JPS62147741A - 半導体素子の選別用基板および半導体素子の選別方法 - Google Patents
半導体素子の選別用基板および半導体素子の選別方法Info
- Publication number
- JPS62147741A JPS62147741A JP60288786A JP28878685A JPS62147741A JP S62147741 A JPS62147741 A JP S62147741A JP 60288786 A JP60288786 A JP 60288786A JP 28878685 A JP28878685 A JP 28878685A JP S62147741 A JPS62147741 A JP S62147741A
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/701—Tape-automated bond [TAB] connectors
Landscapes
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体素子の選別用基板および半導体素子の選
別方法に関し、特に、電極端子数や消費電力の増加した
半導体素子に対しても電気選別、バイアス試験等の選別
が適格に行えるようにした半導体素子の選別用基板およ
び半導体素子の選別方法に関する。
別方法に関し、特に、電極端子数や消費電力の増加した
半導体素子に対しても電気選別、バイアス試験等の選別
が適格に行えるようにした半導体素子の選別用基板およ
び半導体素子の選別方法に関する。
従来の半導体素子の選別方法として、例えば、第8図に
示すものがある。この選別方法はフィルムキャリヤテー
プのリードに半導体素子の電極端子を接槙して電気選別
、バイアス試験等の選別を行うもので、フィルムキャリ
ヤテープ5Aはスプロケットホール(搬送及び位置決め
に用いる穴)1、デバイスホール(半導体素子7が入る
開口部)2、金属箔を接着してエツチング等によって所
望の形状にされたり一ド3、選別用のパッド4 、およ
びパッド4に接続されて各パッド4を集中部10に接続
するメンキ配線9を有し、ポリイミド等の絶縁フィルム
より構成されている。
示すものがある。この選別方法はフィルムキャリヤテー
プのリードに半導体素子の電極端子を接槙して電気選別
、バイアス試験等の選別を行うもので、フィルムキャリ
ヤテープ5Aはスプロケットホール(搬送及び位置決め
に用いる穴)1、デバイスホール(半導体素子7が入る
開口部)2、金属箔を接着してエツチング等によって所
望の形状にされたり一ド3、選別用のパッド4 、およ
びパッド4に接続されて各パッド4を集中部10に接続
するメンキ配線9を有し、ポリイミド等の絶縁フィルム
より構成されている。
このフィルムキャリヤテープ5Aのリード3に半導体素
子7の雪掻端子上に設けられた金属突起物6が接続され
ている。フィルムートヤリャテープ5Aのり一ド3と半
導体素子7の金属突起物6のボンディングは熱圧着方又
は共晶法等により行われる。
子7の雪掻端子上に設けられた金属突起物6が接続され
ている。フィルムートヤリャテープ5Aのり一ド3と半
導体素子7の金属突起物6のボンディングは熱圧着方又
は共晶法等により行われる。
以上の構成において、集中部10を切断除去した後、パ
ッド4上に接触子を接触させて電気選別やバイアス試験
等の選別を実施する。
ッド4上に接触子を接触させて電気選別やバイアス試験
等の選別を実施する。
選別後、リード3を所望の長さに切断して半導体素子7
をフィルムキャリヤテープ5Aから切り離し、ついで、
例えば、第9図に示すように、半導体素子7にボンディ
ングされているリード3をプリント基板8等にボンディ
ングするか、または外部導出用リードを有するリードフ
レーム(図示せず)にボンディングし、エポキシ樹脂等
で封止することにより半導体装置が完成する。
をフィルムキャリヤテープ5Aから切り離し、ついで、
例えば、第9図に示すように、半導体素子7にボンディ
ングされているリード3をプリント基板8等にボンディ
ングするか、または外部導出用リードを有するリードフ
レーム(図示せず)にボンディングし、エポキシ樹脂等
で封止することにより半導体装置が完成する。
なお、フィルムキャリヤテープ5Aのり−ド3とパッド
4には、ボンディング性向上や接触子接触時の接触抵抗
低減のため金、錫等のメッキを通常施すが、これらメッ
キを所望の厚さにするために電解メッキで実施する場合
、フィルムキャリヤテープ5へのすべてのり−ド3とパ
ッド4とを電気的に接続させておく必要がある。集中部
lOがこの機能を果たしているが、この状態では、選別
の実施が不可能となるため、電解メッキを実施後、前述
したように、メッキ配線9の集中部10を切断除去して
各メッキ配線9を分離し、各リード3及びパッド4を電
気的に絶縁させて選別を可能としていた。
4には、ボンディング性向上や接触子接触時の接触抵抗
低減のため金、錫等のメッキを通常施すが、これらメッ
キを所望の厚さにするために電解メッキで実施する場合
、フィルムキャリヤテープ5へのすべてのり−ド3とパ
ッド4とを電気的に接続させておく必要がある。集中部
lOがこの機能を果たしているが、この状態では、選別
の実施が不可能となるため、電解メッキを実施後、前述
したように、メッキ配線9の集中部10を切断除去して
各メッキ配線9を分離し、各リード3及びパッド4を電
気的に絶縁させて選別を可能としていた。
上記のようなフィルムキャリヤテープを使用する半導体
素子の選別方法および半導体装置の製造方法によれば、
ボンディングがり−ド数と無関係に一度で可能であるた
めスピードが速く、ボンディング等の組立と電気選別作
業の自動化がはかれるため、量産性に優れている。
素子の選別方法および半導体装置の製造方法によれば、
ボンディングがり−ド数と無関係に一度で可能であるた
めスピードが速く、ボンディング等の組立と電気選別作
業の自動化がはかれるため、量産性に優れている。
しかし、従来のフィルムキャリヤテープを使用した半導
体の選別方法にあっては、フィルムキャリヤテープの外
形が映画用の35−mフィルムと一致した幅を有するた
め、最近のrcチップの能力増加にともなう電極端子数
や消費電力の増加により種々の不具合が生じている。
体の選別方法にあっては、フィルムキャリヤテープの外
形が映画用の35−mフィルムと一致した幅を有するた
め、最近のrcチップの能力増加にともなう電極端子数
や消費電力の増加により種々の不具合が生じている。
即ち、電極端子数の増加に応じてパッド4が増加するた
め、35鶴幅のフィルムキャリヤテープ内に収めるため
にはパッド4の面積を小さくする必要がある。しかし、
この結果、接触子のパッドに対する接触精度を高くせね
ばならない。特に、バイアス試験は長時間の試験のため
、多数の半導体素子をフィルムキャリヤテープに接続し
た状態で同時に実施する必要があるが、高温下の試験の
ためフィルムキャリヤテープが熱によって伸びると、特
にフィルムキャリヤテープの端のものについて、接触子
がパッドからはずれ、さらに隣のパッドとシジートする
という問題があった。
め、35鶴幅のフィルムキャリヤテープ内に収めるため
にはパッド4の面積を小さくする必要がある。しかし、
この結果、接触子のパッドに対する接触精度を高くせね
ばならない。特に、バイアス試験は長時間の試験のため
、多数の半導体素子をフィルムキャリヤテープに接続し
た状態で同時に実施する必要があるが、高温下の試験の
ためフィルムキャリヤテープが熱によって伸びると、特
にフィルムキャリヤテープの端のものについて、接触子
がパッドからはずれ、さらに隣のパッドとシジートする
という問題があった。
これを防ぐためには、バイアス試験を少数の半導体素子
毎に実施するか、バイアス試験用のパッド面積のみを大
きくする方法があるが、前者の場合は生産性が著しく低
下し、後者の場合はパッド数を増加できないという不都
合が発生する。
毎に実施するか、バイアス試験用のパッド面積のみを大
きくする方法があるが、前者の場合は生産性が著しく低
下し、後者の場合はパッド数を増加できないという不都
合が発生する。
また、消費電力の増加に応じて電気選別やバイアス試験
におけるICチップの放熱を考慮しなければならないが
、必要な放熱を実施するための放熱板や放熱フィンをフ
ィルムキャリヤテープにボンディングされている多数の
ICチップに施すことは極めて困難であった。
におけるICチップの放熱を考慮しなければならないが
、必要な放熱を実施するための放熱板や放熱フィンをフ
ィルムキャリヤテープにボンディングされている多数の
ICチップに施すことは極めて困難であった。
本発明は上記に鑑みてなされたものであり、半導体素子
の電極3:fij子数や消費電力が増加しても電気選別
やバイアス試験等の選別を適格に行えるようにするため
、フィルムキャリヤテープにボンディングされた状態で
選別を行わずに半導体素子のリードがボンディングされ
るパッドを有し、前記半導体素子の電極端子数に応じた
サイズの選別用基板を準(liii L、該基板の各パ
ッドに接続された選別用パ・ンドに選別用接触子を接触
させるようにした半導体素子の選別用基板およびその選
別方法を提供するものである。
の電極3:fij子数や消費電力が増加しても電気選別
やバイアス試験等の選別を適格に行えるようにするため
、フィルムキャリヤテープにボンディングされた状態で
選別を行わずに半導体素子のリードがボンディングされ
るパッドを有し、前記半導体素子の電極端子数に応じた
サイズの選別用基板を準(liii L、該基板の各パ
ッドに接続された選別用パ・ンドに選別用接触子を接触
させるようにした半導体素子の選別用基板およびその選
別方法を提供するものである。
本発明の半導体素子の選別用基板およびその選別方法に
よれば、半導体素子に設けたリードがボンディングされ
る選別用基板を設け、かつ、この選別用基板を半導体素
子の電極O:h子数や消費電力に応じたサイズにするこ
とによってパッドの面積やリード長等に対する寸法制度
を無くするものである。それによって、フィルムキャリ
ヤテープにパッドを形成する必要がなくなり、これらに
起因する諸問題を解決することができる。
よれば、半導体素子に設けたリードがボンディングされ
る選別用基板を設け、かつ、この選別用基板を半導体素
子の電極O:h子数や消費電力に応じたサイズにするこ
とによってパッドの面積やリード長等に対する寸法制度
を無くするものである。それによって、フィルムキャリ
ヤテープにパッドを形成する必要がなくなり、これらに
起因する諸問題を解決することができる。
以下、本発明による半導体素子の選・別用基板およびそ
の選別方法を詳細に説明する。
の選別方法を詳細に説明する。
第1図(正面図)及び第2図(背面図)は本発明の選別
用基板100の一実施例を示し、中央部に半導体素子7
が入る空間としてのデバイスホール12及び搬送及び位
置決め用の孔13を有した基板部材11と、デバイスホ
ール12内にセントされる半導体素子7の複数の電極端
子にそれぞれ設けられた金属突起物6の各々にボンディ
ングされるリード3の延長線上に位置し且つ端部力(°
ホール12の周縁に接するようにして基板部材11上に
形成されてリード3がボンディングされるリードボンデ
ィング用パッド14と、該リードボンディング用パッド
14の延長端に形成され電気選別及びバイアス試験の際
の端子となる選別用バ・7ド15と、配線長が大になっ
て電気抵抗が増加するものに対して基板部材11の裏面
に設けられる太い配線25(スルーホール16により接
続される)より構成される。
用基板100の一実施例を示し、中央部に半導体素子7
が入る空間としてのデバイスホール12及び搬送及び位
置決め用の孔13を有した基板部材11と、デバイスホ
ール12内にセントされる半導体素子7の複数の電極端
子にそれぞれ設けられた金属突起物6の各々にボンディ
ングされるリード3の延長線上に位置し且つ端部力(°
ホール12の周縁に接するようにして基板部材11上に
形成されてリード3がボンディングされるリードボンデ
ィング用パッド14と、該リードボンディング用パッド
14の延長端に形成され電気選別及びバイアス試験の際
の端子となる選別用バ・7ド15と、配線長が大になっ
て電気抵抗が増加するものに対して基板部材11の裏面
に設けられる太い配線25(スルーホール16により接
続される)より構成される。
第3図は本発明において用いられるフィルムキャリヤテ
ープ5Bを示し、従来のフィルムキャリヤテープ5A(
第8図に図示)のものからパッド4および集中部10が
除去された構成を有し、それに加えてリード支持用のテ
ープフィルム枠であるサスペンダー17が設けられてい
る。
ープ5Bを示し、従来のフィルムキャリヤテープ5A(
第8図に図示)のものからパッド4および集中部10が
除去された構成を有し、それに加えてリード支持用のテ
ープフィルム枠であるサスペンダー17が設けられてい
る。
以上の構成において、半導体素子の選別方法および半導
体素子の製造方法について詳述する。
体素子の製造方法について詳述する。
先ず、第3図に示すように、フィルムキャリヤテープ5
Bのり−ド3と半導体素子7の複数の電極端子にそれぞ
れ設けられた金属突起物6を熱圧着法又は共晶法等によ
りボンディングする。
Bのり−ド3と半導体素子7の複数の電極端子にそれぞ
れ設けられた金属突起物6を熱圧着法又は共晶法等によ
りボンディングする。
次に、第4図に示すように、フィルムキャリヤテープ5
Bからデバイスホール2の縁の近傍で各リード3を所望
の長さに切断し、第4図に示すように、半導体素子7を
フィルムキャリヤテープ5Bから分離する(サスペンダ
ー17を有する)。ここで第1図に示す選別用基板10
0を準備する。
Bからデバイスホール2の縁の近傍で各リード3を所望
の長さに切断し、第4図に示すように、半導体素子7を
フィルムキャリヤテープ5Bから分離する(サスペンダ
ー17を有する)。ここで第1図に示す選別用基板10
0を準備する。
ついで、第5図に示すように、リードポンディング済み
の半導体素子のり一ド3と、選別用基板100のリード
ボンディング用パッド14とを熱圧着法、共晶法または
半田等のろう材を用いてボンディングし、選別用基板1
00上に形成さた選別用パッド15に選別装置(図示せ
ず)の接触子を接触させて電気選別及びバイアス試験等
の選別を実施する。
の半導体素子のり一ド3と、選別用基板100のリード
ボンディング用パッド14とを熱圧着法、共晶法または
半田等のろう材を用いてボンディングし、選別用基板1
00上に形成さた選別用パッド15に選別装置(図示せ
ず)の接触子を接触させて電気選別及びバイアス試験等
の選別を実施する。
ここで、フィルムキャリヤテープ5Bについては、電気
選別及びバイアス試験用のパッドや、メッキ用配線を一
個所に集中させる集中部が無く、また、メッキ後に集中
部を除去して全リードを絶縁させる必要も無く、リード
3のみを形成すれば良いため、35鰭幅の標準外形のフ
ィルムキャリヤテープに電極端子数に応じた多数のリー
ドを形成することができる。なお、フィルムキャリヤテ
ープ5Bのデバイスホール2内のり−ド3が長くなる場
合は、リード支持用のテープフィルム枠であるサスペン
ダーを設けても良い。サスペンダーは、第6図に示すよ
うに、選別用基板100にボンディングするリード部1
9と実装時にボンディングするリード部20がその開孔
部に位置するように形成されていて第1のサスペンダー
17と第2のサスペンダー18を存しているが、リード
の長さに応じていずれか一方のみ設けるようにしても良
い。
選別及びバイアス試験用のパッドや、メッキ用配線を一
個所に集中させる集中部が無く、また、メッキ後に集中
部を除去して全リードを絶縁させる必要も無く、リード
3のみを形成すれば良いため、35鰭幅の標準外形のフ
ィルムキャリヤテープに電極端子数に応じた多数のリー
ドを形成することができる。なお、フィルムキャリヤテ
ープ5Bのデバイスホール2内のり−ド3が長くなる場
合は、リード支持用のテープフィルム枠であるサスペン
ダーを設けても良い。サスペンダーは、第6図に示すよ
うに、選別用基板100にボンディングするリード部1
9と実装時にボンディングするリード部20がその開孔
部に位置するように形成されていて第1のサスペンダー
17と第2のサスペンダー18を存しているが、リード
の長さに応じていずれか一方のみ設けるようにしても良
い。
例えば、第3図においては、第1のサスペンダー17の
みを設けている。また、第6図に示すように、第1のサ
スペンダー17上でリード部19を広げて選別用基板1
00にボンディングするリードピンチを大にすれば、選
別用基板100へのボンディング精度が向上する。
みを設けている。また、第6図に示すように、第1のサ
スペンダー17上でリード部19を広げて選別用基板1
00にボンディングするリードピンチを大にすれば、選
別用基板100へのボンディング精度が向上する。
本発明によれば、選別用基板100は、外形の制限が無
いので電気選別及びバイアス試験用のパッド面積を小さ
くすることな(パッド15を多数設けることができる。
いので電気選別及びバイアス試験用のパッド面積を小さ
くすることな(パッド15を多数設けることができる。
さらに、半導体素子7の電極から電気選別及びバイアス
試験用のパッド15までの配線長が長くなり、配線の電
気抵抗の増加が電気選別及びバイアス試験に影響を与え
る恐れがあるときは、第1図及び第2図に示すように、
問題となる配線部についてスルホール16を通して基板
部材11の裏面に太い配線25を設ければ解決すること
ができる。さらに、裏面の配線25を利用することによ
り、多数のパッド15の設置及び配線の引き回しが容易
となる。
試験用のパッド15までの配線長が長くなり、配線の電
気抵抗の増加が電気選別及びバイアス試験に影響を与え
る恐れがあるときは、第1図及び第2図に示すように、
問題となる配線部についてスルホール16を通して基板
部材11の裏面に太い配線25を設ければ解決すること
ができる。さらに、裏面の配線25を利用することによ
り、多数のパッド15の設置及び配線の引き回しが容易
となる。
また、消費電力の増加による電気選別やバイアス試験に
おけるICチップの放熱についは、選別用基板100の
外形を太き(とることにより、十分な大きさの放熱板や
放熱フィンを取り付けることが可能であり、さらに、基
板部材11を、例えば、セラミック板等の良熱伝導性材
料で構成することにより、基板部材11を放熱材として
使用することもできる。
おけるICチップの放熱についは、選別用基板100の
外形を太き(とることにより、十分な大きさの放熱板や
放熱フィンを取り付けることが可能であり、さらに、基
板部材11を、例えば、セラミック板等の良熱伝導性材
料で構成することにより、基板部材11を放熱材として
使用することもできる。
なお、選別用基板100の外形はフィルムキャリヤテー
プ5Bの外形と異なるため、電気選別及びバイアス試験
を従来の35鰭幅のフィルムキャリヤテープ状態で実施
することは不可能であるが、第1図及び第2図に示すよ
うな搬送及び位置決め用の孔13を設けることにより自
動化がはかれ、量産性を損うことはない。
プ5Bの外形と異なるため、電気選別及びバイアス試験
を従来の35鰭幅のフィルムキャリヤテープ状態で実施
することは不可能であるが、第1図及び第2図に示すよ
うな搬送及び位置決め用の孔13を設けることにより自
動化がはかれ、量産性を損うことはない。
以上の選別の終了後、第7図に示すように、リード3を
切断して選別用基板100から分離し、例えば、第9図
のように、プリント基板8上に半導体素子7のリード3
をボンディングするか、または外部導出用リート°を有
するリードフレーム(図示せず)にリード3をボンディ
ングしてエポキシ樹脂等で封止することによって実装を
行うことができる。
切断して選別用基板100から分離し、例えば、第9図
のように、プリント基板8上に半導体素子7のリード3
をボンディングするか、または外部導出用リート°を有
するリードフレーム(図示せず)にリード3をボンディ
ングしてエポキシ樹脂等で封止することによって実装を
行うことができる。
なお、上記実施例においては、選別°周基板100を個
片の状態で選別作業を実施したが、従来のフィルムキャ
リヤテープ5Aのように選別用基板100を長尺のテー
プ状態として実施することも可能である。
片の状態で選別作業を実施したが、従来のフィルムキャ
リヤテープ5Aのように選別用基板100を長尺のテー
プ状態として実施することも可能である。
また、フィルムキャリヤテープ5Bには電気選別用のパ
ッドを設けなかったが、フィルムキャリヤテープ5Bの
エリアが許す限り特定の端子について電気選別用パッド
を設け、フィルムキャリヤテープの状態で特定の端子に
ついての選別を実施すれば、製造途中工程で不良品の除
去が可能となる。
ッドを設けなかったが、フィルムキャリヤテープ5Bの
エリアが許す限り特定の端子について電気選別用パッド
を設け、フィルムキャリヤテープの状態で特定の端子に
ついての選別を実施すれば、製造途中工程で不良品の除
去が可能となる。
以上説明した通り、本発明の半導体素子の選別用基板お
よびその選別方法によれば、電気選別及びバイアス試験
等の選別用パッドが形成された選別用基板を設け、該基
板の各パッドに半導体素子に接続されたリードを接続す
るようにしたため、電極端子数が増えてもパッドの増設
が容易となり、フィルムキャリヤ方式の利点を損うこと
無く電気選別およびバイアス試験等の選別を実施するこ
とができる。
よびその選別方法によれば、電気選別及びバイアス試験
等の選別用パッドが形成された選別用基板を設け、該基
板の各パッドに半導体素子に接続されたリードを接続す
るようにしたため、電極端子数が増えてもパッドの増設
が容易となり、フィルムキャリヤ方式の利点を損うこと
無く電気選別およびバイアス試験等の選別を実施するこ
とができる。
また、放熱板や放熱フィン等の取付けが容易になると共
に、リード配線の針設が容易になるため、電極端子数が
多く、消費電力の大きい半導体装置をフィルムキャリヤ
方式によって製造することができる。
に、リード配線の針設が容易になるため、電極端子数が
多く、消費電力の大きい半導体装置をフィルムキャリヤ
方式によって製造することができる。
第1図及び第2図は本発明の一実施例を示す正面図及び
背面図。第3図乃至第5図は本発明の選別工程の順序を
示す説明図。第6図はパッドの間隔が広い場合に適用さ
れるフィルムキャリヤテープの正面図。第7図は選別工
程の終了した半導体素子のリード切断処理後の状態を示
す正面図。第8図は従来の選別工程を示す説明図。第9
図はリードをボンディングされた半導体素子をプリント
基板へ実装した半導体素子の一例を示す断面図。 符号の説明
背面図。第3図乃至第5図は本発明の選別工程の順序を
示す説明図。第6図はパッドの間隔が広い場合に適用さ
れるフィルムキャリヤテープの正面図。第7図は選別工
程の終了した半導体素子のリード切断処理後の状態を示
す正面図。第8図は従来の選別工程を示す説明図。第9
図はリードをボンディングされた半導体素子をプリント
基板へ実装した半導体素子の一例を示す断面図。 符号の説明
Claims (2)
- (1)複数の電極端子にそれぞれ所定の長さのリードを
ボンディングされた半導体素子の電気選別、バイアス試
験等の選別を行う選別用基板であって、 所定の位置に前記半導体素子が位置するデ バイスホールを有した基板部材と、 該基板部材上に形成され、前記デバイスホ ールの周縁に位置して前記リードがボンディングされる
リードボンディング用パッドと、前記基板部材上に形成
され、該リードボン ディング用パッドと接続されて電気選別、バイアス試験
等の接触子と接触する選別用パッドとを有することを特
徴とする半導体素子の選別用基板。 - (2)複数の電極端子にそれぞれ所定の長さのリードを
ボンディングされた半導体素子の電気選別、バイアス試
験等の選別を行う半導体素子の選別方法において、 前記半導体素子をフィルムキャリヤテープ のデバイスホールに位置させて前記電極端子を前記フィ
ルムキャリヤテープ上に形成されたリードにそれぞれボ
ンディングする段階と、前記電極端子にボンディングさ
れた前記リ ードを所定の長さに切断して前記半導体素子を前記フィ
ルムキャリヤテープから切り離す段階と、 前記半導体素子を選別用基板のデバイスホ ールに位置させて前記所定の長さの前記リードを前記デ
バイスホールの周縁に形成され、かつ選別用パッドに接
続されたリードボンディング用パッドにボンディングす
る段階と、前記選別用基板の前記選別用パッドに接触 子を接触させて電気選別、バイアス試験等の選別を行う
段階を有することを特徴とする半導体素子の選別方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60288786A JPH0740580B2 (ja) | 1985-12-20 | 1985-12-20 | 半導体素子の選別用基板および半導体素子の選別方法 |
| EP86111650A EP0213575B1 (en) | 1985-08-23 | 1986-08-22 | Method of manufacturing a semiconductor device employing a film carrier tape |
| DE8686111650T DE3686990T2 (de) | 1985-08-23 | 1986-08-22 | Verfahren zum herstellen einer halbleiteranordnung wobei ein filmtraegerband angewendet wird. |
| US06/899,896 US4763409A (en) | 1985-08-23 | 1986-08-25 | Method of manufacturing semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60288786A JPH0740580B2 (ja) | 1985-12-20 | 1985-12-20 | 半導体素子の選別用基板および半導体素子の選別方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62147741A true JPS62147741A (ja) | 1987-07-01 |
| JPH0740580B2 JPH0740580B2 (ja) | 1995-05-01 |
Family
ID=17734702
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60288786A Expired - Lifetime JPH0740580B2 (ja) | 1985-08-23 | 1985-12-20 | 半導体素子の選別用基板および半導体素子の選別方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0740580B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01218035A (ja) * | 1988-02-26 | 1989-08-31 | Tokyo Electron Ltd | 半導体装置の検査方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS563669A (en) * | 1979-06-20 | 1981-01-14 | Fuji Denshi Kogyo Kk | Ion-treating method |
-
1985
- 1985-12-20 JP JP60288786A patent/JPH0740580B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS563669A (en) * | 1979-06-20 | 1981-01-14 | Fuji Denshi Kogyo Kk | Ion-treating method |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01218035A (ja) * | 1988-02-26 | 1989-08-31 | Tokyo Electron Ltd | 半導体装置の検査方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0740580B2 (ja) | 1995-05-01 |
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