JPS62147799A - 電磁波シ−ルド性を有する光透過板 - Google Patents

電磁波シ−ルド性を有する光透過板

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JPS62147799A
JPS62147799A JP28782785A JP28782785A JPS62147799A JP S62147799 A JPS62147799 A JP S62147799A JP 28782785 A JP28782785 A JP 28782785A JP 28782785 A JP28782785 A JP 28782785A JP S62147799 A JPS62147799 A JP S62147799A
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武 斎藤
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は電磁波シールド性及び静電気除去性を有するプ
ラスチック光透過板に関する。さらにKTしくはディス
プレイやテレビのブラウンYj”)どから発生する有害
な電磁波を有効に遮断するとともに静電気を有効に除去
することが可能な光透過板に関する。
〔従来技術〕
オフィスオートメーション搬器、例えばワードプロセッ
サーや各種のコンピュータなどのディスプレイや、ゲー
ム器、テレビのブラウン管などからはマイクロ波など有
害な電磁波が多量に発生しており、健康障害が指摘され
たり、また他の機器への障害が問題となっている。たと
えばコンピュータに誤信号が入ったり、テレビとステレ
オを同時につけるとステレオから雑音が聞えることはし
ばしば見受【プられる。
そこで従来よりかかる障害を取り除くため種々の改良が
なされてきた。その有効な手段は金属などの導電物で覆
うことである。たとえば細い繊維の表面にカーボンを粘
着させてメツシュ構造にしたものを貼りつけるとか、ポ
リエステル繊維の表面にニッケル薄膜を設けた繊維を用
いたメツシュで覆うもの(アスターインターナショナル
株式会社製商品名ソフトウェーブ)、蝶理株式会社の商
品名パアイセーパー″のように、合わせガラスの内部に
金属細線を導入さぜたものがある。
しかしこれらの方法ではいずれもディスプレーから発生
する光をメツシュ溝造物ににつで遮断するので、ワード
プロセッサーなどの使用者にとっては見にくいという欠
点を有していた。また他の公知例としては、ガラス基材
に対して導電物質を高温蒸着した技術が提案されている
が(特公昭49−18447号公報)、この方法ではプ
ラスチック基材は軟化あるいは溶融するものが多く、ま
た表面に傷がつき易いという欠点を改良できず利用でき
ないものであった。
従ってプラスチックの透明板に対しては、その有効な技
術がなく、現在のところ全く改善がなされていないのが
現状である。
[発明が解決しようとする問題点] 本発明は上記従来技術の欠点を改善する技術を提供する
。すなわちプラスチックの透明板であっても、表層に導
電層をコーディングすることにより電磁波をシールドで
き、かつアース線によってマイクロ波や静電気を有効に
除去できる技術を提供する。すなわち有害電波の発生を
防止するのみならず静電気を防止し、埃やごみなどの付
着防止を図る技術を提供する。
ざらには、表面硬度の低いプラスチック材料であっても
、表面にシリカ層を設けて硬度を高め傷がつきにくい特
性を付与する技術を提供する。加えて、導電層のさらに
表層に低屈折率の層を設けることにより、反射防止機能
を付与した技術を提供する。
(問題点を解決するための手段) 上記目的を達成するため本発明は下記の溝成を有する。
「プラスデック透明基材の上に耐擦損性を有するハード
コート層を設け、その表層に導電層を設け、さらにその
表層に前記導電層の屈折率よりも低い屈折率の層を設け
た光透過板であって、該光透過板の少なくとも一部は前
記導電層が露出しており、かつ該導電層からアース線を
引き出した溝道としたことを特徴とする電磁波シールド
性を有する光透過板。」 本発明においては、プラスチック透明基材の上に耐擦損
性を有するハードコート凶を設【プることがまず必要で
おる。ここでプラスチックとは、公知のいかなるもので
あってもよい。また透明旦材とは、光が通過し得るもの
であればいかなるものであってもよい。リードプ[1セ
ツサーなどのディスプレーの前面に使用するものにおっ
ては、原谷、または染色により可視光線透過率を25〜
70%としたものが好ましい。目の疲労を減少するため
である。また酌擦禍性を有するハードロー1〜層とは、
ポリオルガノシロキサン、シリカ、アルミナなどの硬度
の高いコーティング層、またはアクリル成分を含む層を
いう。プラスデック製品の表面は一般に傷がつぎ易いの
で、これを改良するため、及び表層にコートする電磁波
シールド層の)7ンダー]−卜して密着性を高めるため
である。そして特に好ましくは、ハードロー1層はメチ
ルトリメトキシシラン、およびビニル1〜リエ1〜キシ
シラン、また1、1これらの加水分解物をコーティング
した俊に加熱縮合させたポリオルノjノシロキザンでお
る。
そしてハードロー1層の好ましい膜厚は、1〜10μm
程度でおる。
またアクリル系バートコ−1一層とは、メタクリル酸な
どのアクリル化合物と、ペンタエリスリトール、グリセ
リンなどの多官能グリコールまたはそのエステル化合物
を架(nさせたものなどをいう。
次に本発明においては、前記のハードコート層の表層に
導電層を設ける。電磁波を有効に遮断するためである。
導電層としては、可視光線を透過し得るものであればい
かなるものでおってもよいが、好ましくは、Ir120
3 (酸化インジウム)と5n02 (Ji化スズ)と
の混合物(以下ITOという。)である。導電性能が高
く、電磁波を有効に遮断でき、ざらに可視光線を透過で
きるからである。ITO層の膜厚はかかる効果を奏する
程度であればいかなる厚さでもよいが、好ましくは’1
00〜3000人でおる。3000Å以上ではひび割れ
の欠点を生じ易くなる。かかるITO層はスパッタリン
グ法でコーディングすることができる。(l!!の方法
としては、150’C以下で酸素雰囲気中、高周波放電
によるプラズマを用いて蒸着し、同時にイオン銃を用い
てアシストする技術も採用することができる。
次に本発明においては、前記導電層の表層に、導電層の
屈折率よりも低い屈折率の層を設(プることが必要であ
る。導電層は一般に金属の層からなるので屈折率が高く
、例えば前記ITO層の屈折率は約2.0でおる。しか
しこれでは反則が高過ぎ、使用者の目が疲れる。従って
高い屈折率の導電層の表層に低い屈折率の層を設けるこ
とにJ:す、反射防止機能を与えることが必要となるの
である。
かかる低屈折率の層としては公知のいかなる層でおって
もよいが、好ましくは〕1((機のシリカを含む層であ
る。かかる無機シリカ層は、シリカをスパッタリング、
あるいは真空蒸着することににり得ることができる。膜
厚は可視光線を反射防止できる程度の厚さであればいか
なる厚さでもよい。
本発明においては、上記の積層をプラスチック基材の1
面または2面に設ける。1面に設けた場合は、反対面の
傷付防止をするため、少くとも上記で説明した第1層の
ハードコートを設【プることが好ましく、ざらにはハー
ドコート層の表面に反射防止層を設けることである。
次に本発明においては、光透過板の少なくとも一部は前
記導電層が露出しており、かつ該導電層からアース線を
引き出したi造とすることが必要である。光透過板の帯
電を防止し、静電気を除去するためである。導電層の露
出は、反射防止層を設りる際にその部分だけガードして
おき、反射防止層がコートされないようにすることによ
り効率的に設りることができる。
導電層の露出部は、ディスプレーからの画像や文字の表
示に邪魔にならないように、光透過板の隅部であってか
つ外枠カバーによって覆われた部分に設けられているこ
とが好ましい。またアース線の引き出し部は、美的観点
より、光透過板の面と略平行に設けることが好ましい。
以下図面により説明する。
第1図は本発明の好ましい電磁波シールド性及び静電気
除去性を有する光透過板の1実施態様の断面を示す。プ
ラスチック透明基材1の上に耐擦禍性を有するハード]
−1・層2を設け、その表層に導電層3を設け、さらに
その表層に前記導電層の屈折率よりも低い屈折率の層1
を設けたものである。そして反対面にも耐擦禍性を有す
るハートコート層2−と反射防止層4−を設【プたもの
である。5は導電層が露出している部分で必る。導電層
3を有する面が画像発生面すなわち陰極線管(CRT)
などの面に向りJ:うに設置する。
第2図は第1図の導電層3を有する面から見た平面図で
ある。導電層が露出している部分5は外枠に隠れる部分
の全面に設けてもにいし、一部であってもよい。そして
アース線6を引き出す。アース線6は好ましくは、隅の
部分から引き出づ一6第3〜7図は本発明の好ましいア
ース線の取り出し例を示す。第3図にa3いては、光透
過板自体に孔9を設【プ、余り5 aを用いてアース線
15を接続する。この接続においては金属バッキングを
用いることが好ましい。固定具としては止めねじ10a
とナツト10b、またはカシメ用ハトメなどを用いて固
定することが好ましい。第4図はカシメ用ハトメを用い
た固定方法である。そして美観のためこの接続部全体を
プラスチック製カバー11で覆う。第5図は光透過板と
略平行に金具6aをカバー11内に取り付けた例である
次に第6図は孔9にナツトヘリサート12を用い、金具
6aを介してアース線15を取り付りた例でおる。この
場合、カバー11に孔11aを予め聞けてお【ブば、ね
じ13の取り外しが容易となり光透過板の取り外しや掃
除のときに便利である。
第7図はシールドの取り出しをアジャスト14a114
bを用いて実施した例である。
(実施例〕 以下実施例により説明する。
実施例1 基材として市販のポリメタクリレート板(三菱レイヨン
株式会社製、商標“アクアライト”LN−08/I、グ
レー原着、厚さ約2mm)を使用した。バートコ−1〜
用塗利としては、特開昭59−114501号公報の実
施例1の記載のとおり、ビニルトリエトキシシラン氷酢
酸で加水分解したものと、メヂルトリエ1〜キシシラン
を氷酢酸で加水分解したものを混合して用いた。この混
合溶解物に硬化剤でおる酢酸ナトリウムを加え、ざらに
シリコーン系表面平滑剤を加えて塗料とした。
この塗お1を基Hの表面に2ミクロンの厚さに塗布し、
加熱キュアした。
次いでこのハードコート層の上に、導電層として、スパ
ッタリング法でIn203(酸化インジウム)と5n0
2 (酸化スズ)との混合物をコーティングし、700
人の膜厚とした。スパッタリング法の条件は、特開昭6
0−32053号公報の実施例7〜9に記載のされてい
るとあり、インジウム−錫合金(錫:10ffi最%〉
をターゲットとして、マグネトロンスパッタ装置を用い
て、アルゴンガスと酸素の混合ガス(酸素30体積%)
を導入しながら、I X 10’Torrの圧力で行な
った。
次いで反射防止膜として、真空蒸@装置(真空搬機工業
製BMC−800T型)を用いてEB法により、二酸化
ケイ素膜を形成した。膜厚は940人であった。真空蒸
着をする時、第2図の番号5に示す位置、すなわち周囲
を約5mmの幅でマスクを設【プ、導電層を露出させた
また基材の反対面には、上記のハードコート層を設け、
次に酸化アルミニウムと二酸化ケイ素膜を順次形成して
、表面の硬度化と反射防止機能を付与した。
得られたプラスチックコーティングされた光透過板は、
第3図に示すにうにアース線を取り付けた。この光透過
板は周波数10GH2における電磁波の透過量は約10
分の1に減衰することができた。さらにこれをワードプ
ロセッサーの光学フィルターとして使用したところ、反
射防止機能に優れ、使用者の目が疲れない点において著
るしい効果がおる上、静電気の除去ができ、ゴミや俟の
つきにくいものとなった。
また表面の硬度が高く、傷のつきにくいものであった。
(発明の効果) 本発明は上記のとおりの技術であるので、プラスチック
の透明板であっても、表層に導電層をコーティングする
ことにより静電気の除去ができ、埃やごみなどの何首防
止を図ることができた。そのうえ電磁波をシールドがで
き、さらには、表面硬度の低いプラスチック月利であっ
ても、表面にハードコート層を設(プてvf!度を高め
傷がつぎにくい特性を付与することができる。加えて、
導電層のさらに表層に低屈折率の層を設(〕ることにに
す、耐傷付防止性とともに反射防止は能をもイリリする
ことができ、全体どして顕苔な効果を秦づる発明である
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の好ましい電磁波シールド性を有する光
透過板の1実施態様の断面を示づ。第2図は第1図の導
電層3を有する面から児た平面図である。第3〜7図は
本発明の好ましいアース線の取り出し例を示す。 1;プラスチック透明基月、 2.2−;耐擦禍性を有するハードコート層、3;導電
層、 4.4−;導電層の屈折率J:りも低い屈折率の層。 11:カバー 15;アース線 特許出願人  東 し 株 式 会 社審10    
    番20 寥3図    14Q    家1 集60 ルア0

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)プラスチック透明基材の上に耐擦禍性を有するハ
    ードコート層を設け、その表層に導電層を設け、さらに
    その表層に前記導電層の屈折率よりも低い屈折率の層を
    設けた光透過板であつて、該光透過板の少なくとも一部
    は前記導電層が露出しており、かつ該導電層からアース
    線を引き出した構造としたことを特徴とする電磁波シー
    ルド性を有する光透過板。
  2. (2)導電層の露出部が光透過板の隅部であり、かつ外
    枠カバーによって覆われた部分に設けられていることを
    特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の電磁波シー
    ルド性を有する光透過板。
  3. (3)アース線の引き出し部が、光透過板の面と略平行
    に設けられていることを特徴とする特許請求の範囲第(
    1)項記載の電磁波シールド性を有する光透過板。
  4. (4)導電層が酸化インジウムと酸化スズを含む層であ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の電
    磁波シールド性を有する光透過板。
  5. (5)ハードコート層が有機ポリシロキサンを含む層で
    あることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の
    電磁波シールド性を有する光透過板。
  6. (6)透明基材が着色されたものであることを特徴とす
    る特許請求の範囲第(1)項記載の電磁波シールド性を
    有する光透過板。
  7. (7)導電層の膜厚が100〜3000Åの範囲である
    ことを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の電磁
    波シールド性を有する光透過板。
  8. (8)最外層の低い屈折率の層が無機シリカ層であるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の電磁波
    シールド性を有する光透過板。
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