JPS6215638B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、非水平方向に維持されながら移動
されるストリツプメタルの一側又は両側に金属層
を連続的に電着する方法に関する。電解液は少な
くとも１つのプレート状のアノード及びカソード
を構成するストリツプメタル間を流れる。

この様な方法は亜鉛、錫、黄銅等からなる金属
をストリツプメタルの一側に被着するのに使用す
ることができる。又、この方法は、１回の通過で
ストリツプメタルの両側に被着を適用でき、そし
てこの様な被着をその厚さが異なるように発展さ
せることもできる。

背景技術とその問題点 この様な目的のために使用されている周知の方
法では通常ストリツプメタルが電解液に浸され、
これが特殊な予防手段によつて保護されるまでス
トリツプメタルの両側に電解液が接触される。こ
のために、特殊に設計されたアノードアレー及び
マスクを使用している場合でも、金属の一側にの
み被着するには、大きな問題がある。満足すべき
方法で、メタルストリツプの裏側に小さな境界の
領域のメタルの電着を防止することは不可能であ
り、その得られた被着は端部の近くが厚くなつて
望ましくない。これらの欠点は、ストリツプがロ
ーラの周辺に接触させられている場合でも全く避
けることができず、この際のローラは電解液に浸
され、そしてストリツプをアノードを通り越すよ
うに移動せしめ電着を行なうものである。これ
は、ストリツプのローリングに起因した応力の傾
きのためにストツプがしばしばその端部に或る波
状を呈し、その結果ストリツプが他の領域にある
ローラときちんと接触している場合でも電解液が
ストリツプの背後に上記波状の端部を回り込んで
流れることができるようになり、電解液のスロー
イングパワーのために、電着がストリツプの背後
のより大きな領域になされるからである。

発明の目的 この発明の概念は通常の方法と異なり、ストリ
ツプ及びアノードがもはや電解液に浸されること
なく、一方で電解液、他方でストリツプ及びアノ
ード間の流体力学的接触が電解液を連続的に供給
することによつて維持される金属層をストリツプ
メタルの一側又は両側に連続的に電着する方法を
提供するものである。

発明の概要 この発明では非水平方向に維持されながら移動
されるストリツプメタルの一側又は両側に金属層
が連続的に電着される。電界液は少なくとも１個
のプレート状のアノード及びカソードを構成する
ストリツプメタル間を流れる。電解液はアノード
の上側領域の容器からアノード及びストリツプメ
タル間の空間に自由に流れ、そして密着した流体
の固まりとしてその重力により下方向へ流れる。

実施例 以下、この発明の諸実施例を説明する。

この発明によれば電解液が自由にアノードの上
側領域に流し込まれ、重力の作用により下方向に
流れてアノード及びストリツプメタル間の空間に
密着した流体の固まりを形成し、そして電解液が
その空間に連続的に供給される。この動作により
電解液がほとんど自由な落下で下方に流れるの
で、電極の表面に溶液が激しく当たるようにな
る。

この発明のその他の特徴によれば、メタルスト
リツプがアノード及びメタルストリツプ間の空間
に下方向に流れている電解液を構成する密着した
流体の固まりが維持されるような角度に曲げら
れ、そしてアノード及びメタルストリツプ間の距
離が２〜20mm、好ましくは10mmとなる。例えば電
流密度が大きい場合には、アノードに沿つた小さ
な電圧降下（端子からの方向で）を補償するため
に、ストリツプメタル及びアノード間の距離を電
流供給端子から離れている端部において、やや小
さくすることが望ましい。

ストリツプメタル及び垂直線間の角度は最高30
゜でよいことが解つた。

電解液をアノード及びストリツプメタル間の空
間に供給する方法に関連して、この発明に係わる
方法の好ましい実施例では、アノード及びストリ
ツプメタル間の空間に供給される電解液の少くと
も一部を、アノードの頂部で、例えば越流ぜきを
横断するか又はスロツトを有する容器或いは同様
の手段から、上述した空間にいれてもよく、その
結果電解液はそこからアノードに至るまで集合容
器に流れる。

この発明のその他の実施例では、アノード及び
ストリツプメタル間の空間に供給される付加電解
液の少なくとも一部が、アノードを解して延在し
ている複数個の孔又はスロツトを解して上述の空
間に入る。最後に述べた２つの実施例は組合せて
よいことも理解できよう。

HDプラントで高速で動いているストリツプに
被着を行う際に、非常におおきな電流密度を用い
ると、ある厄介な問題がおきる。機械的及び電気
化学的理由のために、そしてジユール効果によつ
て発生された熱を消散するために、電解液が供給
される速度及びストリツプメタル及びアノード間
の距離は、相対的に増大しなければならない。結
果として、金属表面への電解液の粘着及び電解液
の粘度の影響が減少し、電解の降流が自由な落下
となる。

これは電解液がセルを通して流れる速度を急上
昇させるだけでなく、セルの上側部分及び下側部
分における電解液の流速の差を増大させ、この結
果、電解液に必要で且つ平均速度に相互的な横断
面積がアノードに沿つて変化することになる。

この問題はアノード及びストリツプメタル間の
距離を電解液の流れる方向に一定又は減少するこ
の発明によつて解決される。

この発明では、流れ落ちる方向に連続的に減少
する距離を、ストリツプメタル及びアノード間に
設けることが好ましいことが解つた。

ストリツプメタル及びアノード間の距離が下方
に減少するならば、流体力学の概念から所望され
る構成は式ｄ＝ｋ√により得られる。たゞし、
ここでｄは距離、ｓは電解液の降流路長及びｋは
定数である。

この発明によつて提供される更に別な改良され
た点は、アノード及びストリツプメタルの頂端間
の距離及びアノード及びストリツプメタルの底端
間の距離が互いに相互に関係なく調整されること
である。

その他の要件として、床面積が非常に小さい場
合でもプラントの容量を増大し、そしてこれを達
成するためにそんなにたくさんの費用をかけない
で達成することができることである。

アノードは、ストリツプが移動される方向にそ
の長さを大きくしてもよい。しかし、その大きく
する程度は以下の如き、種々の理由から制限され
る。即ち、アノードは或制限された電流移送能力
しかもたず、アノードの一点に電流を供給する端
子は非常にかさばつて大きく、しかも熱を消散す
るための複雑な構成を成し、その重いアノードは
それらの重い重量等のために構造的な問題を呈
し、そして非常に長いアノードは付加的に流体力
学的な問題を呈するからである。一方、ストリツ
プは10〜20m或いはそれ以上の長さ内で上下に動
かしてもよい。少なくとも２つのアノードをスト
リツプメタルの近くで一方が他方の上になるよう
にして配列し、そして最上のアノードに流れ込む
電解液を各アノードに基づいて制御し、それから
次の下側のアノードに自由に流すことで、簡単で
所望の構成がこの発明によつて得られることが解
つた。

上述した実施例において、電解液は、一側又は
両側の被着のために、ストリツプメタルの両側
に、周知の方法で設けてもよい。

ストリツプメタルの両側に設けられた電極を有
する構成では、極性、電圧及び電流を個別に選択
することが最つとも好ましいということが解つ
た。これにより、ストリツプの両側を異なつた厚
さで被着し、そしてストリツプの一側に陰極の電
極を接続することができる。これにより、金属が
被着されてない側のストリツプを洗浄したり或い
は荒くすることができるようになる。この様な作
用は、更にストリツプを処理する、例えばペンキ
を塗つたり、半田付け等を行うためには望ましい
とわかつている。最後にストリツプの、例えば一
側を陽極酸化し、そして他側を陰極電着によつて
金属をコーテイングするようにしてもよい。

別な実施例では電極がストリツプメタルの両側
に設けられ、電圧がアノードを構成する電極の一
方にのみ供給され、そのアノード及びストリツプ
間の空間にのみ電解液が供給される。

更に別の実施例ではストリツプメタルがその一
側又は両側をコーテイングされ、そのストリツプ
メタルは、連続的なアノードに隣接して、電解液
の流れ方向に対して交互す方向に移動され、従つ
て、ストリツプメタルは電解液に対して同じ方向
にそして逆な方向に交互に移動される。これによ
つて、ストリツプの表面上に溶液の急速な運動が
生じ、電着が促進される。

他の実施例では、電流を流さない状態でストリ
ツプメタルが電解液で湿され、好ましくは電解液
を粉霧されたり、或いはこれに湿されて、核心の
成長を増進する。

この発明の特殊な実施例では亜鉛−ニツケルの
合金がストリツプメタル上に被着され、電解液の
流れ方向に対してスチールの移動の方向が１回又
は数回変化し、電着が20〜150A／ｄm²，好まし
くは40〜100A／ｄm²の電流密度でもつて電解に
より行なわれ、この電解は40〜70℃の温度，好ま
しくは45〜60℃の温度において適当な溶液からな
り、且つこの溶液中で各々の各溶解度までの濃度
の少なくとも80g／NiSO₄.7H₂O、少なくとも
150g／ZnSO₄.7H₂O及び2g／H₃BO₃を含む。

この方法では、４：10及び10：10好ましくは
５：10及び８：10のニツケル−亜鉛比が電解液中
で維持され、その結果電着された層は、８〜
15wt.％ニツケル、好ましくは９〜13wt.％ニツケ
ルを含む。この発明においては、不溶のアノード
を用いる場合には塩素を遊離した非塩化物イオン
を含む硫酸電解液を使用した方法としてもよい。
硫酸電解液を用い、そのコーテイングの腐蝕に対
する抵抗を減少するように、亜鉛及びニツケルの
層或いは低及び高ニツケル含有物を有する層を交
互に電着することは周知である。例えば米国特許
第4313802号には、電流密度を５〜40A／ｄm²に
制限して、10：15及び10：40間の比の亜鉛及びニ
ツケルを含む純粋な硫酸電解液にストリツプメタ
ルを横方向に移動させる方法が開示されている。
ニツケルの高状態は、結果として移動されるニツ
ケルに非常に大きな損失を生ずる。又、0.05〜
10g／の量の硫酸ストロンチユームを光沢剤と
して付加することが提案されているが、しかしこ
の場合種々の欠点があり、これは硫酸ストロンチ
ユームが極めて低溶解度で、しかも比較的高価で
あることによる。

この発明に係わる上述した方法では、硫酸を間
欠的に或いは連続的に付加することによつて溶液
のPHの値を１〜２，好ましくは1.3〜1.8に維持
し、例えば銅−銀からなる不溶のアノード又は電
極カーボンを周知の方法で使用し、酸化メタル，
水酸化メタル又は炭酸メタルの溶解中に或いはメ
タル又はメタル合金自身が化学的に又は陽極溶解
されている間にメタルの抽出を行うことが望まし
いことが解つた。

硫酸塩、硼酸塩、硼酸（H₃BO₃），アミノ硫酸
（NH₂SO₃H），蟻酸（HCOOH），酢酸
（CH₃COOH）並びにグルコース及びそれらの塩
類は硫酸に付加して混合するようにしてもよい。

この方法で使用される装置は、本質的には周知
の方法で一方が他方の上になるように配された少
なくとも２個の偏向ローラと、水平方向より偏倚
し、実質的にストリツプメタルと平行にある少な
くとも１個の不溶アノードと、アノード及びロー
ラに巻き付けられたストリツプメタルからなるカ
ソードに電流を供給する端子と、ストリツプを駆
動する駆動手段と、電解液を制御する少なくとも
１個の容器と、電解液を巡回する少なくとも１個
のポンプと、アノード及びストリツプメタル間の
空間に電解液を供給するパイプラインとからな
る。

この装置における一例では、電解液を供給する
デバイスは、細長く伸びた容器を備え、この容器
はアノードの頂部に設けられ、例えば電解液を巡
回するポンプによつて連続的に電解液を供給され
且つアノード及びストリツプメタル間の空間上に
設けられ、しかも１個以上のスロツトを有し、こ
のスロツトを介してアノード及びストリツプメタ
ル間の空間に上側から連続的に電解液が供給され
る。

他の実施例では、アノードは複数個の貫通孔又
は貫通スロツトで形成され、容器を設け、この容
器の一方の壁が開口されたアノードの壁によつて
構成され、そして、パイプラインがポンプから上
記容器に導かれ、その容器に電解液を連続的に供
給するように働く。

最後に述べた２つの実施例における装置は、互
いに組合せるようにしてもよい。又、アノードの
頂部に電解液を供給する手段は、その頂端の近く
のアノードに形成された単一の開孔と、アノード
の裏側に接続され電解液を供給するパイプとを備
えてもよい。

次に、この発明に係る方法及び装置を図面を参
照し乍ら説明する。

第１図において、ストリツプメタル１が偏向ロ
ーラ２及び３のまわりに上方向又は下方向にアノ
ード５を通過して傾斜した方位で連続的に引張ら
れる。また、アノード５も傾斜するようになされ
ている。アノード５及びストリツプメタル１間の
所定電圧又は所定電流が電流供給端子４及び６か
らの電流によつて維持される。電流を流し、スト
リツプメタル１のアノード５と面している側に金
属層の電着を行なうために、電解液がポンプ８に
よつて電解液集合容器７からくみ上げられて、パ
イプラインを介して容器９に連続的に供給され
る。容器９は縦のスロツトを有し、このスロツト
を介して電解液がストリツプメタル１及びアノー
ド５間の空間に連続的に流れる。電解液はその空
間を満し、そしてその空間で下方向に流れ、次い
で集合容器７に入れられる。

第２図において、ストリツプメタル１及びアノ
ード５′は垂直方位を有し、アノード５′は或区分
１１を有するボツクスからなり、これに電解液が
ポンプ８によつて供給される。電解液がボツクス
の頂部位置まで均一に上昇し、ストリツプメタル
１と面している壁に設けられた貫通スロツト１２
及び排水口１３を介してアノード５′及びストリ
ツプメタル１間の空間に異なつたレベルで流れ
る。その空間から電解液が集合容器７に戻され
る。第３図はアノード５′を示し、これはその頂
部が閉成され、且つ複数個の孔１４を有し、これ
等は異なる静水力学上の圧力に従つて、アノード
５′の上部に、より大きく且つ接近して隔置され
ると共にアノード５′の下部に、より小さく且つ
離れて隔置される。孔１４の上に設けられた広い
スロツト１５によつて排水口が構成される。

ストリツプの面側における電着をできるだけ異
なつた厚さとなし且つ適当な容量のプラントの設
計を行なうために、単一のストリツプが通路に沿
つてプラント中を引張られるこの通路に隣接し
て、上述したような複数個の電解液セルを一方が
他方のそばになるように又は一方が他方の上側に
なるようにして設けることが望ましい。

この概念に基づくいくつかの実施例が第４図ａ
〜第４図ｂ及び第５図ａ〜第５図ｄに示されてお
り、第４図ではストリツプ及びアノードが垂直方
位に配され、第５図ではストリツプ及びアノード
が傾斜した方位に配されている場合である。第４
図ａに示す実施例では、ボツクス状のアノードを
使用している。又、第４図ｂでは、ストリツプの
一面で且つ同一の側が同じアノードボツクスのそ
ばを（上方向及び下方向に）２回移動され、その
結果ボツクスが相互に対向する２つの壁に孔又は
スロツト及び排気口を備えていれば、上述したボ
ツクスの有効なアノード表面領域を二重にするこ
とができる。第４図ｃによれば、片側だけのアノ
ードボツクスをストリツプの他方に設けてもよ
く、これによつてストリツプの２つの側に非常に
厚さの異なる金属層を被着するのに特に適当なプ
ラントを得ることができる。そのプラントは第４
図ｄに示すように、別なアノードを準備して拡大
してもよく、これによつて同じアノード表面領域
をストリツプの各側に利用することができる。第
４図ｅでは上下に重なつたアノードを示す。又第
４図ｆは隙間なく収納されたアノードボツクスの
構成を示し、そのほとんどの両側がHDプラント
内で有効に利用されている。

第５図ａ〜第５図ｄに示すような傾斜した電極
を使用すると、プラントの高さを低くすることが
できる。その上に、傾斜した位置に関連して静水
力学及び流体力学の効果を利用することができ
る。

第５図ａ及び第５図ｂの構成は、一側に電着を
行なうためのものである。第５図ｃ及び第５図ｄ
に示すような構成は両側に電着を行なう際に使用
するようにしてもよい。

第６図はストリツプメタル１を示し、これは２
つの上側にある２個の偏向ローラ３及び下側にあ
る一個の偏向ローラ２に巻き付けられる。上側の
偏向ローラ３には電流供給端子（図示せず）が設
けられる。アノード５はストリツプメタル１の両
側に設けられ、それらの各々はキヤリア５″に接
続される。矢印Ａ及びＢで示すように、キヤリア
５″は水平軸（矢印Ａ）の回わりに、そのストリ
ツプメタル１からの距離（矢印Ｂ）と関連して調
整可能にマウントされる。一例として示す本実施
例では、キヤリア５″はアノード５、好ましくは
アノード５の中央で接続される。アノード５を示
す点線から、各アノード５からストリツプメタル
１までの距離及びストリツプメタル１に対する各
アノード５の傾斜が所望に調整できることが解
る。この発明の好ましい実施例では、キヤリア
５″は電気的に導通され、且つ絶縁されるように
マウントされ、しかも電流供給端子（図示せず）
を備えている。アノード５及び偏向ローラ２はセ
ルケース１６内に設けられる。アノード５から流
れる電解液は、セルの底部で制御され、ポンプ８
によつてアノード５の上部又は端部まで上昇し、
サイクルを完了する。第６図及び第７図からも解
るように、ストリツプメタルは一側のみメツキさ
れる。このために電解液が、ストリツプメタル１
及びセルケース１６の壁との間に設けられた外側
のアノード５にだけ供給される。

第８図及び第９図に示す実施例においては、ス
トリツプメタル１の両側がメツキされる。このた
めに、電解液が総てのアノード５に供給される。
第７図及び第９図からも明らかなように、内側の
アノード５には、第８図及び第９図に示す実施例
では、ストリツプメタル１がアノードによつて全
体に囲まれて、電解液が横方向に流れ出すことが
できないように、横方向に延在する端部が設けら
れる。

この発明の他の実施例（図示せず）において、
アノードがキヤリアの頂端及び底端に接続され
る。これらのキヤリアは相互に個別にストリツプ
メタル１とアノード５の距離に関連して調整可能
である。少なくとも一方のキヤリアは、電気的に
導通されており且つ絶縁されるようにマウントさ
れ、しかも電流供給端子を備えている。

またこの発明によれば、ストリツプメタル１と
面する各アノード５の表面は、ストリツプメタル
の方向に対して平らか又は凸状に湾曲されてい
る。その曲率は式ｄ＝ｋ／√により求めること
ができ、ここでｄはストリツプメタル１及びアノ
ード５間の距離、ｓは電解液の降流路長、ｋは定
数である。

第１０図に示すこの発明の実施例では、２個の
アノード５が一方が他方の上側になるようにして
設けられる。２個以上のアノードを一方が他方の
上側になるようにして設けてもよいことが理解で
きよう。電解液は供給ライン１８のスロツトから
上側のアノード５に自由に流れ、そしてこれから
出て集合桶１９に流れる。この集合桶１９が電解
液で満されると、この電解液は集合桶１９の縁か
らあふれて流れ出し、方向を換える桶１０で制御
されて、連続的に下側のアノード５に供給され、
これに自由に流れる。下側のアノード５から流れ
出た電解液は排水路２２の設けられた集合容器７
で制御される。集合容器７を離れた電解液は、図
示せずもポンプによつて供給ライン１８まで汲上
げられる。ストリツプメタル１に付着されて残つ
ている電解液は、絞り出しローラ２３によつて除
去され、それから又集合容器７に流れ出す。

配電を改善するために、電流供給用の複数個の
付加ローラ２４が設けられる。これらローラ２４
の各々は２つの隣接したアノード５間に設けられ
る。

第１１図に示す実施例では、上側のアノード５
から取り出された電解液は、方向を変える桶１
０′によつて集合桶１９′へ偏向され、それから電
解液が集合桶１９′の縁をあふれて下側のアノー
ド５及びストリツプメタル１間の空間に流れる。

第１２図に示す実施例では、電解液を制御及び
その方向を変えるための構成を示している。この
構成は狭い集合フアンネル２５を有し、その大き
な開口２６が上側のアノード５の電解液を受け、
そしてその小さな開口２７から電解液がパイプを
解して下側のアノード５へ流れる。集合フアンネ
ル２５は、第１３図に示すように、案内織布２８
及びバツフル織布２９を有する。これらの織布に
より、電解液が小さな開口の方向へ流れ、その流
れが減速される。

第１４図に示す変形された集合フアンネル２
５′は円形状とされ、又、案内織布２８′及びフア
ンネル織布２９′を有する。

第１５図〜第１７図に示すこの発明の実際的な
実施例においては、ポンプ８がセルケース１６と
構造上一体化されている。これらの各部品は、第
６図に示すものと同一であるので、こゝでは夫々
同じ参照符号を付して示す。第６図に示す例にお
けるように、上側の２個の偏向ローラ３及び下側
の１個の偏向ローラ２が設けられる。アノード５
が再び上側の偏向ローラ３及び下側の偏向ローラ
２間の空間に設けられる。ストリツプメタル１の
一側又は両側上のアノード５及び下側の偏向ロー
ラ２が頂部の開口されたセルケース１６によつて
囲まれ、その底部で電解液が制御される。電解液
はポンプ８によりセルケース１６に設けられた横
方向の通路を介してアノード５まで連続的に汲上
げられる。ポンプ８はセルケース１０の側面に、
そのケースの底部のレベルで設けられる。ケース
１６の側壁は、二重の壁とされ、これにより横方
向の通路２０が決められる。セルケース１６の底
部は、電解液を溶解するために、図示しないがス
テーシヨンにラインによつて接続されている。

発明の効果 この発明に係わる方法及びこの方法を実施する
ための装置により、多数の利益を得ることができ
る。即ち、例えばストリツプメタルの湿りを、電
解液が高い酸性度を有する場合でも、電解液ポン
プの簡単な消勢によつて阻止することができる。
それにより、ストリツプメタルが長い時間停止さ
れている場合でも、ストリツプメタルのエツチン
グ及びその他同様の影響を阻止することができ
る。更に、ストリツプメタル及びアノード間の距
離を極端に小さくしてもよく、ほとんどの場合、
限度として言われている20mmよりかなり小さいも
のとしてもよい。これは、重力の作用で電解液の
急速な降流が境界層で電解液の流れを急速にし、
境界層が常に薄く且つ非常に低い濃度の成極のみ
が電極に発生されるようになるからである。高い
電流密度の場合に発生された熱は急速に消散さ
れ、そして形成され且つ減少され得る任意のガス
が沸騰し、またその湿つた電極の表面が即座に除
去される。このために、端子電圧及び電力は低く
てもよく、この結果、ジユール効果による溶液の
過熱に起因した電力損失は極端に低くなり、しか
も可能な最高の電力密度が非常に高くなる。これ
は特に経済的でコンパクトなデザインを可能とす
る。ストリツプメタルは電解液によりその進む方
向側のみが湿され、その結果ストリツプメタルの
後側の少しの電着でさえ阻止されると云う重要な
利益を呈することができる。電極間の空間に満さ
れた流体の固まりは急激に圧縮され、そしてスト
リツプの端部で動的作用によつて引き裂かれ、そ
の結果事実上ストリツプの端部における電流密度
の増加は目に付くほど大したものでなく、結果と
してマスクを必要としないことになる。このため
に、アノードが充分に広ければ、ストリツプが反
つても、即ちそれらがセルを貫通する際に横方向
に偏向されても、容易に使用することができる。

メタルを電解液で溶解し、メタルイオンの濃度
を維持する必要がある場合は、これは、本質的に
は周知である化学的或いは陽極溶解セルによつて
達成することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は夫々この発明に適用される
装置の２つの実施例を示す斜視図、第３図はその
装置の詳細を示す斜視図、第４図ａ〜第４図ｆ及
び第５図ａ〜第５図ｄはこの発明に係わる複数個
の電解液セルを１個の同じストリツプメツキプラ
ント内に配列され得る異なつた方法を簡略的に示
す側立面図、第６図はストリツプメタルの一側に
メツキをするためのこの発明に係わる装置を簡略
的に示す横断面図、第７図は第６図の装置を示す
平面図、第８図はストリツプメタルの両側にメツ
キするために使用される第６図の装置を示す横断
面図、第９図は第８図の装置を示す平面図、第１
０図は２個のアノードが一方が他方の上側になる
ように配列された装置内において、ストリツプメ
タルの両側にコーテイングするためのこの発明に
係わる装置を示す横断面図、第１１図及び第１２
図は電解液を集合し且つその方向を変えるように
するための手段の２つの例を示す平面図、第１３
図は第１２図における線−で切断した場
合を示す断面図、第１４図は第１３図と同様であ
るが、異なつた集合及び方向を変える手段の一例
を示す断面図、第１５図はこの発明に係わる装置
の更に他の実施例を示す横断面図、第１６図は第
１５図における線−で切断した場合を示
す断面図、第１７図は第１５図における線−
で切断した場合を示す断面図である。 １はストリツプメタル、２，３は偏向ローラ、
４，６は電流供給端子、５はアノード、７は電解
液集合容器、８はポンプ、９は容器、１２はスロ
ツト、１３は排水口、１４は孔、１５は広いスロ
ツトである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 非水平方向に維持されながら移動されるスト
   リツプメタルの少なくとも一側に金属層を連続的
   に電着する方法であつて、少なくとも１個のプレ
   ート状のアノード及びカソードを構成する上記ス
   トリツプメタル間に電解液を流し、上記アノード
   の上部に隣接して電極を遊嵌せしめ、電解液が上
   記アノード及び上記ストリツプメタル間の空間で
   密着した流体の固まりを構成するように重力によ
   つて下側方向に流し、上記空間に電解液を連続的
   に供給し、上記空間を電解液で満し続けるように
   した金属層をストリツプメタルの一側又は両側に
   連続的に電着する方法。 ２ ストリツプメタル及び垂直線間の角度が最高
   30゜であり、アノード及びストリツプメタル間の
   距離が２〜20mmである特許請求の範囲第１項記載
   の金属層をストリツプメタルの一側又は両側に連
   続的に電着する方法。 ３ アノード及びストリツプメタルの間の距離を
   電解液の流れる方向に増大させない特許請求の範
   囲第１項記載の金属層をストリツプメタルの一側
   又は両側に連続的に電着する方法。 ４ ストリツプメタル及びアノード間の距離が式
   ｄ＝ｋ／√（ｄ＝ストリツプメタル及びアノー
   ド間の距離、ｓは電解液の降流路長及びｋは定
   数）に従つて下がる方向に減少する特許請求の範
   囲第３項記載の金属層をストリツプメタルの一側
   又は両側に連続的に電着する方法。 ５ 複数個の電極がストリツプメタルの両側に設
   けられ且つ上記電極に供給される電圧及びその極
   性が個別に選択されることを特徴とする特許請求
   の範囲第１項記載の金属層をストリツプメタルの
   一側又は両側に連続的に電着する方法。 ６ スチールストリツプ上に亜鉛−ニツケル合金
   を電着するため電解液の流れる方向に対するスチ
   ールストリツプの移動方向の関係が少なくとも１
   回反転され、上記電着が電解液により20〜
   150A／ｄm²の電流密度で行なわれ、電解液が40
   〜70℃で適当な溶液からなり、そして該溶液でそ
   れらの各溶解度までの濃度の少なくとも80g／
   NiSO₄.7H₂O，150g／ZnSO₄.7H₂O及び2g／
   H₃BO₃を含む特許請求の範囲第１項記載の金属層
   をストリツプメタルの一側又は両側に連続的に電
   着する方法。 ７ ４：10及び10：10の間のニツケル−亜鉛比が
   上記電解液で維持されて８〜15wt.％ニツケルを
   含む層を被着することを特徴とする特許請求の範
   囲第１項記載の金属層をストリツプメタルの一側
   又は両側に連続的に電着する方法。 ８ １〜２のphの値が浴槽中に少量の硫酸を付
   加して維持される特許請求の範囲第１項記載の金
   属層をストリツプメタルの一側又は両側に連続的
   に電着する方法。 ９ アノード及びストリツプメタル間の空間に供
   給される付加電解液の少なくとも一部が、上記空
   間にアノードを介して広がる開孔を通して挿入さ
   せられることを特徴とする特許請求の範囲第１項
   記載の金属層をストリツプメタルの一側又は両側
   に連続的に電着する方法。 １０ 少なくとも２個の重ねられたアノードがス
   トリツプメタルに隣接して設けられ、上側のアノ
   ードに入る電解液が上記アノードに基づいて制御
   され、そして次の低い方のアノードに自由に流し
   込まれる特許請求の範囲第１項記載の金属層をス
   トリツプメタルの一側又は両側に連続的に電着す
   る方法。 １１ 下側の反射ローラ及び電極の少なくとも一
   部が、頂部を開口させたセル内に設けられ、それ
   からポンプが電解液を吸い上げてセルケースの外
   側にある通路を介してアノードへ導くことを特徴
   とする特許請求の範囲第１項記載の金属層をスト
   リツプメタルの一側又は両側に連続的に電着する
   方法。