JPS62149342A - 高分散型ロジウム含有触媒の製造法 - Google Patents
高分散型ロジウム含有触媒の製造法Info
- Publication number
- JPS62149342A JPS62149342A JP60289273A JP28927385A JPS62149342A JP S62149342 A JPS62149342 A JP S62149342A JP 60289273 A JP60289273 A JP 60289273A JP 28927385 A JP28927385 A JP 28927385A JP S62149342 A JPS62149342 A JP S62149342A
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- Japan
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- rhodium
- carrier
- catalyst
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の技術的分野）
本発明は７リカにロジウムを主に含有する成分を担持し
た触媒に関するものである。
た触媒に関するものである。
現今、化学工業において貴金属担持不均一融媒の有用に
着目し、■族金属を中心にＭｏ 、 Ｗなど酸化、還元
反応が幅広く研究開発されている。ソリ力担体は他無機
多孔質担木特にアルミナ、チタニアなどと異なり、担体
としてはイナートで、５Ｍ５Ｉ効果などｇ側されない異
質な担体として知られており、貴金属の性能を充分引き
出す担体として、広く用いられている。オレフィンの水
素化、カルボニルの水素化、芳香族の核水添、脱水系反
応、高圧条件下では含酸素化合物合成の１ステツプとし
てカルボニル化又、排ガス分野においてもＮＯ。
着目し、■族金属を中心にＭｏ 、 Ｗなど酸化、還元
反応が幅広く研究開発されている。ソリ力担体は他無機
多孔質担木特にアルミナ、チタニアなどと異なり、担体
としてはイナートで、５Ｍ５Ｉ効果などｇ側されない異
質な担体として知られており、貴金属の性能を充分引き
出す担体として、広く用いられている。オレフィンの水
素化、カルボニルの水素化、芳香族の核水添、脱水系反
応、高圧条件下では含酸素化合物合成の１ステツプとし
てカルボニル化又、排ガス分野においてもＮＯ。
ＳＯｘ、炭化水素の酸化・還元にも用いられ、触媒とし
ての重要な位置を占めている。
ての重要な位置を占めている。
使用するもので、各種水素化反応には極めて有効な触媒
になることが期待される。
になることが期待される。
（先行する技術の説明）
担持金属触媒のうち、特定の担体を用いて、生−などを
添加して、炭化水素を水素比改質する反応がある。（最
近の特許としては、特開昭６０−１１２８８８、特開昭
６０−１０５６３６．特開昭６０−５４７３５ 、特開
昭６０−２７６４６など）シリカ担体を用いた触媒とし
てはＰｄを主成分とした酸化触媒（特開昭６Ｏ−８７８
５７）がある。更に、Ｒｈを主成分としたシリカ触媒と
しては、燃Ｆ）ガス製造用触媒（特開昭５９−１１２８
４０）、低温燃料用触媒（特開昭５８−１４９４８）が
開示されている。また合成ガスより含酸素化合物を合成
する気相反応ではシリカ担体が多く用いられている。
添加して、炭化水素を水素比改質する反応がある。（最
近の特許としては、特開昭６０−１１２８８８、特開昭
６０−１０５６３６．特開昭６０−５４７３５ 、特開
昭６０−２７６４６など）シリカ担体を用いた触媒とし
てはＰｄを主成分とした酸化触媒（特開昭６Ｏ−８７８
５７）がある。更に、Ｒｈを主成分としたシリカ触媒と
しては、燃Ｆ）ガス製造用触媒（特開昭５９−１１２８
４０）、低温燃料用触媒（特開昭５８−１４９４８）が
開示されている。また合成ガスより含酸素化合物を合成
する気相反応ではシリカ担体が多く用いられている。
これらは特定の細孔径にピークを持つような極めて特種
な担体を用いることにより目的を達成しようとするもの
である。
な担体を用いることにより目的を達成しようとするもの
である。
また、特開昭５７−１９４０４４に見られるようにアセ
チルアセトナート塩の酸化状態での熱分解（でよる高分
散化や、特開昭５２−１４２６８９の井水系有機溶媒を
用いた高分散化など、調製法での工夫が見られる。
チルアセトナート塩の酸化状態での熱分解（でよる高分
散化や、特開昭５２−１４２６８９の井水系有機溶媒を
用いた高分散化など、調製法での工夫が見られる。
更に金属アルコキシド法は、高分散化の手法の一つであ
り、有用であるが、工程数が多く、本発明の簡便さとは
、格段の差がある。またイオン交換法も高分散型触媒調
製法として広く用いられるが、原料塩のアンミン錯体の
コンタミ、シリカ担体への吸着が饅めて弱いなど、実質
的に多くの問題がある。
り、有用であるが、工程数が多く、本発明の簡便さとは
、格段の差がある。またイオン交換法も高分散型触媒調
製法として広く用いられるが、原料塩のアンミン錯体の
コンタミ、シリカ担体への吸着が饅めて弱いなど、実質
的に多くの問題がある。
（発明の略解）
ここにおいて、本発明は、ロジウムを主成分とするシリ
カ触媒において、用いるシリカ担体が、（１）Ｎ２ガス
を用いて測定した比表面積が２０ｍ ２７ｆ１以上で８
００ ｍ２／ｊｌ以下の範囲であり、かつ （ｉｉ） Ｈｇ圧入法（接触角１４００、表面張力４
８０ｄ ｙ ｎ ｅ ｓ／ｃｍ ）で測定した細孔容積
が０．１１０ ｃｃｙＪ以上、１．８ ｃｃ／！１７以
下の範囲でありＧ！り３６Ｘ〜７５Ｘの側孔直径の細孔
容積が０、１１０ ｃｃ／ｆ１以上の物性を有する、物
性を備えたシリカ担体を使い、含浸するロジウムが６．
０重量％以下で担持することにより、上記諸物性を有し
体を最も簡便な含浸法と組み合せることにより目的を達
成することが可能となった。
カ触媒において、用いるシリカ担体が、（１）Ｎ２ガス
を用いて測定した比表面積が２０ｍ ２７ｆ１以上で８
００ ｍ２／ｊｌ以下の範囲であり、かつ （ｉｉ） Ｈｇ圧入法（接触角１４００、表面張力４
８０ｄ ｙ ｎ ｅ ｓ／ｃｍ ）で測定した細孔容積
が０．１１０ ｃｃｙＪ以上、１．８ ｃｃ／！１７以
下の範囲でありＧ！り３６Ｘ〜７５Ｘの側孔直径の細孔
容積が０、１１０ ｃｃ／ｆ１以上の物性を有する、物
性を備えたシリカ担体を使い、含浸するロジウムが６．
０重量％以下で担持することにより、上記諸物性を有し
体を最も簡便な含浸法と組み合せることにより目的を達
成することが可能となった。
（発明の説明）
先づ、ロジウムを含有する触媒としては、ロジウム以外
の助触媒を添加した触媒も有効であるが、一般にはＲｈ
を６．０重量％以下を含有し、Ｒｈを金属形、又は３価
以下の原子価ロジウム塩又は錯体として用い得る。
の助触媒を添加した触媒も有効であるが、一般にはＲｈ
を６．０重量％以下を含有し、Ｒｈを金属形、又は３価
以下の原子価ロジウム塩又は錯体として用い得る。
助触媒としては、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｓｃ、Ｉｒ、Ｚｒ＋Ｈｆ
＋Ｍｏ 、 Ｗ 、 Ｕ 、 Ｔｈ等、又アルカリ金属
又はアルカリ土類危、寓としてＮａ 、 Ｋ 、 Ｌｉ
、 Ｃｓ 、 Ｒｂ 、 Ｃａ 、 Ｓｔ ＋１３ａ
等を含んでもよい。１だ稀土類元素としてランタニド、
アクチニド系列の何れの元素をも用い？！する。
＋Ｍｏ 、 Ｗ 、 Ｕ 、 Ｔｈ等、又アルカリ金属
又はアルカリ土類危、寓としてＮａ 、 Ｋ 、 Ｌｉ
、 Ｃｓ 、 Ｒｂ 、 Ｃａ 、 Ｓｔ ＋１３ａ
等を含んでもよい。１だ稀土類元素としてランタニド、
アクチニド系列の何れの元素をも用い？！する。
助触媒として使用される化合物としては、ハロゲン酸塩
・硫酸塩・硝酸塩・炭酸塩等の無機酸塩。
・硫酸塩・硝酸塩・炭酸塩等の無機酸塩。
酸化物、水酸化物、酢酸塩、ギ酢酸、蓚酸塩等の有機酸
塩を問わず使用することができる。しかし、これらの触
媒成分の担体上への担持を容易ならしめるため、水又は
他の適当な触媒に可溶性の化合（り Ｎ２ガスを用い
て測定した比表面積が、２０ｍ ２／！１以上８００
ｍ２７ｆｌ以下の範囲であり、かつ（！り Ｈｇ圧入
法（接触角１４０’、表面張力４８０ｄｙｎｅ ｓ／ｌ
ｙｎ ）に測定した細孔容積が、０．１１０ ｃｃ／、
’）以上、１．８ ｃｃ／’ｌ以下の範囲であり、かつ
（ｉｉｉ）３６Ｘ〜７５Ｘの１細孔直径の細孔容積が０
、１１０ ｃｃ／ｇ以上の物性を有するシリカ担体を使
〆機…体ＭＪソを加え、含浸法の常法により担持させた
後、還元又は熱処理することにより担持固定された目的
物を得ることができる。特に低温乾燥することにより、
更に充分含浸溶媒を飛ばすことによってよりよいロジウ
ム粒径を形成することが可能となる。
塩を問わず使用することができる。しかし、これらの触
媒成分の担体上への担持を容易ならしめるため、水又は
他の適当な触媒に可溶性の化合（り Ｎ２ガスを用い
て測定した比表面積が、２０ｍ ２／！１以上８００
ｍ２７ｆｌ以下の範囲であり、かつ（！り Ｈｇ圧入
法（接触角１４０’、表面張力４８０ｄｙｎｅ ｓ／ｌ
ｙｎ ）に測定した細孔容積が、０．１１０ ｃｃ／、
’）以上、１．８ ｃｃ／’ｌ以下の範囲であり、かつ
（ｉｉｉ）３６Ｘ〜７５Ｘの１細孔直径の細孔容積が０
、１１０ ｃｃ／ｇ以上の物性を有するシリカ担体を使
〆機…体ＭＪソを加え、含浸法の常法により担持させた
後、還元又は熱処理することにより担持固定された目的
物を得ることができる。特に低温乾燥することにより、
更に充分含浸溶媒を飛ばすことによってよりよいロジウ
ム粒径を形成することが可能となる。
担体上への触媒成分の担持はすべての触媒成分を同時に
行なってもよいし、又、各成分ごとに逐次的に担体に担
持する方法、あるいは各成分を必要に応じて還元、熱処
理等の処理を行いながら、を実質的金属状態に活性化し
、ついで反応に供せられる。還元処理を行うには水素ガ
ス下又は水素及び−酸化炭素の混合ガス下、場合によっ
ては窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガスで一部希
釈された水素ガスまたは上記混合ガス下で行うことがで
きる。
行なってもよいし、又、各成分ごとに逐次的に担体に担
持する方法、あるいは各成分を必要に応じて還元、熱処
理等の処理を行いながら、を実質的金属状態に活性化し
、ついで反応に供せられる。還元処理を行うには水素ガ
ス下又は水素及び−酸化炭素の混合ガス下、場合によっ
ては窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガスで一部希
釈された水素ガスまたは上記混合ガス下で行うことがで
きる。
還元処理温度としては１００〜６００℃、好ましくは２
５０〜５５０℃の温度において行う。この際、触媒の各
成分の活性状態を最適な状態に保つ目的で、低温より徐
々に、あるいは段階的に昇温しながら還元処理を行って
もよい。
５０〜５５０℃の温度において行う。この際、触媒の各
成分の活性状態を最適な状態に保つ目的で、低温より徐
々に、あるいは段階的に昇温しながら還元処理を行って
もよい。
又、ロジウム化合物の還元はメタノール、ヒドラジン、
ホルマリン等の還元剤で処理することによって行なって
もよい。
ホルマリン等の還元剤で処理することによって行なって
もよい。
以下、本発明について、実施例をもって、更に詳細に説
明するが、これらの例は本発明てついての理解を容易に
するため、あえて条件を統一しそ示すもので本発明はこ
れらの列によって何ら制限されないことは勿論である。
明するが、これらの例は本発明てついての理解を容易に
するため、あえて条件を統一しそ示すもので本発明はこ
れらの列によって何ら制限されないことは勿論である。
実施例１
比表面積１９６ ｍ２／ｊｌ 、平均細孔直径（４ｖ／
ｓ ）上記諸物性を持つシリカ担体ｒＡ−ＩＪの細孔分
布を第１図に、また表１に物性及びＲｈと吸着した一酸
化炭素の比（分散率）を示した。ＸＲＤ（Ｃｕ−Ｋｄ）
にて、Ｒｈ粒子を測定したが検出されなかった。
ｓ ）上記諸物性を持つシリカ担体ｒＡ−ＩＪの細孔分
布を第１図に、また表１に物性及びＲｈと吸着した一酸
化炭素の比（分散率）を示した。ＸＲＤ（Ｃｕ−Ｋｄ）
にて、Ｒｈ粒子を測定したが検出されなかった。
以下触媒調製法を示す。
上記シリカ担体２３．４ ｇ （５０ｍ１）を塩化ロジ
ウム含水塩（ＲｈＣ１，・３Ｈ２０） ２．５５１ 、
塩化イリジウム（ＩｒＣｌ４−Ｈ２Ｏ） ０．４２７
、！７塩化マンガン（ＭｎＣｌ２・４Ｈ２０） ０．０
４０ Ｆ、塩化リチウム（Ｌｉｃｔ） ０．０２６９を
均一に溶解した水溶液１６ｍ１に加え、均一に含浸し、
室温下２時間風乾した。３０℃で、４時間、６０℃で２
時間ロータリーエバポレーターにて減圧乾燥し、４５０
℃で２時間水素還元した。
ウム含水塩（ＲｈＣ１，・３Ｈ２０） ２．５５１ 、
塩化イリジウム（ＩｒＣｌ４−Ｈ２Ｏ） ０．４２７
、！７塩化マンガン（ＭｎＣｌ２・４Ｈ２０） ０．０
４０ Ｆ、塩化リチウム（Ｌｉｃｔ） ０．０２６９を
均一に溶解した水溶液１６ｍ１に加え、均一に含浸し、
室温下２時間風乾した。３０℃で、４時間、６０℃で２
時間ロータリーエバポレーターにて減圧乾燥し、４５０
℃で２時間水素還元した。
実施例２
表１のＡ−２に示しだ様な諸物性を有するシリカ担Ｋｒ
Ａ−２Ｊを用いて、実施例１と同様の調製を行った。用
いた担体は２２．３．９（５０ｍｌ）で、水溶液は１９
ｍ（！とじた。第２図、表１にシリカ担体の物性及び、
Ｒｈの分散率を示しだ。
Ａ−２Ｊを用いて、実施例１と同様の調製を行った。用
いた担体は２２．３．９（５０ｍｌ）で、水溶液は１９
ｍ（！とじた。第２図、表１にシリカ担体の物性及び、
Ｒｈの分散率を示しだ。
原溶液２３．０ ｍｌとした以外実施例１と同様とした
。
。
比較例２
表１、第４図に示したようシリカ（８揮化学Ｅ５６Ｃ１
シリカ）を用いた。担体２５．９ 、！ｉ’（５０ｍｌ
）で、水溶液１７．０ ｍｌとした以外、実施例１と同
様とした。
シリカ）を用いた。担体２５．９ 、！ｉ’（５０ｍｌ
）で、水溶液１７．０ ｍｌとした以外、実施例１と同
様とした。
第１図、第２図は本発明担体（実施例１．２）の１細孔
分布、第３図、第４図は比軟例１．２の担体の、細孔分
布を示す。尚、図面の縦・軸は細孔密偵（積分値ｃｃ／
’ｌ Ａ−Ｕ−） 、横軸は細孔径（Ａ、Ｕ、）を表わ
す。
分布、第３図、第４図は比軟例１．２の担体の、細孔分
布を示す。尚、図面の縦・軸は細孔密偵（積分値ｃｃ／
’ｌ Ａ−Ｕ−） 、横軸は細孔径（Ａ、Ｕ、）を表わ
す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （ｉ）Ｎ＿２ガスを用いて測定した比表面積が、２０ｍ
＾２／ｇ以上８００ｍ＾２／ｇ以下の範囲であり、かつ
（ｉｉ）Ｈｇ圧入法（接触角１４０°、表面張力４８０
ｄｙｎｅｓ／ｃｍ）で測定した細孔容積が０．１１０ｃ
ｃ／ｇ以上１．８ｃｃ／ｇ以下の範囲であり、かつ （ｉｉｉ）３６Å〜７５Åの細孔直径の細孔容積が０．
１１０ｃｃ／ｇ以上の物性を有するシリカ担体上にロジ
ウムを含有する触媒成分をロジウムが６．０重量％以下
となるように含浸担持することを特徴とするロジウム含
有触媒の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60289273A JPS62149342A (ja) | 1985-12-24 | 1985-12-24 | 高分散型ロジウム含有触媒の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60289273A JPS62149342A (ja) | 1985-12-24 | 1985-12-24 | 高分散型ロジウム含有触媒の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62149342A true JPS62149342A (ja) | 1987-07-03 |
| JPH0468978B2 JPH0468978B2 (ja) | 1992-11-04 |
Family
ID=17741027
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60289273A Granted JPS62149342A (ja) | 1985-12-24 | 1985-12-24 | 高分散型ロジウム含有触媒の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62149342A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021065837A (ja) * | 2019-10-23 | 2021-04-30 | 国立大学法人秋田大学 | 排気ガス浄化用触媒 |
-
1985
- 1985-12-24 JP JP60289273A patent/JPS62149342A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021065837A (ja) * | 2019-10-23 | 2021-04-30 | 国立大学法人秋田大学 | 排気ガス浄化用触媒 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0468978B2 (ja) | 1992-11-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |