JPS62183832A

JPS62183832A - 半導体製造装置

Info

Publication number: JPS62183832A
Application number: JP24966286A
Authority: JP
Inventors: Nobuaki Sato; 宣明佐藤; Toshiyoshi Iino; 飯野　利喜
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1985-10-23
Filing date: 1986-10-22
Publication date: 1987-08-12

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、半導体の製造で必要とする清浄な作業環境を
作り出すための清浄空気の流れに係り、特に、製造装置
の上面においてウェハを処理するとき、作業者から発生
する塵埃をウェハに付着させないような気流を実現する
のに好適な半導体製造装置に関する。

〔従来の技術〕

クリーンルーム内で発生した塵埃を製品から遠ざける方
法として１例えば特開昭５８−１２９１２５号公報に示
されるように、作業部の清浄気流の平均風速を通路部の
清浄気流の平均流速以上に保ち、通路部で発生した塵埃
が作業部へ拡散しないような気流の分布とするものが知
られている。しかし、この方法では、ウェハ付近の気流
については配慮されていなかった。

まず、従来半導体製造工程に用いられているクリーンル
ームの例として、クリーントンネル方式と呼ばれるグリ
ーンルームの長手方向の垂直な断面図を第６図に示す、
支柱１と横梁２とで門形フレームを組み、これに天板３
と両側の側板４を張ってトンネル状習いを構成し、この
トンネル状覆いとそれを設置する床５とで囲まれたクリ
ーンルーム室内に製造装置６を設置する作業部７と作業
者８が通行する通路部９とをトンネル状覆いの長手方向
に連続して設ける。作業部７及び通路部９の天井部には
空気浄化要素である送風機１０゜１１、送風チャンバ１
２．１３と高性能フィルタ１４．１５を収納し、その下
部の清浄空気吹き出し口に整流格子１６を設置する。

送風機１０．１１の運転により、外部空気はプレフィル
タ１７を通して空気吸込み口１８から吸い込まれる。作
業部用送風機１０から送風チャンバ１２へ送り出された
空気は作業部用高性能フィルタ１４により清浄化された
後、作業部天井から室内の作業部７へ吹き出し、また、
通路部用送風機１１から送風チャンバ１３へ送り出され
た空気は通路部用高性能フィルタ１５により清浄化され
た後、通路部天井から室内の通路部９へ吹き出す。

天井面から吹き出された清浄気流は図の矢印で示すよう
に室内を流れ、両側の側板４の下部に設けた側面排気口
１９から外部の保全域２０へ排出される。室内圧力は保
全域２０の圧力より高く保たれているため、保全域２０
からの汚染空気が室内へ流入しない。

〔発明が解決しようとする問題点〕

第７図に示すように、製品であるウェハ２１は一般に製
造装置６の上面において上向きに置かれ、処理、搬送さ
れる。クリーンルームの目的は、この製品であるウェハ
２１を塵埃の汚染から防ぐことであるが、図に示すよう
に製造袋ｆ！６の上面は空′気が滞留する部分に当り、
クリーンルームの目的が十分に達成されていない。この
ため、クリーンルーム内で発生した塵埃がこの空気が滞
留した部分に入り、ウェハ２１に付着し、不良品を発生
させることがある。

本発明の目的は、ウェハ表面に沿う清浄空気の流れを積
極的に作り出し、この流れにより塵埃がウェハに付着す
るのを防ぐような空気吹き出し機能を備えた半導体製造
装置を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は半導体ウェハを装置上面に載置し処理する半導
体製造装置において、半導体ウェハが載置された装置と
ほぼ水平方向に清浄空気を吹き出すフィルタ部と、この
フィルタ部に清浄空気を導びく送風機とよりなる清浄空
気吹き出し装置を設けるようにし、上記目的を達成する
ようにしたものである。

〔作用〕

上記構成とすることにより、水平方向の吹き出し気流に
より、従来の半導体製造装置の上面において製品である
ウェハの回りに生じていた空気の滞留が無くなり、ウェ
ハは常に清浄な空気に覆われる。

〔実施例〕

以下、本発明の一実施例を第１図、第２図により説明す
る。図において、製造装置６には作業者８と対向する位
置に作業者８に向い水平方向の清浄空気を吹き出すフィ
ルタ部２２と前記フィルタ部２２に空気を供給する送風
機２３とから成る清浄空気吹き出し装置２４が設けられ
ている。送風機２３は、その回りから空気を吸い込むも
のとする。前記清浄空気吹き出し装置２４により、第２
図の矢印で示すようにウェハ２１表面に沿った清浄空気
の流れが生じる。このような気流を作ることにより、作
業者８から発生した塵埃はウェハ２１に付着することな
く、通路部へ流し去られる。

さらに、もし、製造袋Ｖ１６から発塵しても、塵埃がウ
ェハ処理域に滞留することなく速やかに除去される。こ
のように１本実施例によれば、ウェハ２１の表面は常に
フィルタを通った清浄空気に覆われており、塵埃付着に
よる不良品の発生を低減する効果がある。

なお、第３図に示すように、清浄空気吹き出し装置２４
を装置本体６と一体に構成せず、装置本体６に隣接設置
するようにしても前記実施例と同様の効果が得られる。

第４図は本発明の他の実施例を示す。本実施例では、フ
ィルタ部２２から吹き出される清浄空気の一部を製造装
置６内へ取り込み、装置内の清浄化も同時に行うもので
ある。このため、フィルタ部２２の一部は製造装置６の
上面よりも下に位置していなければならない。クリーン
ルーム内では製造装置６も発塵源の一つと考えられ、製
造装置６の内部を積極的に清浄化することも製品の歩留
り向上に有効である。そこで、もし、製造装置６から発
塵しても、クリーンルーム内に滞留しないように製造装
置６の通路側側面下部の排気口２５から塵埃を排出する
。本実施例によれば、ウェハ２１回りの清浄化と同時に
製造装置６内部の清浄化も行うことができる。

第５図は、さらに他の実施例を示す０本実施例では、送
風機２３は製造装置６内部の空気を吸込する。この空気
量に見合った分だけの空気を製造装置６の通路側上部に
位置する吸気口２６から製造装置６内に吸い込む。この
吸い込まれた空気により、第４図の実施例と同様に製造
装置ｉ！６内部の清浄化の効果が得られる。さらに、製
造装置６の角の部分では気流が乱れ易く、吸気口２６を
この位置に設けることで、この部分での気流を安定させ
ることかできる。このことは、作業者８や製造装置６が
発塵しても、その塵埃はクリーンルーム内に滞留せず、
速やかにクリーンルームから搬出されることを示してお
り、より一部クリーンルームの清浄化の効果がある。

〔発明の効果〕

本発明によれば、水平方向の吹き出し気流により、従来
の半導体製造装置の上面において製品であるウェハの回
りに生じていた空気の滞留が無くなり、ウェハは常に清
浄な空気に覆われることにより、塵埃がウェハに付着で
きなくなるので塵埃付着に起因する製品不良を減少させ
る効果がある。

また、本発明は製造装置内部の清浄化及び製造装置回り
の気流の安定化にも効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す概略図、第２図は第１
図における製造装置上部の要部詳細図、第３図、第４図
、第５図はそれぞれ本発明の他の実施例を示す概略図、
第６図は従来のクリーンルームの断面図、第７図は第６
図の製造装置の要部詳細図である。６・・・製造装置、７・・・作業部、８・・・作業者、
９・・・通路部、１０．１１・・・送風機、１２．１３
・・・送風チャンバ、１４．１５・・・高性能フィルタ
、１６・・・整流格子、１７・・・プレフィルタ、１８
・・・空気吸込み口、１９・・・側面排気口、２０・・
・保全域、２１・・・ウェハ、２２・・・フィルタ部％
２３・・・送風機、２４・・・清浄空気吹き出し装置、
２５・・・排気口、２６・・・吸気口。

Claims

【特許請求の範囲】１、半導体ウェハを装置上面に載置し処理する半導体製
造装置において、半導体ウェハが載置された装置とほぼ
水平方向に清浄空気を吹き出すフィルタ部と、該フィル
タ部に清浄空気を導びく送風機とよりなる清浄空気吹き
出し装置を設けたことを特徴とする半導体製造装置。２、特許請求の範囲第１項において、前記フィルタ部よ
り吹き出した清浄空気の一部が半導体製造装置の内部を
流通するように構成し、該装置自体を清浄化するために
使用されることを特徴とする半導体製造装置。３、特許請求の範囲第１項において、半導体製造装置の
作業者側側面上部より送風機に供給する清浄空気を吸い
込むように構成したことを特徴とする半導体製造装置。