を行う磁
気記録方法において、上記磁性層の膜厚をｔ（μｍ）、
第１の磁気ヘッドのギャップ間隙をａ（μｍ）、第２の
磁気ヘットのキャップ間１涼をｂ（μｍ）としたとき、 ｔ　／　ａ≦１　かつ−ｂ≦０．４ であることを特徴とする磁気記録方法である。 ■　発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。 本発明においては、以下に述へるような磁気記録媒体と
磁気ヘッドとを用いて磁気記録方法を行う。 用いる磁気ヘッドは、いわゆる２ヘツドタイプと呼ばれ
るフロッピー用磁気ヘッドであり、このものはライトヘ
ッドまたはイレーズヘッドの第１の磁気ヘッドと、それ
ぞれに対応してリードライトヘッドまたはリードヘッド
の第２の磁気ヘッドとを有している。 そして、この具体例としては、第１図および第２図にお
いて示されるリードライト独立型ヘッド１、イレーズお
よびリードライトコンビネーションヘッド２等がある。 第１図には、リードライト独立型へ・ンド１のフロント
面（媒体との慴接面）が示されている。 リードライト独立型ヘッド１は、ギヤ・ンブ３３を介し
て閉磁路を形成するライトコア３１を有するライトヘッ
ドである第１の磁気ヘッド３と、ギャップ５３を介して
閉磁路を形成するり−ドコア５１を有するリードヘッド
である第２の磁気ヘッド５とを有している。 この場合、第１の磁気ヘッド３は、使用に際して記録と
消去の２機能を有するものであり、ライトヘッドとイレ
ーズヘッドとの役割を兼用するものである。 このような第１の磁気ヘッドのギャップ間隙は、その値
を３μｍとしたとき、後述する磁気記録媒体の磁性層の
膜厚ｔとの関係において、ｔ　／　ａ≦１である。 この値が１をこえるとオーバーライド特性が悪くなる。 本発明の磁性層の膜厚ｔの上限値および下限値は、後述
するように通常、それぞれ１．５μｍおよび０，４μｍ
程度である。 そのため、ギャップ間隙ａの値は通常、０．４〜１．５
μｍ程度とする。 また、媒体との慴動方向に対して垂直方向のトラック幅
Ｃは、６０〜６００μ田程度とする。 一方、第２の磁気ヘッド５は、使用に際して再生を行う
ものであり、そのギャップ間隙すは０．４μｍ以下、特
に０．１〜０，４μｍが好ましい。　この値が０．４μ
ｍをこえると、高記録密度化の達成が困難になるという
不都合が生じる。 また、媒体との慴動方向に対して垂直方向のトラック幅
ｄは３０〜４００μ田程度であり、前述した第１の磁気
ヘッドのトラック幅Ｃ値との比ｄ　／’　ｃは０．４〜
０．８程度とすることが好ましい。　この値か小さくな
りすぎると、高士コ　乃：Ｌ　５匁　Ｉ住　ル　ｎ）　
〕畢　ｒに　　−）ｘ＜　　電ａ７亡を　シ　　亡？　
スなお本発明においては、前述したｔ　／　ａの値とｂ
の値とを両方満足するように設定させなければ、本発明
の実効はなくなってしまう。 なお上述してきたような第１の磁気ヘッド３および第２
の磁気ヘッド５のコア材質やコア形状、その他コイル、
スライダー、ケーシング、ジンバル等の部材は公知の種
々のものとすればよい。 また第２図には、前述した磁気ヘッドと同様にいわゆる
２ヘツドタイプと呼ばれるのイレーズおよびリードライ
トコンビネーションヘット２（以下単にコンビネーショ
ンヘッド２という）のフロント面（媒体との慴接面）が
示されている。 コンビネーションヘッド２は、ギャップ３４を介して閉
磁路を形成するイレーズコア３２とを有するイレーズヘ
ットである第１の磁気ヘッド３と、ギャップ５４を介し
て閉磁路を形成するリードライトコア５２を有するリー
ドライトヘッドである第２の磁気ヘッド５とを有してい
る。 この場合、第１の磁気ヘッド３は、使用に際して消去を
行うためのものであり、そのギャップ間隙ａは、前述し
たリードライト独立型ヘッド１の第１の磁気ヘットの場
合と同様に、後述する磁気記録媒体の磁性層の膜厚ｔと
の関係において、ｔ　／　ａ≦１となるように設定する
ことが必要である。　この値が１をこえると、前述した
場合と同様な不都合が生じる。 また、トラック幅Ｃは、首記したと同様である。 通常、このギャップ間隙ａおよびトラック幅Ｃ等の設定
は前述の場合と同様に行われる。 他方、第２の磁気ヘッド５は、使用に際して記録、再生
を行うものであり、ギャップ間隙すは０．４μｍ以下、
特に０．１〜０．４μｍとされる。　この値が０．４μ
ｍをこえると、高記録密度化が達成できない。 また、媒体との摺動方向に対して垂直方向の第２の磁気
ヘッド５のトラック幅ｄは３０〜４００μｍ程度であり
、上記第１の磁気へ・ント３のトラック幅Ｃ値との比、
ｄ　／　ｃは前述のように０，４〜０．８程度とするこ
とが好ましい。　。 なお、上述してきたような第１の磁気ヘッド３および第
２の磁気ヘット５のコア材質やコア形状ならびにその他
のコイル、スライダー、ケーシング、ジンバル等の部材
は公知の種々のものとすればよい。 さらに第２図に示されるコンビネーションヘッド２は、
通常、非磁性チップないし非磁性材７を介して、第１の
磁気ヘッドと第２の磁気′　ヘッドとを連接するように
一体化して形成される。 またトラック幅Ｃおよびｄを規制するために通常溝が形
成されガラス等の非磁性充填材３６．５６が充填される
。 以上述べてきたような第１の磁気ヘッドのギャップと第
２の磁気ヘッドのギャップとの距離２は通常５０〜４０
０μｌ程度とすればよい。 ところで、本発明で用いる磁気記録媒体は、支持体上に
平均粒径が０．２μｍ以下の六方晶系板状磁性粉とバイ
ンダーとを含有する磁性層を有する。 本発明で用いる六方晶系の板状磁性粉としては、バリウ
ムフェライト、ストロンチウムフェライト等の六方晶フ
ェライト系が好適である。 このような磁性粉の平均粒径は、電磁変換特性上０．２
μｍ以下、特に０．０４〜０．１５μｍが好ましい。 また、磁性粉の平均厚みは、０．００１〜０．１μｍ程
度である。 ここで、平均粒径とは、電子顕微鏡写真〔走査形顕微ｍ
（ＳＥＭ）および透過形顕微鏡（ＴＥＭ））によって、
例えば六方晶系のバリウムフェライト粒子の断面５０個
程度を観察し、粒径についての測定値を平均にしたもの
である。 平均厚みも電子顕微鏡写真による測定値の平均である。 　また平均板−状比とは平均粒径／平均厚みの値である
。 あるいは、Ｘ線回折による２θの半値巾によってのこれ
らの値を測定することもできる。 平均粒径が０．２０μｍをこえると表面粗度が低下し、
線記録密度特性が悪くなる。 なお、平均粒径を平均厚みで除した値である平均板状比
については特に制限はないが、使用時の耐久走行性の向
上を目的とする場合には６以上、特に７〜４０であるこ
とが好ましい。 バリウムフェライトとしては、Ｂ　ａ　Ｆ　ｅ　１２０
１９等の六方晶系バリウムフェライトやバリウムフェラ
イトのＢａ、Ｆｅの一部をＣａ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｃｏ、Ｎ
ｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｉ　ｎ％Ｍｎ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｎ
ｂ、Ｚｒ、Ｓｎその他の金属で置換したもの等が挙げら
れる。 これらは併用してもよい。 また、六方晶ストロンチウムフェライトＳｒＦ　ｅ　１
２０１９、あるいはこれを上記に準じて置換したもので
あってもよい。 バリウムフェライト等の製法としては、セラミック法、
共沈−焼成法、水熱合成法、フラ・ンクス法、ガラス結
晶化法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があり
、本発明ではいずれの方法を用いてもよい。　これらの
方法の詳細については小池吉康、久保修共著“セラミッ
クス１８　（１９８３）Ｎｏ、　１０”などを参照する
ことができる。 なお、磁性粉の保磁力は、１０００Ｏｅ以下、より好ま
しくは４５０〜９００Ｏｅ、特に好ましくは５００〜９
００Ｏｅとすることが好ましい。 そして、このような磁性粉と後述するバインダーとを含
有する磁性層の膜厚ｔ（μｍ）は、前述した第１の磁気
ヘッドのギャップ間隙ａとの関係、すなわちｔ　／　ａ
≦１を満たすように設定される。　通常、このような磁
性層の膜厚は１．５μｍ以下、特に０．４〜１．５μｍ
が好ましい。　この値が１，５μ■をこえると、膜面垂
直方向の垂直角型比Ｂｒ上／　Ｂ　ｍ土が大きくならず
、そのため記録密度特性が向上しなし１からである。 Ｉ膜厚の下限値は通常０．４μｍ程度であって、０．４
μｍ未満になると磁性塗料を塗布しにくくなり、磁性層
の表面が平滑な記録媒体を得ることが困難となってしま
う。　そして、エンベロープ特性が悪化する。　さらに
は記録密度特性が向上しない。 このような磁性層を有する媒体の特性として、１模而垂
直方向の垂直角型Ｂｒ上／　Ｂ　向上は、０．６５以上
程度が好ましい。 さらに垂直方向の媒体の保持力Ｈｃ上は１０００Ｏｅ以
下、より好ましくは４５０〜９００Ｏｅである。 この値が１０００Ｏｅをこえると実用に際してフェライ
トヘッドを用いた消去が困難となり、しかもオーバーラ
イド特性が悪くなる。 またＨｅ上４５０Ｏｅ未満では十分な出力が得られない
。 なお、垂直角型比（Ｂｒ上／　Ｂ　向上）および保持力
Ｈｃ土は下記のように測定する。　すなわち、媒体表面
に垂直方向にて磁化曲線を測定し、これを反磁界補正す
る。　そして、これから残留磁化Ｂｒ上、飽和磁化Ｂｍ
上、保持力ＨＣ上を測定する。　垂直角型比は、このＢ
ｒ上／　Ｂ　向上の比である。　いわゆる両面記録媒体
の場合であっても上記の測定方法によればよい。 磁性粉を磁性塗料とする際に用いるバインダーは、放射
線硬化性、熱可塑性樹脂、熱硬化性もしくは反応型樹脂
またはこれらの混合物等か使用されるが、得られる膜強
度等から熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂を用いること
が好ましい。 熱可塑性樹脂としては軟化温度が１５０℃以下、平均分
子量１００００〜２０００００、重合度２００〜２００
０程度のものである。 熱硬化樹脂または反応型樹脂としてもこのような重合度
等のものであり、塗布、乾燥後に加熱することにより、
縮合、付加等の反応により分子量は無限大のものとなる
ものである。　そして、これらの樹脂のなかで、樹脂が
熱分解するまでの間に軟化または溶融しないものが好ま
しい。 具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
ウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホル
マール樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコー
ン樹脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキ
シ−ポリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホル
ムアルデヒド樹脂などの縮重合系の樹脂あるいは高分子
量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混
合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレ
ポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソ
シアネートの混合物、低分子量グリコール／高分子量ジ
オール／トリフェニルメタントリイレンアネートの混合
物など、上記の縮重合系樹脂とインシアネート化合物な
どの架橋剤との混合物、塩化ビニル−酢酸ビニル（カル
ホン酸含有も含む）、塩化ビニル−ビニルアルコール−
酢酸ビニル（カルボン酸含有も含む）、塩化ヒニルー塩
化ビニリデン、塩化ヒニルーアクリロニトリル、ビニル
ブチラール、ビニルホルマール等のビニル共重合系樹脂
と架橋剤との混合物、ニトロセルロース、セルロースア
セトブチレート等の繊維素系樹脂と架橋剤との混合物、
ブタジェン−アクリロニトリル等の合成ゴム系と架橋剤
との混合物、さらにはこれらの混合物が好適である。 そして、特に、エポキシ樹脂とブチラール樹脂とフェノ
ール樹脂との混合物、米国特許第３．０５８，８４４号
に記載のエポキシ樹脂とポリビニルメチルエーテルとメ
チロールフェノールエーテルとの混合物、また特開昭４
９−１３１１０１号に記載のビスフェノールＡ型エポキ
シ樹脂とアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステ
ル爪合体との混合物が好ましい。 このような、熱硬化性樹脂を硬化するには、一般に加熱
オーブン中で５０〜８０℃にて６〜１００時間加熱すれ
ばよい。 バインターとしては、放射線硬化型化合物を硬化したち
の、すなわち放射線硬化性樹脂を用いたものか特に好ま
しい。 放射線硬化性化合物の具体例としては、ラジカル重合性
を有する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル
酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル
系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等
の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可
塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。　
その他放射線照射により架橋重合する不飽和二重結合を
有する化合物であれば用いることができる。 放射線照射による゛架橋あるいは重合乾燥する基を熱可
塑性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽
和ポリエステル樹脂かある。 分子鎮中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば下記（２）の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成る飽和ポリエステル樹脂
で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不飽
和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げる
ことができる。　放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂
は多塩基酸成分１種以上と多価アルコール成分１種以上
にマレイン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒の
存在下で、１８０〜２００℃、窒素雰囲気下、脱水ある
いは塩アルコール反応の後、２４０〜２８０℃まで昇温
し、０．５〜ｌｍｍＨｇの減圧下、縮合反応により得る
ことかできる。　マレイン酸やフマル酸等の含有量は、
製造時の架橋、放射線硬化性等から酸成分中１〜４０モ
ル％、好ましくは１０〜３０モル％である。 放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることか（１）塩化ビニール
系共重合体 塩化ビニール−酢酸ヒニールービニールアルコール共屯
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ヒニールービニールアルコールーブロビオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニルアルコ
ール−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニー
ル−末端ＯＨ（ｉｌｌ鎖アルキル基共重合体、例えばＬ
ＩＣＣ社製ＶＲＯＨ，ＶＹＮＣｌＶＹＥＧＸ、ＶＥＲＲ
，ＶＹＥＳ、ＶＭＣＡ、ＶＡＧＨ，ＵＣＡＲＭＡＧ５２
０、ＵＣＡＲＭＡＧ５２８等が挙げられ、このものにア
クリル系二重結合、マレイン酸系二重結合、アリル系二
重結合を導入して放射線感応変性を行う。 これらはカルボン酸を含有してもよい。 （２）飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和％　志Ｊ、ｔ−階と
、エチレンクリコール−９工千レンクリコール、クリセ
リン、トリメチロールプロパン、１．２プロピレンクリ
コール、１．３ブタンジオール、ジプロピレンクリコー
ル、１゜４ブタンジオール、１．６ヘキサンジオール、
ペンタエリスリット、ソルビトール、クリセリン、ネオ
ペンチルクリコール、１．４シクロヘキサンジメタツー
ルのような多価アルコールとのエステル結合により得ら
れる飽和ポリエステル樹脂またはこれらのポリエステル
樹脂をＳＯ３Ｎａ等で変性した樹脂（例えばバイロン５
３Ｓ）が例として挙げられ、これらも放射線感応変性を
行う。 （３）ポリビニルアルコール、ｖＳｇ−１脂ポリビニル
アルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹脂、ホルマ
ール樹脂およびこれらの成分の共重合体で、これら樹脂
中に含まれる水酸基に対し放射線感応変性を行う。 （４）エポキシ系樹脂、フォノキシ系樹脂ビスフェノー
ルＡとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル化学製（エピ
コートＩ５２、＋５４．８２１１　、＋００１．１００
４、＋００７）　、ダウケミカル製（Ｄ　Ｅ　Ｎ４３１
　、　Ｄ　Ｅ　Ｒ７３２、Ｄ　Ｅ　Ｒ５１１、ＤＥＲ３
３１）、大「１本インキ製（エピクロン４００．８００
）、ざらに上記エポキシの高重合度樹脂であるＵＣＣ社
製フェノキシ樹脂（ＰＫＨＡ、ＰＫＨＣ，ＰＫＨＨ）、
臭素化ヒスフェノールＡとエピクロルヒドリンとの共重
合体、大日木インキ化学工業製（エピクロン＋４５．１
５２　、１５３．１１２０）等かあり、またこれらにカ
ルボン酸基を含有するものも含まれる。　これら樹脂中
に含まれるエポキシ基を利用して放射線感応変性を行う
。 （５）繊維素誘導体 各種のものか用いられるが、特に効果的なものは硝化綿
、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、ブ
チルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である樹
脂中の水酸基を活用して放射線感応変性を行う。 その他、放射線感応変性に用いるこ、どのできる樹脂と
しては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステ
ル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（ｐｖ
ｐオレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド
樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水Ｍｕ
を含有するアクリルエステル′およびメタクリルエステ
ルを重合成分として少なくとも一種含むアクリル系樹脂
等も有効である。 以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げる
。 （１）ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性、および基体フィルム、
例えばＰＥＴフィルムへの接着性が良い点で特に有効で
ある。　ウレタン化合物の例としては、イソシアネート
として、２．４＝トルエンジイソシアネート、２．６−
トルエンジイソシアネート、１．３−キシレンジイソシ
アネート、１．４−キシレンジイソシアネート、１．５
−ナフタレンジイソシアネートｍ−フェニレンジイソシ
アネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３，３′
−ジメチル−４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、４．４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、
３．３′−ジメチルビフェニレンジイソシアネート、４
．４′−ビフ′エニレンジイソシアネート、ヘキサメチ
レンジイソシアネート、イソフォロンジイソシアネート
、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、デスモジ
ュールし、デスモジュールＮ等の各種多価イソシアネー
トと、線状飽和ポリエステル（エチレングリコール、ジ
エチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロ
パン、１．４−ブタンジオール、１．６−ヘキサンジオ
ール、ペンタエリスリット、ソルビトール、ネオペンチ
ルグリコール、１．４−シクロヘキサンジメタツールの
様な多価アルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テレ
フタル酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸の様な飽
和多塩基酸との縮重合によるもの）、線状飽和ポリエー
テル（ボリエチレンクリコール、ポリプロピレングリコ
ール、ポリテトラメチレングリコール）やカプロラクタ
ム、ヒドロキシル含有アクリル酸エステル、ヒドロキシ
ル含有メタクリル酸エステル等の各種ポリエステル類の
縮重合物により成るポリウレタンエラストマー、プレポ
リマーが有効である。 これらのウレタンエラストマーの末端のイソシアネート
基または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル系
二重結合等を有する単量体とを反応させることにより、
放射線感応性に変性゛することは非常に効果的である。 　また、末端に極性基としてＯＨ，Ｃ０ＯＨ等を含有す
るものも含む。 さらに、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノある
いはジグリセリド等、イソシアネート基と反応する活性
水素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合
を有する単量体も含まれる。 （２）アクリロニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー シンクレアベトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレシ
ンとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニト
リルブタジェン共重合体プレポリマーあるいは日本ゼオ
ン社製ハイカー１４３２Ｊ等のエラストマーは、特にブ
タジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生じ架
橋および重合させるエラストマー成分として適する。 （３）ポリブタジエンエラストマー シンクレアペトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレジ
ンＲ−１５等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマ
ーが特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。　
Ｒ−１５プレポリマーにおいては分子末端が水酸基とな
っている為、分子末端にアクリル系不飽和二重結合を付
加することにより放射線感応性を高めることが可能であ
り、バインダーとしてさらに有利となる。 またポリブタジェンの環化物、日本合成ゴム製ＣＢＲ−
Ｍ９０１も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐわた性質
を有している。 その他、熱可塑性エラストマーおよびそのプレポリマー
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム
、塩化ゴム、アクリルゴム、インブレンゴムおよびその
環化物（日本合成ゴム製ＣｌＲ７０１）があり、エポキ
シ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル（東洋紡
バイロン＄３００）等のエラストマーも放射線感応変性
処理を施すことにより有効に利用できる。 オリゴマー、モノマーとして本発明で用いられる放射線
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、１，６−ヘキサンゲリコールシアク
リレート、１．６−ヘキサンゲリコールジメタクリレー
ト、Ｎ−ビニルピロリドン、ペンタエリスリトールテト
ラアクリレート（メタクリレート）、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート（メタクリレート）、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパ
ントリメタクリレート、多官能オリゴエステルアクリレ
ート（アロニックスＭ−７１００、Ｍ−５４００，５５
００，５７００等、東亜合成）、ウレタンエラストマー
にッポンラン４０４０）のアクリル変性体、あるいはこ
れらのものにＣ０ＯＨ等の官能基が導入されたもの、ト
リメチロールプロパンジアクリレート。 （メタクリレート）フェノールエチレノキシド付加物の
アクリレニド（メタクリレート）、下記一般式で示され
るペンタエリスリトール縮金環にアクリル基（メタクリ
ル基）またはεカプロラクトン−アクリル基のついた化
合物、式中ｌｍ＝１、ａ＝２、ｂ＝４の化合物（以Ｆ、
特殊ペンタエリスリトール縮合物Ａという）、 °＝”・°＝３・　ｂ＝３（７）化合物（以下・特殊　
　５）ペンタエリスリトール縮合物Ｂという）、ｍ＝１
、ａ＝６、ｂ＝ｏの化合物（以下、特殊ペンタエリスリ
トール縮合物Ｃという）、−°２・°“６・　５＝０の
化合物（以下・特殊　　６）ペンタエリスリトール縮合
物りという）、および下記式一般式で示される特殊アク
リレート類等が挙げれる。 （ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２）３−ＣＣＨ２０Ｈ（特殊
アクリレートＡ） （ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２）３−ＣＣＨ２０Ｈ３（特
殊アクリレートＢ） （ＣＨ２＝ＣＨＣ０（ＯＣ３Ｈ６）Ｈ−０ＣＨ２）３−
ＣＣＨ２ＣＨ３（特殊アクリレートＣ） （特殊アクリレートＤ） （特殊アクリレートＥ） ＣＨ２ｃ）（２Ｃ００ＣＨ＝ＣＨ２ （特殊アクリレートＦ） （ｎ中１６）　　　　　　（特殊アクリレートＧ）８）
　　ＣＨ２＝ＣＨＣ０Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２０）４−Ｃ０
０Ｈ＝ＣＨ２（特殊アクリレートＨ） （特殊アクリレートＩ） （特殊アクリレートＪ） Ａニアクリル酸、　　　Ｘ：多価アルコールＹ：多塩基
酸　　　　　（特殊アクリレ−ｈＫ）１２）　　　　Ａ
＋Ｍ−Ｎ−）−Ｍ−ＡＡニアクリル唆、　　Ｍ：２価ア
ルコールスに、放射線感応性バインダー合成例を説明］
　６ ａλ塩化ビニール酢酸ビニール共重合系樹脂のアクリル
変性体（放射線感応変性樹脂）の合成ＯＨ基を有する一
部ケン化塩ビー酢ビ共重合：平均重合度　ｎ＝５００）
７５０部とトル・１２５０部、シクロへキサノン５００
部をの４つ目フラスコに仕込み、加熱溶解し、−一℃昇
温後トリレンジイソシアネートの２−１、−１．’ロキ
シエチルメタクリレートアダクト※を、４部加え、さら
にオクチル酸スズ０．０一部、ハイドロキノン０．０１
２部を加え、＋　”（でＮ２気流中、ＮＧＯ反応率が９
０％となるまで反応せしめる。 反応終了後冷却し、メチルエチルケトン１２］部を加え
希釈する。

【※トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）の２−とドロ
キシエチルメタクリレート（２ＨＥＭＡ）アダクトの製
法 ＴＤＩ３４８部をＮ２気流中１１の４つ目フラスコ内で
８０℃に加熱後、２−エチレンメタクリレート２６０部
、オクチル酸スズ０．０７部、ハイドロキノン０，０５
部を反応缶内の温度か８０〜８５℃となるように冷却コ
ントロールしながら滴下終了後８０℃で３時間撹拌し、
反応を完結させる。 反応終了後取り出して、冷却後、白色ペースト状のＴＤ
Ｉの２ＨＥＭＡを得た。】 ｂ）ブラチール樹脂アクリル変性体に合成（放射線感応
変性樹脂） ブチラール樹脂積水化学製ＢＭ−Ｓ１００部をトルエン
１９１．２部、シクロへキサノン７１．４分と共に５１
の４つロフラスコに仕込み、加熱溶解し、８０℃昇温後
ＴＤＩの２ＨＥＭＡアダクト※を７．４部加え、さらに
オクチル酸スズ０．０１５部、ハイドロキノン０．０１
５部を加え、８０℃でＮ２気流中ＮＣＯ反応率が９０％
以上となるまで反応せしめる。 反応終了後冷却し、メチルエチルケトンにて希釈する。 Ｃ）飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂） 飽和ポリエステル樹脂（東洋紡バイロンＲＶ−２００）
、１００部をトルエン１１６部、メチルエチルケトン１
１６部に加熱溶解し、８０℃昇温後、ＴＤＩの２ＨＥＭ
Ａアダクト※を３．５５部加え、さらにオクチル酸スズ
０．００７部、ハイドロキノン０．００７部を加え、８
０℃でＮ２気流中ＮＣＯ反応率が９０％以上となるまで
反応せしめる。 ｄ）◎エポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応
変性樹脂） エポキシ樹脂（シェル化学製エピコート１００７）４０
０部をトルエン５０部、メチルエチルケトン５０部に加
熱溶解後、Ｎ、Ｎ−ジメチルベンジルアミン０．００６
部、ハイドロキノン０．００３部を添加し８０℃とし、
アクリル酸６９部を滴下し、８０℃で酸価５以下となる
まで反応せしめる。 ◎フェノキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応変
性樹脂） ＯＨ基を存するフェノキシ樹脂（ＰＫＨＨ：ＵＣＣ社製
　分子量３００００）６００部、メチルエチルケトン１
８００部を３１の４つ目フラスコに仕込み、加熱溶解し
、８０℃昇温後、トリレンジイソシアネートの２とドロ
キシエチルメタクリレートアダクトを６．０部加え、さ
らにオクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロキノン０．
０１２部を加え、８０℃でＮ２気流中、ＮＧＯ反応率が
９０％となるまで反応せしめる。 このフェノキシ変性体の分子量は、３５０００．１分子
当りの二重結合は１個である。 ｅ）ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成（放射
線硬化性エラストマー） 末端インシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト（ＭＤＩ）系ウレタンプレポリマー（日本ポリウレタ
ン製ニッポラン３１１９）２５０部、２ＨＥＭＡ３２．
５部、ハイドロキノン００７部　オ々壬ル酪７プｎ　　
ｎｎｑ川（を反応缶にいれ、８０℃に加熱溶解後、ＴＤ
Ｉ４３．５部を反応缶内の温度が８０〜９０℃となるよ
うに冷却しながら滴下し、滴下終了後、８０℃で反応率
９５％以上となるまで反応せしめる。 ｆ）ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体（放射線硬化性エラストマー）の合成 日本ポリウレタン社製ポリエーテルＰＴＧ−５００，２
５０部、２ＨＥＭＡ３２．５部、ハイドロキノン０．０
７部、オクチル酸スズ０゜００９部を反応缶にいれ、８
０℃に加熱溶解後、ＴＤＩ４３．５部を反応缶内の温度
か８０〜９０℃となるように冷却しながら滴下し、滴下
終了後、８０℃で反応率９５％以上となるまで反応せし
める。 ｇ）ポリブタジェンエラストマーアクリル変性体の合成
（放射線硬化性エラストマー）シンクレアベト口ケミカ
ル社製低分子量末端水酸基ポリブタジェンポリＢＤリク
ィットレジンＲ−１５２５０部、２ＨＥＭＡ３２．５部
、ハイドロキノン０．０７部、オクチル酸スズ０．００
９部を反応缶にいれ、８０　”Ｃに加熱溶解後、ＴＤＩ
４３．５部を反応缶内の温度が８０〜９０℃となるよう
に冷却しながら滴下し、滴下終了後、８０℃で反応率９
５％以上となるまで反応せしめる。 高分子には、放射線照射により崩壊するものと分子間に
架橋を起こすものが知られている。 分子間に架橋を起すものとしては、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル、
ポリアクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、
ポリビニルピロリドンゴム、ポリビニルアルコール、ポ
リアクリルンがある。　このような架橋型ポリマーであ
わば、上記のような変性を特に施さなくても、架橋反応
が起こるので、前記変性体の他に、こわらの樹脂はその
まま使用可能である。 このような放射線硬化性樹脂を硬化するには、公知の種
々の方法に従えばよい。 なお、硬化に際して、紫外線を用いる場合、上述したよ
うな、放射線硬化型化合物の中には、光重合増感剤か加
えられる。 この光重合増感剤としては、従来公知のものでよく、例
えばベンツインメチルエーテル、ヘンジインエチルエー
テル、α−メチルベンツイン、α−クロルデオキシヘン
ゾイン等のヘンツイン系、ヘンシフエノン、アセトフェ
ノン、ヒスジアルキルアミノヘンシフエノン等のケトン
類、アセドラキノン、フエナントラキノン等のキノン類
、ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノス
ルフィド等のスルフィト類、等を挙げることかできる。 　光重合増感剤は樹脂固形分に対し、０，１〜１０重量
％の範囲が望ましい。 紫外線照射は、例えばキセノン放電管、水素放電管など
の紫外線電球等を用いればよい。 一方、電子線を用いる場合には、放射線特性としては、
加速電圧１００〜７５０ＫＶ、好ましくは１５０〜３０
０ＫＶの放射線加速器を用い、吸収線量を０．５〜２０
メガラツトになるように照射するのが好都合である。 特に照射線源としては、吸収線量の制御、製造工程ライ
ンへの導入、電離放射線の遮蔽等の見地から、放射線加
熱器により電子線を使用する方法および萌述した紫外線
を使用する方法が有利である。 さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤
型の樹脂であっても、短時間で硬化することができるの
で、このような樹脂を用いることかできる。 このような放射線硬化性樹脂を用いることによって大径
のいわゆるジャンボロールで巻きしまりがなくなり、ジ
ャンボロール内外での電磁変換特性の差がなくなり特性
が向上する。　またオンラインで行えるので生産性が良
くなる。 磁性粉／バインダーは、重量比て１／１〜９／ｌ、特に
２／１〜８／１であることが好ましい。 このような割合とするのは１／１未満では飽和磁束密度
か低くなり、９／１をこえると分散不良により表面粗度
が悪くなり、また塗膜ももろくなり好ましくなくなるか
らである。 本発明では必要に応し、非反応性溶剤が使用される。　
溶剤としては特に制限はないが、バインダーの溶解性お
よび相溶性等を考慮して適宜選択される。 例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルゲトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチル
、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール
、エタノール、イソプロパツール、ブタノール等のアル
コール類、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳
香族炭化水素類、イソプロピルエーテル、エチルエーテ
ル、ジオキサン等のエーテル類、テトラヒドロフラン、
フルフラール等のフラン類等を単一溶剤またはこれらの
混合溶剤として用いられる。 これらの溶剤はバインダーに対して１０〜１００００ｗ
ｔ％、特に１００〜５０００ｗＬ％の割合で用いる。 磁性層には無機顔料が含まれていてもよい。 無機顔料としては、１）導電性のあるカーボンブラック
、グラファイト、グラファイト化カーボンブラック、ま
た２）無機充填剤として５ｉ０２　、ＴｉＯ２、Ａｆｉ
２０３、Ｃｒ２　０３　　、　　Ｓ　　ｉ　　Ｃ，Ｃａ
ｂ、　　ＣａＣＯ３、酸化亜鉛、ゲーサイト、γ−Ｆｅ
２Ｏ３、タルク、カオリン、ＣａＳＯ４，窒化硼素、フ
ッ化黒鉛、二硫化モリブデン、ＺｎＳ等がある。 またこの他、次のような微粒子顔料（エアロジルタイプ
、コロイダルタイプ）：５ｉ０２、Ａ１２０３　、Ｔｉ
Ｏ２、ＺｒＯ２、 Ｃｒ２０３　、Ｙ２０３　、ＣｅＯ２、Ｆｅ３０４　、
Ｆｅ２０３　、ＺｒＳ　ｉ０４、Ｓｂ２０５．５ｎ０２
等も用いられる。　これら微粒子顔料は、例えばＳ　ｉ
　０２の場合、■無水硅酸の超微粒子コロイド溶液（ス
ノーテックス、水系、メタノールシリカゾル等、日産化
学）、■精製四塩化ケイ素の燃焼によって製造される超
微粒子状無水シリカ（標準品１００人）（アエロジル、
日本アエロジル株式会社）などが挙げられる。　また、
前記■の超微粒子コロイド溶液および■と同様の気相法
で製造される超微粒子状の酸化アルミニウム、並びに酸
化チタンおよび面述の微粒子顔料が使用され得る。　こ
の様な無機顔料の使用量は１）に関してはバインダー１
００重量部に対して１〜３０重量部、また２）に関して
は１〜３０重量部か適当であり、これらがあまり多くな
ると、塗膜がもろくなり、かえってドロップアウトが多
くなるという欠点がある。 また、無機顔料の径については１）に関しては０．１μ
ｍ以下、さらには０．０５μｍ以下が好ましく、２）に
関しては０．７μｍ以下、ざらには０．５μＩ以下が好
ましい。 磁性層には分散剤が含まれていてもよい。 分散剤として有機チタンカップリング剤、シランカップ
リング剤や界面活性剤が、帯電防止剤としてサポニンな
どの天然界面活性剤；アルキレンオキサイド系、グリセ
リン系、グリシドール系などのノニオン界面活性剤：高
級アルキルアミン類、第４級アンモニウム塩類、ピリジ
ンその他の複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム
類などのカチオン界面活性剤；カルボン酸、スルホン酸
、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の酸性基を
含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類、アミノスルホン
酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル等の
両性活性剤などが使用される。 磁性層には潤滑剤が含まれていてもよい。 潤滑剤としては、従来この種の磁気記録媒体に用いられ
る葭１滑剤として、シリコンオイル、フッ素オイル、脂
肪酸、脂肪酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、
界面活性剤等を用いることができるが、脂肪酸および／
または脂肪酸エステルを用いるのが好ましい。 脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸
、ミリスチン酸、バルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン
酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸
、ステアロール酸等の炭素数８以上の脂肪酸（ＲＣＯＯ
Ｈ，Ｒは炭素数７以上のアルキ・ル基）であり、脂肪酸
エステルとしては、炭素数１２〜１６個の一塩基性脂肪
酸と炭素数３〜１２個のｍ個のアルコールからなる脂肪
酸エステル類、炭素数１７個以上の〜塩基性脂肪酸と脂
肪酸の炭素数と合計して、炭素数が２１〜２３個よりな
る一価のアルコールとからなる脂肪酸エステル等か使用
され、また面記脂肪酸のアルカリ金属またはアルカリ土
類金属からなる金属石鹸、レシチン等が使用される。 シリコーンとしては、脂肪酸変性よりなるもの、一部フ
ッ素変性されているものが使用される。　　アルコール
としては高級アルコールよりなるもの、フッ素としては
電解置換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーション
等によって得られるものが使用される。 潤滑剤の中では、放射線硬化型のものも使用して好都合
である。　これらは裏面への裏型転写を抑えるため、ド
ロップアウトの防止、ロール状に巻か九たときの内外径
の個所よる出力差の減少の他、オンライン上での製造が
可能である等の利点を持つ。 放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステ、ル、グリセライド等があり、これらの
潤滑剤を構造式で表すと、 ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２Ｃ００Ｒ１ ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＮＨＣＨ２ＣＯＯＲ５ＣＨ２Ｃ０ＯＲ
。 ＲＣＯＯＣＨ＝ＣＨ２、 ＲＣＯＯＣＨ２−ＣＨ＝　ＣＨ２等で、ここでＲは直鎖
または分枝状の飽和もしくは不飽和炭化水素基で、炭素
数は７以上、好ましくは１２以上２３以下であり、これ
らはフッ素置換体とすることもできる。 フッ素置換体としては、 ＣｎＦ２ｏ＋１ＳＯ２ＮＣＨ２ＣＨ２−１ＣｎＦｎＣＨ
２ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２−１ＣｎＦ　　　Ｏ＋Ｃ００
ＣＨ２（：１１２−ｎ−１ 等がある。 これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート（アクリレート）、ステア
リルアルコールのメタクリレート（アクリレート）、グ
リセリンのメタクリレート（アクリレート）、グリコー
ルのメタクリレート（アクリレート）、シリコーンのメ
タクリレート（アクリレート）等が挙げられる。 分散剤および潤滑剤はバインダーに対して０．１〜２０
重量部含ませるがよい。 支持体としては、ポリエチレンテレフタレート等のポリ
エステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セ
ルローストリアセテート等のセルロース誘導体、ポリイ
ミド、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポリエチレン
ナフタレート、芳香族アラミド、芳香族ポリエステル、
さらにはアルミニウム等の金属板、ガラス板が使用され
るがこれらに限定されるものではない。 これらの中では、特に、ポリエステル、ポリアミド、ポ
リイミド等を用いることが好ましい。 本発明に用いる磁気記録媒体では通常、支持体の両面に
磁性層か設けられるー　この６ヒうか媒体としては、例
えばフロッピーディスク、ハードディスク等かある。 また必要に応じてアンダーコート、バックコートおよび
トップコートを設けてもよい。 なお、バックコートを設けるときには、バインター、顔
料および潤滑剤からなる組成とするのかよい。 本発明に用いる磁気記録媒体を製造するには常法に従っ
て行えばよく、磁性粉をバインダー有機溶剤等とともに
混合分散して磁性塗料をＪ（Ｍし、この磁性塗料をポリ
エステルフィルムなとの基体上にクラビアコート、リバ
ースロールコート、エアーナイフコート、エアードクタ
ーコート、ブレードコート、キスコート、スブレイコー
・トなどの手法を用いて塗布し、必要に応じて水ゝト方
向や垂直方向の磁場等による配向処理を行って乾燥し、
好ましくは常法に従い放射線硬化すればよい。　そして
必要に応じてバックコートおよびトップコートを設けれ
ばよい。 配向処理は、常法に従い、上述したような所定の垂直角
型比および保磁力を得るために種々の方法をとりつる。 たとえば配向方法としては永久磁石、直流磁石、交流磁
場か代表的なものとして用いられ、それらのものの各種
組合せ、例えば垂直と水平の組合せ、水平配向、水火磁
石または直流磁場と交流磁場の組合せ、機械的配向や機
械的配向とＬ記の組合せ等、種々のものが用いられる。 これらのうち、特に本発明では、機械的配向や垂直配向
を行うことが好ましい。 配向に用いる磁場強度としては１０００〜６０００Ｇが
好ましい。 本発明に用いる記録媒体において、さらに支持体と磁性
層との間にパーマロイ等の高透磁率金属薄膜や各種塗膜
のアンダーコート層を設けることもできる。　これらは
併用してもよい。 塗膜のアンダーコート層には、前述したような熱硬化性
樹脂または放射線硬化型化合物およ・び導電性顔料、無
機充填剤、潤滑剤、界面活性剤の分散剤等か必要に応じ
含まれる。 導電性顔料としては、カーボンブラックが好ましい。　
カーボンブラックとしては、ファーネス、チャンネル、
アセチレン、サーマル、ランプ等、いずれの方法で製造
されたものでもよいか、アセチレンブラック、ファーネ
スブラック、チャンネルブラック、ローラーおよびディ
スクブラック及びドイツナフタリンブラックが好ましい
。 カーボンブラックの粒子径はどのようなものでもよいか
、好ましいのは、電子顕微鏡撮影法によりｄ）１１足し
て１０〜１００　［１μｍ、特に好ましくは１０〜８０
ｍ１．Ｌｍである。　更に粒子径について言えば、粒子
径１００　ｍμｍを超えるとアンダーコート層面の表面
粗度が悪くなり、磁性層塗布後の型持低下の原因となる
。　また１０ｍμｍ未満では分散かうまくいかず、やは
りアンターコートの表面粗度か悪くなる。 カーボンブラー７　’７　Ｌ−け特鰭たφ、めン１７で
Ｉ→ファイト化カーボンブラックがあり１本発明ではグ
ラファイト化カーボンブラックも用いることができる。 このようなアンダーコート層を設けることによって、媒
体のヘッドへのはりつき、また、塗布工程等の製造工程
中にガイトローラ、カレンダローラ等のはりつき、放電
ノイズ等の発生を防止することができる。 アンダーコート層の厚さは１０人〜５μｒｎ程度とする
ことが好ましい。 ■　発明の具体的作用効果 本発明によれば、磁気記録媒体の磁性層の＋ｉ厚と、い
わゆる２ヘツトタイプと呼ばれるフロッピー用磁気ヘッ
ドのそれぞれのキャップ間隙とを所定の関係となるよう
に設定するのて、より一層の高記録密度化か実現てきる
。 このような磁気記録方法は、各種フロッピーディスク、
オーディオ、ビデオ、ビデオフロッピー、画像ファイル
、計算機用ディスク、磁気ディスク、磁気カード等に用
いられる。 特にフロッピーディスク、計算機用ディスク、磁気ディ
スクに好適である。 ■　発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。 ［実施例１］ 厚さ７５μｍのポリエステル（ＰＥＴ）フィルムの表面
と裏面の両面上に下記に示すようなアンダーコート層を
設層した。 アンターコート層　　　　　　　　　　重量部カーボン
ブラック　２０ｍμ１Ｉ１５０（Ａ）アクリル変性塩ビ
ー酢ビーヒニルアルコール共用合体　分子１ｉ１４５．
０００　　４ｓ（］））アクリル変性ポリウレタンエラ
ストマー分子量　５．０００　　　　　　　　　　４５
（Ｃ）ペンタエリスリトールトリアクリレートステアリ
ン酸　　　　　　　　　　　　　　　２ステアリン酸ブ
チル　　　　　　　　　　　２混合溶剤（ＭＩＢに／ト
ルエン＝１／１）　　３００上記混合物をボールミル中
５時間分散させ、上記のポリエステル（ＰＥＴ）フィル
ム上に乾燥厚０．７μＩになるように塗ノａし、表面平
滑化処理を行い、エレクトロンカーテンタイプ電子線加
速装置を用いて加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電流１０ｍ
Ａ、吸収線量５Ｍｒａｄ、Ｎ２ガス中で電子線をアンダ
ーコート層に照射した。 このようなアンダーコート層の両面上に、さらに下記に
示されるような磁性塗料からなる磁性層を形成し、種々
のサンプルを作製した。 すなわち、まず最初に、平均粒径０．０８μｍ、　Ｅｌ
ｌｉ−胸板状比８をもつ六方晶系バリウムフェライト（
Ｂ　ａ　Ｆ　ｅ　１２０１ｇのＢａ、Ｆｅの一部をＣｏ
　（９％）、Ｔｉ（３％）で置換したものを水熱合成法
で合成）を用いて以下のようにして磁性塗料を作成した
。 バリウムフェライト　　　　　１２０重量部（Ｈｃ＝７
００　Ｏｅ） α−Ａｆ１２０３　　　　　　　　　２重量部（０，５
μｍ粉状） カーホンブラック　　　　　　　　１０重量部（２０ｍ
μｍ） 溶剤（ＭＥに／トルエン：　　　１００重量部上記組成
物をボールミル中にて３時間混合し、バリウムフェライ
トをよく湿潤させた。 次に、バインダーとして 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体く
マレイン酸１％含有： ＭＷ４０，０００）８重量部（固型分換算）、アクリル
二重結合導入塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（マレイ
ン酸１％含有： ＭＷ２０，０００）１０重量部（固型分換算）、 アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー（ＭＷ４０，０００）９重量部（固型分換算）、 ペンタエリスリトールトリアクリレート３市量部、 溶剤（ＭＥＫ／トルエン；５０１５０）２００重量部 ステアリン酸を４重量部、 および ステアリン酸ブチル２重量部 を混合溶解させた。 これを磁性粉混合物の入ったボールミル中に投入し、再
び４２時間混合分散させた。 このようにして得られた磁性塗料を、上記アンターコー
ト層上にグラビアコートによって塗設し、その磁性層を
乾燥させながら、垂直磁場内（２５００Ｇ）で配向処理
を行った。 その後、さらに遠赤外線ランプまたは熱風により溶剤を
乾燥させた。 表面平滑化処理をした後、ＥＳＩ社製エレクトロカーテ
ンタイプ電子線加速装置を使用して加速電圧１５０Ｋｅ
Ｖ、電極電流２０ｍＡ、全照射ｆｉ　５　Ｍ　ｒ　ａ　
ｄの条件下でＮ２雰囲気下にて電子線を照射し、塗膜を
硬化させた。　媒体サンプルとしての垂直方向の保磁力
Ｈａ上は７５０　Ｏｅでありた。　硬化後の塗膜（磁性
層）の厚さは表１に示すように種々かえてサンプルを作
製した。　なお、この膜厚の測定は電子マイクロメータ
ーで行った。 これら塗膜をフィルムの両面に形成し、両面コートとし
た。 このようにして作製したものを媒体サンプル１０１〜１
０７（表１）とする。 これらのサンプルについて、第２図に示されるようなコ
ンビネーションヘッド２を用いて下記の特性を評価した
くサンプルＮｏ、１０１〜１０８）。 なお、用いたコンビネーションヘラｌ’　２は、ギャッ
プ間隙ａ＝４．ｃｚｍ、ｂ＝０．３８μｍ、トラック幅
ｃ＝１２０．４ｚｍ　、ｄ＝６０μｍであり、コア材質
はフェライトとした。 なお、サンプルＮｏ、１０８（比較）では、磁気ヘッド
として上記の２ヘツドタイプのものを用いず、リードラ
イトヘッドのみの１ヘツドタイプのものを用いた場合の
実験を行った。 （１）線記録密度Ｄ５ｏ（ＫＦＲＰＩ）回転数３００　
ｒ、ｐ、ｍ、、上記のコンビネーションヘッドを用いて
低記録密度領域での出力（Ｅ）が高記録密度領域でＥ／
２となる線記録密度Ｄ５ｏ（ＫＦＲＰＩ）を測定した。 （２）垂直角型比 磁気記録媒体サンプルの垂直方向の角型比Ｂｒ上／　Ｂ
　ｍ上を測定し、反磁場補正を行った。 支持体の両面に磁性層を設層した場合は、それぞれの磁
性層についての測定を行った。 （３）オーバーライド特性 磁気記録媒体サンプル上１０ＫＦＲＰＩの矩形をリング
型ヘッドにて書き込み、その上に２０にＦＲＰＩを重ね
書きし、出力差を測定した。　出力万人の方がオーバラ
イド特性が良い。 現行のフロッピーディスクのオーバーライド特性の規格
は一２６ｄＢ以下であるが、フロッピーディスク間の互
換性を考えた場合、−３０ｄＢ以下にすることが望まし
い。 表１からあきらかなように、ｔが１．５μｍ以下のもの
はＤ５ｏが良好である。 しかし、ｔ≦１．５μｍでもｔ　／　ａ　＞　１では、
オーバーライド特性が悪くなる。　また１ヘツドの場合
はｔ≦１．５μｍ、ｔ／ａ≦・１でもオーバーライド特
性が悪い。 この実験では、フロッピーディスクのドライブか２７０
ＴＰＩでの評価を行ったため、記録密度１０〜１４Ｍバ
イトのものとなり、本発明に従い非常に高い記録密度が
得られることになる。 ［実施例２］ 実施例１で用いたポリエステル（ＰＥＴ）フィルムの表
面と裏面の両面上に下記に示すようなアンダーコート層
を設層した。 ン　　　−コ−（ 重量部 ＣａＣＯ３５０ｍμｍ　　　　　　　　１０カーボン　
２０　　ｍμｍ （グラファイト化カーボン）３０ 塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体（ユニオンカー
バイ、ド社製ＶＡＧＨ）　　５０ポリウレタンエラスト
マー （ＢＦ、グツドリッチ　ニステン５７０３）ステアリン
酸　　　　　　　　　　　　　２ステアリン酸ブチル　
　　　　　　　　　２混合溶剤（Ｍｌ［１に／トルエン
＝１７１）３００上記混合物をボールミル中５時間分牧
させた後、さらにイソシアネート化合物（日本ポリウレ
タン社製コロネートし）を２０重量部加え、この混合物
を上記のポリエステル（ＰＵＴ）フィルム上に乾燥厚３
μｍになるように塗布し、表面平滑化処理を行い、その
後、８０℃で４８時間熱硬化を行った。 このようなアンターコート層の両面上に、さらに下記に
示されるような磁性塗料からなる磁性層を形成し、種々
のサンプルを作製した。 すなわち、実施例１て用いた磁性粉にかえて、下記に示
されるような保磁力をもつ六方晶系バリウムフェライト
（Ｂ　ａ　Ｆ　ｅ　１２０１ｇのＢａ、Ｆｅを一部下記
の置換金属で置換したものを水熱合成法で合成）の磁性
粉として用いた。 Ｉ　　　　Ｃｏ　（４’）　　Ｔｉ　（２）　　　１０
００２　　　　Ｃｏ（５）　　Ｔｉ（２）　　　８００
３　　　　Ｃｕ　（２）　　Ｚｒ　（＋３）　　　　６
００４　　　　Ｃｕ　（２）　　Ｚｒ　（１４）　　　
４５０５　　　　Ｃｏ　（ＩＩ）　　Ｔｉ　　（４）　
　　４００６　　　　Ｃｏ　（１２）　　Ｔｉ　　（６
）　　　　３００なお、これらの磁性粉の平均粒径は０
．１１μｍ、゛Ｙ均板状比は１６であった。 置換金属は蛍光Ｘ線で分析を行い、Ｆｅを１００％とし
て換算した。 これらの磁性粉を用い、以下のようにして磁性塗料を作
製した。 バリウムフェライト　　　　　１２０重量部α　Ａｆ１
２ｏ３　　　　　　　　　２ｍｍ？ＴＳ（０５μｍ粉状
） カーボンブラック　　　　　　　１０重量部（２０ｍμ
ｍ） 溶剤（ＭＥＫ／トルエンニ　　１００重量部上記組成物
をボールミル中にて３時間混合し、バリウムフェライト
をよく湿潤させた。 次に下記に示すバインダーを磁性粉混合物の入ったボー
ルミル中に投入し、再び４２時間混合分散させた。 ユＬλ久二１１ 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（
ユニオンカーバイト社製ＵＣＡＲＭＡＧ５２８） １５重量部（固型分換算）、 ウレタン（日本ポリウレタン社製ニラポラン３０２２）
　　　　１５重量部（固型分換算）、溶剤（ＭＥＫ／シ
クロヘキサノン； ７０／３０）　　　　　　　　　　２００重量部、高級
脂肪酸変性シリコーンオイル３重量部、および ミリスチン酸ブチル３重量部 を混合溶解させた。 さらに、分数後、磁性塗料中にイソシアネート化合物（
日本ポリウレタン社製コロネートＬ）を５重量部（固型
分換算）加えた。 このようにして得られた磁性塗料を、上記アンターコー
ト層上にグラビアコートによって塗設し、その後、遠赤
外ランプまたは熱風により溶剤を乾燥させた。 その後、表面平滑化処理をした後、８０’Ｃで４８時間
熱硬化を行って、塗膜を硬化させた。 硬化後の塗膜（磁性層）の厚さはｉ、ｏμｍであった。 この１１旧ｊｆｆ　／７’ｌ　ｉｌｌ　宇ｒ、＋　雷−
Ａ　フ、ｉ　／７　ｒｙ　Ｊ　　ｈ　　＜行った。 これら塗膜をフィルムの両面に形成し、両面コートとし
た。 なお、このような種々の媒体サンプルの垂直方向の保磁
力および垂直角型比Ｂｒ上／　Ｂ　ｍ土は下記表２に示
されるとおりであった。 なお、Ｎｏ、　２１３，２１４の媒体については、餌述
した実施例１の場合と同様に磁性層を乾燥させながら、
垂直磁場内（２５００Ｇ）で配向処理を行った。 これら各サンプルについて、第２図に示されるようなコ
ンビネーションヘッドを用いて上記の線記録密度Ｄ５ｏ
（ＫＦＲＰＩ）を求めた。 なお、コンビネーションヘッドとしては、表２に示され
るようなキャップ間隙ａを有するものを用い、その他ギ
ャップ間隙ｂ＝０．３５μｉ＋、トラック幅ｃ＝２５０
μｍ、ｄ＝１２０μｍは一定とした。　コア材質はフェ
ライトとした。 結果を表２に示す。 表２に示される結果から、ｔ　／　ａ≦１で良好な結果
かえられること、および媒体のＨｃ上は１００００ｃ以
下、より好ましくは４５０〜９０００ｃか好ましいこと
かわかる。 ［実施例３］ ＰＥＴフィルムおよびアンダーコート層は実施例１の場
合と同様にし、磁性層を下記のようにかえた。 すなわち、平均粒径０．１２μｍ、平均板状比３４であ
って、Ｂ　ａ　Ｆ　ｅ　１２０１ｇのＢａ、Ｆｅの一部
をＣｕ　（２％）、Ｚｒ（１３％）で置換した磁性粉（
保磁力６５０　　Ｏｅ）を用いて、その他の混合物組成
、媒体作製方法等は以下に示すようなバインダー組成お
よび磁性粉の配向処理にかえた以外は実施例１の場合と
同様にした。 なお、設層乾燥後の磁性層厚さは、１，２μｌとした。 ベゴニ仁ダニ」（戊 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体く
マレイン酸１％含有； ＮＷ２Ｏ，０００）１０重量部 （固型分換算）、 アクリル変性フェノキシ（ＭＷ３５，０００）６重量部
（固型分換算）、 アクリル変性ポリエーテルウレタンエラストマー（ＭＷ
２０，０００）２４重量部（固型分換算）、 溶剤（ＭＥに／シクロヘキサノン； ７０／３０）２００重量部、 高級脂肪酸変性シリコーンオイル３重量部、ミリスチン
酸ブチル　　　　　　３重量部これらの媒体サンプルに
ついて、第２図に示されるようなコンビネーションヘッ
ドを用いて、上記の線記録密度Ｄ５ｏにＦＲＰ　Ｉ　）
を求めた。 なお、コンビネーションヘッドとしては、表３に示され
るようなギャップ間隙すを有するものを用い、その他ギ
ャップ間隙ａ＝１．２５μ「、トラック幅ｃ＝１２０μ
ｍ、ｄ＝６０μｍは一定とした。　コア材質はフェライ
トとした。 なお、媒体としての垂直方向の保持力Ｈｃ土は７００Ｏ
ｅであった。 結果を表３に示す。 表　　　３ ３０１０．４２６５　−３５　０．９０（比較） ３０２　　　（Ｌ３９　　　７０　　　　−３５　　　
　０．９０３０３　　０．３７　　　７４　　　　−３
５　　　　０．９０３０４　　０．３５　　　７７　　
　　−３５　　　　０．９０３０５　　０．３２　　　
８１　　　　−３５　　　　０．９０３０６　　０．３
０　　　８６　　　　−３５　　　　０．９０以ヒの結
果より本発明の効果かあきらかである。 なお、実施例１〜３の中で、バインダー組成を熱硬化性
樹脂としたものは放射線硬化性樹脂に比べ熱硬化時の巻
きしまりによりカールか発生しやすいということか確認
された。　従　って、実用面ではバインダー組成を放射
線硬化性樹脂とした方が好適である。 また、上記各実施例では、第２図に示されるヘッドを用
いたが、第１図に示されるような独立型のヘッドでも全
く同様の結果かえられた。

【図面の簡単な説明】

第１図はリードライト独立型ヘッドの正面図である。 第２図は、イレーズおよびリードライトコンビネーショ
ンヘッドの正面図である。 符号の説明 ！・・・リードライト独立型ヘッド、 ２・−イレーズおよびリードライトコンビネーションヘ
ッド、３・・・第１の磁気ヘット、３１・・・ライトコ
ア、３２・・・イレーズコア、３３．３４・・・ギャッ
プ、３６−・・非磁性充填材、５・・・第２の磁気ヘッ
ト、５１−・・リードコア、５２−・・リート・ライト
コア、 ５３．５４・・・キャップ、５６・・・非磁性充填材、
７・・・非磁性チップ 出願人　　ティーディーケイ株式会社 ′−７５−′ 代理人　　弁理士　　石　井　陽　−（、・１．・、ヒ
ト［ｊ−２二一

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）支持体上に平均粒径が０．２μｍ以下の六方晶系
   板状磁性粉とバインダーとを含有する膜厚１．５μｍ以
   下の磁性層を有する磁気記録媒体と、第１の磁気ヘッド
   としてライトヘッドおよび第２の磁気ヘッドとしてリー
   ドヘッド、あるいは第１の磁気ヘッドとしてイレーズヘ
   ッドおよび第２の磁気ヘッドとしてリードライトヘッド
   を用いて記録、再生および消去を行う磁気記録方法にお
   いて、 上記磁性層の膜厚をｔ（μｍ）、第１の磁気ヘッドのギ
   ャップ間隙をａ（μｍ）、第２の磁気ヘッドのギャップ
   間隙をｂ（μｍ）としたとき、 ｔ／ａ≦１かつｂ≦０　４ であることを特徴とする磁気記録方法。
2. （２）ｔが０．４〜１．５μｍである特許請求の範囲第
   １項に記載の磁気記録方法。
3. （３）六方晶系板状磁性粉の板状比が６以上である特許
   請求の範囲第１項または第２項に記載の磁気記録方法。
4. （４）磁気記録媒体の垂直方向の保持力Ｈｃ⊥が１００
   ０Ｏｅ以下である特許請求の範囲第１項ないし第３項の
   いずれかに記載の磁気記録方法。