JPS62149635A - 選択的水素添加によるスチレン類含有物の精製法 - Google Patents
選択的水素添加によるスチレン類含有物の精製法Info
- Publication number
- JPS62149635A JPS62149635A JP29101685A JP29101685A JPS62149635A JP S62149635 A JPS62149635 A JP S62149635A JP 29101685 A JP29101685 A JP 29101685A JP 29101685 A JP29101685 A JP 29101685A JP S62149635 A JPS62149635 A JP S62149635A
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- Japan
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- styrene
- catalyst
- hydrogenation
- containing material
- weight
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- Pending
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はスチレン、粗スチレン又はメチルスチレン等の
スチレン類含有物に含まれるフェニルアセチレンやアル
キルフェニルアセチレン等のフェニルアセチレン類を選
択的水素添加して除去し、同スチレン類（以下、スチレ
ン類を単に「スチレン」という。）含有物を精製する方
法に関する。
スチレン類含有物に含まれるフェニルアセチレンやアル
キルフェニルアセチレン等のフェニルアセチレン類を選
択的水素添加して除去し、同スチレン類（以下、スチレ
ン類を単に「スチレン」という。）含有物を精製する方
法に関する。
エチルベンゼンの脱水素反応によって得られるスチレン
又は粗スチレン等のようなスチレン含有物には、少量の
フェニルアセチレンが含有されていることが多い。かか
るスチレン含有物に含まれているフェニルアセチレンは
、これを選択的水素添加によって除去することができる
。しかし、その水素添加反応において使用される触媒の
選択性が悪いと、側鎖のアセチレン基を水素化させるば
かりでなく、スチレンのビニル基の水素化反応やベンゼ
ン核の水素化反応などをひき起し、目的のスチレンの収
率を低下させる。また、過度の水素添加反応による発熱
にもとづく温度上昇によって炭素結合の分裂反応をひき
起し、重要な成分の損失をきたすばかりでなく、触媒寿
命を短かくする等の支障が生ずる 他方、フェニルアセチレンの選択的水素添加に関する文
献等は従来あまり見当らず、わずかに特公昭４８−１６
４９７号公報に、ニッケル５％以上、及びクロム、マン
ガン、銅の１種以上をニッケルに対して５０％以下含有
せしめた固体多元触媒を特定の有機硫黄化合物で処理し
た触媒を用いて、フェニルアセチレンを選択的に水素添
加する方法が記載されているにすぎず、かつ同公報に記
載された方法における液空間速度はわずか５ｈｒ−’程
度であり、かかる方法を以てしてはフェニルアセチレン
を経済的有利に選択的水素化させることができない。
又は粗スチレン等のようなスチレン含有物には、少量の
フェニルアセチレンが含有されていることが多い。かか
るスチレン含有物に含まれているフェニルアセチレンは
、これを選択的水素添加によって除去することができる
。しかし、その水素添加反応において使用される触媒の
選択性が悪いと、側鎖のアセチレン基を水素化させるば
かりでなく、スチレンのビニル基の水素化反応やベンゼ
ン核の水素化反応などをひき起し、目的のスチレンの収
率を低下させる。また、過度の水素添加反応による発熱
にもとづく温度上昇によって炭素結合の分裂反応をひき
起し、重要な成分の損失をきたすばかりでなく、触媒寿
命を短かくする等の支障が生ずる 他方、フェニルアセチレンの選択的水素添加に関する文
献等は従来あまり見当らず、わずかに特公昭４８−１６
４９７号公報に、ニッケル５％以上、及びクロム、マン
ガン、銅の１種以上をニッケルに対して５０％以下含有
せしめた固体多元触媒を特定の有機硫黄化合物で処理し
た触媒を用いて、フェニルアセチレンを選択的に水素添
加する方法が記載されているにすぎず、かつ同公報に記
載された方法における液空間速度はわずか５ｈｒ−’程
度であり、かかる方法を以てしてはフェニルアセチレン
を経済的有利に選択的水素化させることができない。
本発明者等は、フェニルアチセレンの選択的水素添加に
よりスチレン含有物に含まれるフェニルアセチレンを有
利に除去する精製法を開発する目的で、その選択的水素
添加触媒について種々研究を重ねた結果、特定成分の組
合わせによって得られた特定触媒がその目的に適するこ
とを見出し、すなわちフェニルアセチレンのみを選択的
に水素化でき、しかもその触媒活性が著しく高いことを
見出し、本発明を完成したものである。
よりスチレン含有物に含まれるフェニルアセチレンを有
利に除去する精製法を開発する目的で、その選択的水素
添加触媒について種々研究を重ねた結果、特定成分の組
合わせによって得られた特定触媒がその目的に適するこ
とを見出し、すなわちフェニルアセチレンのみを選択的
に水素化でき、しかもその触媒活性が著しく高いことを
見出し、本発明を完成したものである。
すなわち本発明の方法は、スチレン類含有物に含まれる
フェニルアセチン類を選択的に水素添加して除去・精製
する方法において、その水素添加触媒としてＰｄ、、Ｐ
ｔ、Ｉｒ、、Ｒｈ及びＲｕよりなる群から選ばれた１種
又は２種以上の金属と、Ｃｕ、Ａｇ及びＡｕよりなる群
から選ばれた１種又は２種以上の元素とを含む触媒を用
いることを特徴とする選択的水素添加によるスチレン類
含有物の精製法である。
フェニルアセチン類を選択的に水素添加して除去・精製
する方法において、その水素添加触媒としてＰｄ、、Ｐ
ｔ、Ｉｒ、、Ｒｈ及びＲｕよりなる群から選ばれた１種
又は２種以上の金属と、Ｃｕ、Ａｇ及びＡｕよりなる群
から選ばれた１種又は２種以上の元素とを含む触媒を用
いることを特徴とする選択的水素添加によるスチレン類
含有物の精製法である。
本発明における水素添加触媒は、このように触媒活性成
分としてＰｄ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｒｈ及びＲｕよりなる群か
ら選ばれた１種又は２種以上の金属と、Ｃｕ、Ａｇ及び
Ａｕよりなる群から選ばれた１種又は２種以上の元素と
を含むものであり、これらの触媒成分は、通常、適当な
担体に担持される。これら成分の担持量は、前者の金属
が０．０１〜１．０重量％、好ましくは０．０５〜０．
５重量％、後者の元素が０．００１〜０．１重量％、好
ましくは０．００５〜０．０５重量％である。また、そ
の担体としては、耐熱性の無機酸化物担体、たとえばア
ルミナ、シリカなどのような合成ゲル担体、或いはケイ
ソウ土、多孔性粘土などの天然無機物担体等があげられ
る。
分としてＰｄ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｒｈ及びＲｕよりなる群か
ら選ばれた１種又は２種以上の金属と、Ｃｕ、Ａｇ及び
Ａｕよりなる群から選ばれた１種又は２種以上の元素と
を含むものであり、これらの触媒成分は、通常、適当な
担体に担持される。これら成分の担持量は、前者の金属
が０．０１〜１．０重量％、好ましくは０．０５〜０．
５重量％、後者の元素が０．００１〜０．１重量％、好
ましくは０．００５〜０．０５重量％である。また、そ
の担体としては、耐熱性の無機酸化物担体、たとえばア
ルミナ、シリカなどのような合成ゲル担体、或いはケイ
ソウ土、多孔性粘土などの天然無機物担体等があげられ
る。
本発明における水素添加処理をするスチレン含有物は、
フェニルアチセレンを含有するスチレン又は粗スチレン
等である。
フェニルアチセレンを含有するスチレン又は粗スチレン
等である。
本発明の水素添加反応条件については、反応温度は２０
０°Ｃ以下、好ましくは１００℃〜室温である。反応温
度が高くなりすぎるとスチレンの水素化反応を生起せし
めるし、また低くなりすぎると目的の反応速度がおそく
なるので、いずれも好ましくない。
０°Ｃ以下、好ましくは１００℃〜室温である。反応温
度が高くなりすぎるとスチレンの水素化反応を生起せし
めるし、また低くなりすぎると目的の反応速度がおそく
なるので、いずれも好ましくない。
反応圧力は常圧〜加圧下、好ましくは常圧近辺である。
圧力が高くなりすぎると目的のフェニルアチセレン水添
反応の選択性が悪くなる。
反応の選択性が悪くなる。
液空間速度（ＬＨ３Ｖ）は１〜５００ｈｒ−’、好まし
くは１０〜３００ｈｒ”である。液空間速度が高すぎる
とフェニルアチセレンの転化率が低下するし、同速度が
低すぎるとスチレンの水素添加反応を起し、スチレン収
量が低下する。
くは１０〜３００ｈｒ”である。液空間速度が高すぎる
とフェニルアチセレンの転化率が低下するし、同速度が
低すぎるとスチレンの水素添加反応を起し、スチレン収
量が低下する。
水素の供給量はフェニルアチセレンを水素化してスチレ
ンを生成せしめるに必要な量で足りるが、通常、その必
要量の１倍量〜１００倍量が用いられる。水素量があま
り多すぎるとスチレンの水素化によるスチレンの収量の
減少をまねくので好ましくない。
ンを生成せしめるに必要な量で足りるが、通常、その必
要量の１倍量〜１００倍量が用いられる。水素量があま
り多すぎるとスチレンの水素化によるスチレンの収量の
減少をまねくので好ましくない。
本発明の精製法は下記のとおりの優れた効果を奏するこ
とができる。
とができる。
（ｉ）フェニルアチセレンの水素添加反応の選択性が高
く、スチレンの水素添加反応及びベンゼン核の水素添加
反応等の副反応を実質上越さないので、高価なスチレン
等のロスが少ない。
く、スチレンの水素添加反応及びベンゼン核の水素添加
反応等の副反応を実質上越さないので、高価なスチレン
等のロスが少ない。
（ｉｉ）炭素結合の分裂反応、ガム質生成反応、炭素質
生成反応等を実質上越さないので、貴重な資源のロスが
少なく、かつ触媒寿命が著しく長い。
生成反応等を実質上越さないので、貴重な資源のロスが
少なく、かつ触媒寿命が著しく長い。
（ｉｉｉ ）触媒活性が高く、したがって低温、低圧で
も高い通油量を確保でき、設備費及び運転費が少ない。
も高い通油量を確保でき、設備費及び運転費が少ない。
以下、実施例及び比較例をあげて本発明を更に詳述する
。
。
実施例１
３１φ×３鰭に成形したγ−アルミナに、濃度０．２重
量％の塩化パラジウム水溶液を含浸させ、１１０℃で１
昼夜乾燥させた。ついで、水素気流下で４００°Ｃで１
６時時間光した。
量％の塩化パラジウム水溶液を含浸させ、１１０℃で１
昼夜乾燥させた。ついで、水素気流下で４００°Ｃで１
６時時間光した。
ついで、これに濃度０．０２重量％の硝酸銅水溶液を含
浸させ、１１０°Ｃで１昼夜乾燥させたのち、水素気流
下で４００℃で１６時時間光させた。得られた触媒の組
成はＰｄ（０，１重量％）−３ｂ（０，０１重量％）Ｉ
ｒ−八！２０３であった。
浸させ、１１０°Ｃで１昼夜乾燥させたのち、水素気流
下で４００℃で１６時時間光させた。得られた触媒の組
成はＰｄ（０，１重量％）−３ｂ（０，０１重量％）Ｉ
ｒ−八！２０３であった。
容量２００ｍ１のＳＵＳ製オートクレーブに、スチレン
６０重量％、エチルベンゼン４０重量％及びフェニルア
チセレン９５重量ｐｐｍを含有する粗スチレン留分１’
００ｍＡを仕込み、これに上記のようにして調製した触
媒１ｇを加え、反応温度を室温（２０℃）に保ち、水素
ガスの圧入により圧力を２ ｋｇ ／ ｃｒＭ Ｇに保
って、２時間反応させた。
６０重量％、エチルベンゼン４０重量％及びフェニルア
チセレン９５重量ｐｐｍを含有する粗スチレン留分１’
００ｍＡを仕込み、これに上記のようにして調製した触
媒１ｇを加え、反応温度を室温（２０℃）に保ち、水素
ガスの圧入により圧力を２ ｋｇ ／ ｃｒＭ Ｇに保
って、２時間反応させた。
その結果は第１図に示すとおりであり、反応２時間後に
は含有フェニルアチセレンの大部分が水素添加により除
去されたが、スチレンは殆んど水素添加されなかった。
は含有フェニルアチセレンの大部分が水素添加により除
去されたが、スチレンは殆んど水素添加されなかった。
実施例２
硝酸銅水溶液の代りに、濃度０．０２重量％の硝酸銅水
溶液を用い、そのほかは実施例１の方法に準じて、触媒
組成がＰｄ（０，１重量％）−’（０，０１重量％）／
Ｔ−Ａｌ２Ｏ３の触媒を調製した。
溶液を用い、そのほかは実施例１の方法に準じて、触媒
組成がＰｄ（０，１重量％）−’（０，０１重量％）／
Ｔ−Ａｌ２Ｏ３の触媒を調製した。
この触媒１ｇを用い、そのほかは実施例１に記載した反
応におけると同様の条件を用いて同一の粗スチレン留分
の水素添加処理をした。その結果はフェニルアチセレン
の９６％が水素添加されたが、スチレンは殆んど水素添
加されなかった。
応におけると同様の条件を用いて同一の粗スチレン留分
の水素添加処理をした。その結果はフェニルアチセレン
の９６％が水素添加されたが、スチレンは殆んど水素添
加されなかった。
実施例３〜６
実施例１における塩化パラジウムの代りに、塩化白金酸
（実施例３）、塩化イリジウム（実施例４）、塩化ロジ
ウム（実施例５）、又は塩化ルテニウム（実施例６）を
それぞれ使用し、そのほがは実施例１に記載の方法に準
じて、ｒ−Ａｌ２Ｏ２にｐｔ、Ｉｒ、Ｒｈ、又はＲｕを
それぞれＯ，１重量％、及びＣｕをいずれも０．０１重
量％担持した各触媒を調製した。
（実施例３）、塩化イリジウム（実施例４）、塩化ロジ
ウム（実施例５）、又は塩化ルテニウム（実施例６）を
それぞれ使用し、そのほがは実施例１に記載の方法に準
じて、ｒ−Ａｌ２Ｏ２にｐｔ、Ｉｒ、Ｒｈ、又はＲｕを
それぞれＯ，１重量％、及びＣｕをいずれも０．０１重
量％担持した各触媒を調製した。
得られた各触媒１ｇずつをそれぞれ使用し、そのほかは
実施例１におけると同様の条件を用いて同一の粗スチレ
ン留分の水素添加処理を２時間行なわせた。その結果は
第１表に示すとおりであった。
実施例１におけると同様の条件を用いて同一の粗スチレ
ン留分の水素添加処理を２時間行なわせた。その結果は
第１表に示すとおりであった。
比較例
ｒ−Ａｌ２Ｏ２にＰｄを０．３重量％担持した市販触媒
１ｇを用い、そのほかは実施例１におけると同様の条件
を使用して同一の粗スチレン留分を２時間水素添加処理
した。
１ｇを用い、そのほかは実施例１におけると同様の条件
を使用して同一の粗スチレン留分を２時間水素添加処理
した。
その結果は第１表に示すとおりであった。
【図面の簡単な説明】
第１図は実施例１の水素添加処理における被処理油中の
フェニルアチセレン濃度及びスチレン濃度の経時変化を
示したものである。
フェニルアチセレン濃度及びスチレン濃度の経時変化を
示したものである。
Claims (1)
- １、スチレン類含有物に含まれるフェニルアセチレン類
を選択的に水素添加して除去・精製する方法において、
その水素添加触媒としてＰｄ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｒｈ及びＲ
ｕよりなる群から選ばれた１種または２種以上の金属と
Ｃｕ、Ａｇ及びＡｕよりなる群から選ばれた１種又は２
種以上の元素とを含む触媒を用いることを特徴とする選
択的水素添加によるスチレン類含有物の精製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29101685A JPS62149635A (ja) | 1985-12-24 | 1985-12-24 | 選択的水素添加によるスチレン類含有物の精製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29101685A JPS62149635A (ja) | 1985-12-24 | 1985-12-24 | 選択的水素添加によるスチレン類含有物の精製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62149635A true JPS62149635A (ja) | 1987-07-03 |
Family
ID=17763363
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29101685A Pending JPS62149635A (ja) | 1985-12-24 | 1985-12-24 | 選択的水素添加によるスチレン類含有物の精製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62149635A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111689826A (zh) * | 2019-03-13 | 2020-09-22 | 中国科学技术大学 | 一种催化选择性加氢的方法 |
| WO2023149559A1 (ja) * | 2022-02-04 | 2023-08-10 | エヌ・イーケムキャット株式会社 | 水素化反応用触媒およびその製造方法、ならびに水素化有機化合物の製造方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58210854A (ja) * | 1982-06-02 | 1983-12-08 | Showa Denko Kk | 選択的水素添加用触媒の再生方法 |
| JPS5978126A (ja) * | 1982-10-27 | 1984-05-04 | Kuraray Co Ltd | 三重結合の部分水素添加方法 |
| JPS604139A (ja) * | 1983-06-22 | 1985-01-10 | Showa Denko Kk | 選択的水素添加方法 |
-
1985
- 1985-12-24 JP JP29101685A patent/JPS62149635A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58210854A (ja) * | 1982-06-02 | 1983-12-08 | Showa Denko Kk | 選択的水素添加用触媒の再生方法 |
| JPS5978126A (ja) * | 1982-10-27 | 1984-05-04 | Kuraray Co Ltd | 三重結合の部分水素添加方法 |
| JPS604139A (ja) * | 1983-06-22 | 1985-01-10 | Showa Denko Kk | 選択的水素添加方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111689826A (zh) * | 2019-03-13 | 2020-09-22 | 中国科学技术大学 | 一种催化选择性加氢的方法 |
| CN111689826B (zh) * | 2019-03-13 | 2021-07-06 | 中国科学技术大学 | 一种催化选择性加氢的方法 |
| WO2023149559A1 (ja) * | 2022-02-04 | 2023-08-10 | エヌ・イーケムキャット株式会社 | 水素化反応用触媒およびその製造方法、ならびに水素化有機化合物の製造方法 |
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