JPS62187128A - 多孔質光フアイバ母材の処理方法 - Google Patents
多孔質光フアイバ母材の処理方法Info
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- JPS62187128A JPS62187128A JP2779086A JP2779086A JPS62187128A JP S62187128 A JPS62187128 A JP S62187128A JP 2779086 A JP2779086 A JP 2779086A JP 2779086 A JP2779086 A JP 2779086A JP S62187128 A JPS62187128 A JP S62187128A
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Classifications
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
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-
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- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、炉体を大きくせずに長尺の多孔質光ファイバ
母材を容易に脱水や弗素添加或いは焼結操作し得る多孔
質光ファイバ母材の処理方法に関する。
母材を容易に脱水や弗素添加或いは焼結操作し得る多孔
質光ファイバ母材の処理方法に関する。
〈従来の技術〉
ＶＡＤ法や外付法など火炎加水分解反応によって生産さ
れた多孔質光ファイバ母材は、続く脱水焼結工程によっ
て透明な光ファイバ母材となり、さらに石英管と一体化
するなどの工程を経た後、線引されて光ファイバに加工
される。この脱水焼結加工は従来ゾーン炉による方・法
と均熱炉による方法とが採用されていた。第２図＋ａｌ
、 （ｂｌ 、 （Ｃ１にかかるゾーン炉による脱水
焼結装置を示すが、多孔質光ファイバ母材５を昇降させ
る昇降装置本体３には回転チャック９が昇降可能に取付
けられ、回転チャック９の下方にはこれと同軸に炉体１
が設置されている。炉心管２は炉体１を貫通しており、
炉心管２の下端にはガス送給口１１が形成され、上端に
はガス排出口１２が備えられている。炉心管２の中には
、上端を回転チャック９で把握されたシード棒８の下端
に支持された多孔質光ファイバ母材５が差し込まれ、多
孔質光ファイバ母材５は昇降装置本体３に組込まれた図
示しない昇降機構によって炉心管２の中を上下に移動す
るようになっている。尚、炉心管２の上端にはシード棒
８が貫通すると共に炉心管２内をガスシールするガスシ
ール用ポート１４をもつ上蓋７が着脱自在に装着されて
いる。
れた多孔質光ファイバ母材は、続く脱水焼結工程によっ
て透明な光ファイバ母材となり、さらに石英管と一体化
するなどの工程を経た後、線引されて光ファイバに加工
される。この脱水焼結加工は従来ゾーン炉による方・法
と均熱炉による方法とが採用されていた。第２図＋ａｌ
、 （ｂｌ 、 （Ｃ１にかかるゾーン炉による脱水
焼結装置を示すが、多孔質光ファイバ母材５を昇降させ
る昇降装置本体３には回転チャック９が昇降可能に取付
けられ、回転チャック９の下方にはこれと同軸に炉体１
が設置されている。炉心管２は炉体１を貫通しており、
炉心管２の下端にはガス送給口１１が形成され、上端に
はガス排出口１２が備えられている。炉心管２の中には
、上端を回転チャック９で把握されたシード棒８の下端
に支持された多孔質光ファイバ母材５が差し込まれ、多
孔質光ファイバ母材５は昇降装置本体３に組込まれた図
示しない昇降機構によって炉心管２の中を上下に移動す
るようになっている。尚、炉心管２の上端にはシード棒
８が貫通すると共に炉心管２内をガスシールするガスシ
ール用ポート１４をもつ上蓋７が着脱自在に装着されて
いる。
本装置においては、予め多孔質光ファイバ母材５がシー
ド棒８に取付けられ、第２図（ａｌに示すように炉心管
２の上方で炉心管２と同心に保たれる。次いで、昇降装
置本体３を操作して多孔質光ファイバ母材５を炉心管２
の中に挿入し、第２図ｆｂｌに示す位置に多孔質光ファ
イバ母材５を保ち、上蓋７で炉心管２の上端をシールす
る。しかるのち、炉心管２のガスを求められる組成のも
のに置換しく通常はヘリウムを主成分とする混合ガスを
用いる）、炉体１の温度を設定値に上昇させる。これが
完了したら、多孔質光ファイバ母材５を回転させながら
炉心管２内を下降させ、脱水又は焼結を行う。多孔質光
ファイバ母材５が第２図（ｅｌに示す位置まで下ったら
、今度は上昇させて第２ ＠ ｌｂ）に示す位置まで戻
す、各処理工程ごとガスの再置換及び炉内温度の変更を
行って所望の工程を終了するようにしている。
ド棒８に取付けられ、第２図（ａｌに示すように炉心管
２の上方で炉心管２と同心に保たれる。次いで、昇降装
置本体３を操作して多孔質光ファイバ母材５を炉心管２
の中に挿入し、第２図ｆｂｌに示す位置に多孔質光ファ
イバ母材５を保ち、上蓋７で炉心管２の上端をシールす
る。しかるのち、炉心管２のガスを求められる組成のも
のに置換しく通常はヘリウムを主成分とする混合ガスを
用いる）、炉体１の温度を設定値に上昇させる。これが
完了したら、多孔質光ファイバ母材５を回転させながら
炉心管２内を下降させ、脱水又は焼結を行う。多孔質光
ファイバ母材５が第２図（ｅｌに示す位置まで下ったら
、今度は上昇させて第２ ＠ ｌｂ）に示す位置まで戻
す、各処理工程ごとガスの再置換及び炉内温度の変更を
行って所望の工程を終了するようにしている。
一方、従来の均−炉による脱水焼結装置は、第３図に示
すように炉体１と炉心管２と昇降装置本体３とを備えて
いる。炉体ｌに形成される均熱帯２の長さは脱水焼結す
る多孔質光ファイバ母材５の最大長よりも長く設定され
ている。なお、前記均熱帯Ｚはおおむね４０ｄｅｇ、の
偏差の範囲内に入る炉体ｌ内の空間領域をいい、ヒータ
６の長さとは必ずしも一致しない。又、前記炉心管２は
炉体１を貫通しており、多孔質光ファイバ母材５を上方
から出し入れできるようにその上端部に上蓋７が着脱自
在に取付けられる。上蓋７と多孔質光ファイバ母材５と
を吊り下げているシード棒８との隙間の部分で炉心管雰
囲気ガスと大気とのシールを行っている。また炉心管２
は均熱帯Ｚの下端から直ちに縮径されており、ここに図
示しない雰囲気ガス導入管が取付けられ、同様に炉心管
２の上端にも図示しない排気口が設けられている。昇降
装置本体３にはシード棒８を把握する回転チャック９を
上下に移動するための昇降機構を備えており、回転チャ
ック９を一番上に上げた状態では多孔質光ファイバ母材
５が炉心管２外へ引き上げられ、最も下げた状態では多
孔質光ファイバ母材５全体が均熱帯Ｚに入るようにシー
ド棒８の長さが決められている。
すように炉体１と炉心管２と昇降装置本体３とを備えて
いる。炉体ｌに形成される均熱帯２の長さは脱水焼結す
る多孔質光ファイバ母材５の最大長よりも長く設定され
ている。なお、前記均熱帯Ｚはおおむね４０ｄｅｇ、の
偏差の範囲内に入る炉体ｌ内の空間領域をいい、ヒータ
６の長さとは必ずしも一致しない。又、前記炉心管２は
炉体１を貫通しており、多孔質光ファイバ母材５を上方
から出し入れできるようにその上端部に上蓋７が着脱自
在に取付けられる。上蓋７と多孔質光ファイバ母材５と
を吊り下げているシード棒８との隙間の部分で炉心管雰
囲気ガスと大気とのシールを行っている。また炉心管２
は均熱帯Ｚの下端から直ちに縮径されており、ここに図
示しない雰囲気ガス導入管が取付けられ、同様に炉心管
２の上端にも図示しない排気口が設けられている。昇降
装置本体３にはシード棒８を把握する回転チャック９を
上下に移動するための昇降機構を備えており、回転チャ
ック９を一番上に上げた状態では多孔質光ファイバ母材
５が炉心管２外へ引き上げられ、最も下げた状態では多
孔質光ファイバ母材５全体が均熱帯Ｚに入るようにシー
ド棒８の長さが決められている。
本装置においては、まず炉体１を待機状態に保って一番
上端に引き上げられた回転チャック９に対し、多孔質光
ファイバ母材５を取付けたシード棒８を把持させる０次
いで、昇降装置本体３を操作して回転チャック９を下げ
、多孔質光ファイバ母材５の全体が均熱帯Ｚに入るよう
に位置決めする。そして、上蓋７を炉心管２の上端に取
付け、回転チャック９を回転しなから炉温と雰囲気ガス
とを必要に応じて変化させ、脱水焼結処理を行う。全工
程が終了したら炉心管２内を窒素ガス雰囲気に切り換え
、炉温を待機温度まで降下させたのち、上蓋７を開けて
でき上った透明な光ファイバ母材を取り出すようにして
いる。
上端に引き上げられた回転チャック９に対し、多孔質光
ファイバ母材５を取付けたシード棒８を把持させる０次
いで、昇降装置本体３を操作して回転チャック９を下げ
、多孔質光ファイバ母材５の全体が均熱帯Ｚに入るよう
に位置決めする。そして、上蓋７を炉心管２の上端に取
付け、回転チャック９を回転しなから炉温と雰囲気ガス
とを必要に応じて変化させ、脱水焼結処理を行う。全工
程が終了したら炉心管２内を窒素ガス雰囲気に切り換え
、炉温を待機温度まで降下させたのち、上蓋７を開けて
でき上った透明な光ファイバ母材を取り出すようにして
いる。
〈発明が解決しようとする問題点〉
光ファイバの生産性を上げるために有効な方法の一つは
多孔質光ファイバ母材を長尺化することである。しかし
、この母材を長尺化すると、それを脱水焼結する際に従
来のゾーン炉による方法及び均熱炉による方法では以下
に示すような問題があった。
多孔質光ファイバ母材を長尺化することである。しかし
、この母材を長尺化すると、それを脱水焼結する際に従
来のゾーン炉による方法及び均熱炉による方法では以下
に示すような問題があった。
例えば、ゾーン炉による場合では多孔質光ファイバ母材
の長さに比べてかなり長い炉心管と昇降装置本体の高さ
とが必要になる。また、多孔質光ファイバ母材の長尺化
に伴い脱水焼結時間が長くなってしまう。
の長さに比べてかなり長い炉心管と昇降装置本体の高さ
とが必要になる。また、多孔質光ファイバ母材の長尺化
に伴い脱水焼結時間が長くなってしまう。
一方、均熱炉による場合では多孔質光ファイバ母材より
も長い均熱帯が必要であり、多孔質光ファイバ母材の長
尺化のため、炉体を大きくしなければならない、しかし
、炉体を大きくしようとすると生産効率の点で無駄時間
となる炉温の降温時間が長くなる上、降温時に炉心管が
破損した場合に炉心管の炉体貫通部が長くなるので、細
長い貫通部からその破片を取り除く作業が困難になる。
も長い均熱帯が必要であり、多孔質光ファイバ母材の長
尺化のため、炉体を大きくしなければならない、しかし
、炉体を大きくしようとすると生産効率の点で無駄時間
となる炉温の降温時間が長くなる上、降温時に炉心管が
破損した場合に炉心管の炉体貫通部が長くなるので、細
長い貫通部からその破片を取り除く作業が困難になる。
加えて、長い均熱帯を得るためには長尺のヒータが必要
となるが、ヒータが長くなるほどその熱的変形が大きく
なり、このため変形骨を見込んで炉体を大きくしなけれ
ばならず、ヒータ自体の取扱いも難かしくなる。そして
、ヒータ電力の増加や炉心管コストなどの通常経費がか
さむ 等の問題点があり改善が求められていた。
となるが、ヒータが長くなるほどその熱的変形が大きく
なり、このため変形骨を見込んで炉体を大きくしなけれ
ばならず、ヒータ自体の取扱いも難かしくなる。そして
、ヒータ電力の増加や炉心管コストなどの通常経費がか
さむ 等の問題点があり改善が求められていた。
本発明はかかる問題点に鑑みなされたもので、多孔質光
ファイバ母材の長尺化に対しても、炉心管や炉体をこの
多孔質光ファイバ母材より長くする必要のない多孔質光
ファイバ母材の処理方法を提供することを目的とする。
ファイバ母材の長尺化に対しても、炉心管や炉体をこの
多孔質光ファイバ母材より長くする必要のない多孔質光
ファイバ母材の処理方法を提供することを目的とする。
く問題点を解決するための手段〉
第一番目の本発明による多孔質光ファイバ母材の処理方
法は、炉体を貫通する炉心管内に多孔質光ファイバ母材
を挿入し、前記炉心管を囲むように前記炉体内に組込ま
れたヒータにより形成される均熱帯に前記多孔質光ファ
イバ母材を位置決めするに際し、前記均熱帯よりも前記
多孔質光ファイバ母材が長尺の場合には、前記均熱帯の
長さと前記多孔質光ファイバ母材の全長との差以上の往
復ストロークを以て前記多孔質光ファイバ母材を前記均
熱帯に沿って往復移動させると共に前記均熱帯に対する
前記多孔質光ファイバ母材の両端部の滞留時間をほぼ等
しく設定したことを特徴とするものである。
法は、炉体を貫通する炉心管内に多孔質光ファイバ母材
を挿入し、前記炉心管を囲むように前記炉体内に組込ま
れたヒータにより形成される均熱帯に前記多孔質光ファ
イバ母材を位置決めするに際し、前記均熱帯よりも前記
多孔質光ファイバ母材が長尺の場合には、前記均熱帯の
長さと前記多孔質光ファイバ母材の全長との差以上の往
復ストロークを以て前記多孔質光ファイバ母材を前記均
熱帯に沿って往復移動させると共に前記均熱帯に対する
前記多孔質光ファイバ母材の両端部の滞留時間をほぼ等
しく設定したことを特徴とするものである。
又、第二番目の本発明の多孔質光ファイバ母材の処理方
法は、上記第一番目の本発明の構成に加えて更に、前記
多孔質光ファイバ母材の全長が前記均熱帯の長さ以下に
縮小した場合には、前記多孔質光ファイバ母材を前記均
熱帯の中央部に固定するようにしたことを特徴とするも
のである。
法は、上記第一番目の本発明の構成に加えて更に、前記
多孔質光ファイバ母材の全長が前記均熱帯の長さ以下に
縮小した場合には、前記多孔質光ファイバ母材を前記均
熱帯の中央部に固定するようにしたことを特徴とするも
のである。
く作 用〉
多孔質光ファイバ母材に対して脱水や添加物添加或いは
焼結処理を行う際、多孔質光ファイバ母材がその全長に
亘って均一に加熱されるように均熱帯に沿って往復する
。そして処理掻作が進行するに従って多孔質光ファイバ
母材の全長が縮小して均熱帯の長さよりも短かくなった
場合には、多孔質光ファイバ母材の往復動を止めて均熱
帯の中央部に位置決め固定して処理する。
焼結処理を行う際、多孔質光ファイバ母材がその全長に
亘って均一に加熱されるように均熱帯に沿って往復する
。そして処理掻作が進行するに従って多孔質光ファイバ
母材の全長が縮小して均熱帯の長さよりも短かくなった
場合には、多孔質光ファイバ母材の往復動を止めて均熱
帯の中央部に位置決め固定して処理する。
〈実 施 例〉
本発明による多孔質光ファイバ母材の処理方法を実現す
るための装置の一実施例の概略構造を表す第１図に示す
ように、本装置は炉体ｌと炉心管２と昇降装置本体３と
を備えている。炉体１の均熱帯２の長さは本実施例では
処理される多孔質光ファイバ母材５の最大長よりも短か
く設定されている。炉心管２は炉体１を貫通しており、
多孔質光ファイバ母材を上方から出し入れできるように
、炉心管２の上端は取り外し自在の上蓋７によって覆わ
れる。また、シード棒８は上蓋７を貫通しているが、こ
れらの隙間では炉心管２内の雰囲気ガスと大気とのシー
ルを行っている。また炉心管２の上下両端部には均熱帯
Ｚに接続する保温部が設けられており、多孔質光ファイ
バ母材５を炉心管２の中で上下に往復移動させる場合、
実線で示す最下端まで移動させた状態と点線で示す最上
端まで移動させた状態を保温部が均熱帯Ｚと共にカバー
するようになっている。炉心管２の下側の保温部の下端
は縮径されていて、ここに図示しない雰囲気ガス導入管
が取付けられる。昇降装置本体３にはシード棒８を把握
する回転チャック９を上下に移動させる昇降機構が内蔵
されている。回転チャック９を一番上に上げた位置で、
多孔質光ファイバ母材５がこの回転チャック９に着脱さ
れる。尚、多孔質光ファイバ母材５は均熱帯Ｚから逸脱
することなく、多孔質光ファイバ母材５の全長に亘って
即ち、第１図中の多孔質光ファイバ母材５の実線と点線
で示す範囲を一往復以上移動して種々の処理がなされる
。
るための装置の一実施例の概略構造を表す第１図に示す
ように、本装置は炉体ｌと炉心管２と昇降装置本体３と
を備えている。炉体１の均熱帯２の長さは本実施例では
処理される多孔質光ファイバ母材５の最大長よりも短か
く設定されている。炉心管２は炉体１を貫通しており、
多孔質光ファイバ母材を上方から出し入れできるように
、炉心管２の上端は取り外し自在の上蓋７によって覆わ
れる。また、シード棒８は上蓋７を貫通しているが、こ
れらの隙間では炉心管２内の雰囲気ガスと大気とのシー
ルを行っている。また炉心管２の上下両端部には均熱帯
Ｚに接続する保温部が設けられており、多孔質光ファイ
バ母材５を炉心管２の中で上下に往復移動させる場合、
実線で示す最下端まで移動させた状態と点線で示す最上
端まで移動させた状態を保温部が均熱帯Ｚと共にカバー
するようになっている。炉心管２の下側の保温部の下端
は縮径されていて、ここに図示しない雰囲気ガス導入管
が取付けられる。昇降装置本体３にはシード棒８を把握
する回転チャック９を上下に移動させる昇降機構が内蔵
されている。回転チャック９を一番上に上げた位置で、
多孔質光ファイバ母材５がこの回転チャック９に着脱さ
れる。尚、多孔質光ファイバ母材５は均熱帯Ｚから逸脱
することなく、多孔質光ファイバ母材５の全長に亘って
即ち、第１図中の多孔質光ファイバ母材５の実線と点線
で示す範囲を一往復以上移動して種々の処理がなされる
。
一方、脱水や弗素等の添加物添加や焼結等の処理が進む
に従って多孔質光ファイバ母材５が次第に縮小した場合
には多孔質光ファイバ母材５の往復移動ストロークをこ
れに伴って次第に縮める。そして、多孔質光ファイバ母
材５の長さが均熱帯Ｚの長さ以下になった場合に多孔質
光ファイバ母材５の上下移動を停止して均熱帯Ｚの中央
部に停止する。
に従って多孔質光ファイバ母材５が次第に縮小した場合
には多孔質光ファイバ母材５の往復移動ストロークをこ
れに伴って次第に縮める。そして、多孔質光ファイバ母
材５の長さが均熱帯Ｚの長さ以下になった場合に多孔質
光ファイバ母材５の上下移動を停止して均熱帯Ｚの中央
部に停止する。
第１図に示す装置を用いて多孔質光ファイバ母材５の脱
水及び弗素添加及び焼結処理を行った例を以下に示す。
水及び弗素添加及び焼結処理を行った例を以下に示す。
ここで炉体１の均熱帯Ｚの長さは７００ミリメートル、
炉心管２の全長は１３５０ミリメートル、処理前の多孔
質光ファイバ母材５の長さは１０００ミリメートルであ
る。始めに、炉体１を待機状態に保ち、シード棒８に多
孔質光ファイバ母材５を取付ける。次に、回転チャック
９を下降させて多孔質光ファイバ母材５の上端が均熱帯
Ｚの上端と一致する実線で示す位置に停止させる０次い
で、上蓋７を炉心管２に被せた後、回転チャック９を回
転しながら回転チャック９を上昇させる。多孔質光ファ
イバ母材５の下端が均熱帯Ｚの下端と一致する点線で示
す位置に達したら、逆に回転チャック９を下降させて均
熱帯２から多孔質光ファイバ母材５の全長が逸脱しない
ように繰り返し往復移動させて処理する０本実験例では
多孔質光ファイバ母材５の往復ストロークを３００ミリ
メートルに設定した。尚、往復上下移動の速さは下記に
示す各処理工程の継続時間よりも十分早く往復するよう
に選ぶのが好ましく、例えば毎分２００ミリメートルと
する。
炉心管２の全長は１３５０ミリメートル、処理前の多孔
質光ファイバ母材５の長さは１０００ミリメートルであ
る。始めに、炉体１を待機状態に保ち、シード棒８に多
孔質光ファイバ母材５を取付ける。次に、回転チャック
９を下降させて多孔質光ファイバ母材５の上端が均熱帯
Ｚの上端と一致する実線で示す位置に停止させる０次い
で、上蓋７を炉心管２に被せた後、回転チャック９を回
転しながら回転チャック９を上昇させる。多孔質光ファ
イバ母材５の下端が均熱帯Ｚの下端と一致する点線で示
す位置に達したら、逆に回転チャック９を下降させて均
熱帯２から多孔質光ファイバ母材５の全長が逸脱しない
ように繰り返し往復移動させて処理する０本実験例では
多孔質光ファイバ母材５の往復ストロークを３００ミリ
メートルに設定した。尚、往復上下移動の速さは下記に
示す各処理工程の継続時間よりも十分早く往復するよう
に選ぶのが好ましく、例えば毎分２００ミリメートルと
する。
そこで、まず炉心管２内をヘリウムと塩素との混合ガス
雰囲気に置換し、かかる往復移動を続けながら炉内温度
を上昇させるが、この処理工程は多孔質光ファイバ母材
５の収縮を避けながら完全に脱水を行う必要があるため
、炉内温度を約１０００℃以下に数十分間保つ０次に、
この工程が終了したら炉心管２内をヘリウムと弗素とを
含有するガス雰囲気に置換し、再び炉体１内の温度を上
昇させて多孔質光ファイバ母材５に対する弗素添加及び
焼結の処理を行う。この間も脱水処理と同様の往復上下
移動を継続する。また焼結工程の温度は約１５００℃で
、この工程には数十分から２時間位を要する。かくして
焼結工程まで終了したら回転チャック９の回転と、上下
移動とを止めると共にガスの供給を止め、炉心管２内を
窒素ガスの雰囲気に置換して炉温を待機温度にまで下げ
る。炉温か十分に下ったら上蓋７を外し、焼結し透明ガ
ラス化した光ファイバ母材を炉心管２の外へ取り出す。
雰囲気に置換し、かかる往復移動を続けながら炉内温度
を上昇させるが、この処理工程は多孔質光ファイバ母材
５の収縮を避けながら完全に脱水を行う必要があるため
、炉内温度を約１０００℃以下に数十分間保つ０次に、
この工程が終了したら炉心管２内をヘリウムと弗素とを
含有するガス雰囲気に置換し、再び炉体１内の温度を上
昇させて多孔質光ファイバ母材５に対する弗素添加及び
焼結の処理を行う。この間も脱水処理と同様の往復上下
移動を継続する。また焼結工程の温度は約１５００℃で
、この工程には数十分から２時間位を要する。かくして
焼結工程まで終了したら回転チャック９の回転と、上下
移動とを止めると共にガスの供給を止め、炉心管２内を
窒素ガスの雰囲気に置換して炉温を待機温度にまで下げ
る。炉温か十分に下ったら上蓋７を外し、焼結し透明ガ
ラス化した光ファイバ母材を炉心管２の外へ取り出す。
尚、焼結処理の際には焼結された光ファイバ母材５の長
さが均熱帯Ｚの長さより短かくなるので、この場合は、
光ファイバ母材が均熱帯Ｚの中央部に留めて回転だけを
与え、焼結処理を行うことによってこの焼結処理を数分
間短縮できる。
さが均熱帯Ｚの長さより短かくなるので、この場合は、
光ファイバ母材が均熱帯Ｚの中央部に留めて回転だけを
与え、焼結処理を行うことによってこの焼結処理を数分
間短縮できる。
〈発明の効果〉
本発明の多孔質光ファイバ母材の処理方法によれば、母
材の長尺化にもかかわらず、炉体を大きくせずまた炉心
管も短いものを用いて、従来のものより大型の多孔質光
ファイバ母材を短時間で処理することができる。例えば
、１０００ミリメートルの多孔質光ファイバ母材を従来
のゾーン炉法によって脱水処理した場合には、１．５時
間から３時間を要するが、本発明によれば０．８時間か
ら１時間で処理が完了し、処理時間の大幅な短縮が可能
となった。
材の長尺化にもかかわらず、炉体を大きくせずまた炉心
管も短いものを用いて、従来のものより大型の多孔質光
ファイバ母材を短時間で処理することができる。例えば
、１０００ミリメートルの多孔質光ファイバ母材を従来
のゾーン炉法によって脱水処理した場合には、１．５時
間から３時間を要するが、本発明によれば０．８時間か
ら１時間で処理が完了し、処理時間の大幅な短縮が可能
となった。
第１図は本発明による多孔質光ファイバ母材の処理方法
を実現する装置の一実施例の概念図、第２図ｆａｔ〜（
Ｃ１及び第３図はそれぞれ従来装置の一例を表す概念図
である。 図面中、１は炉体、２は炉心管、３は昇降装置本体、５
は多孔質光ファイバ母材、６はヒータ、７は上蓋、８は
シード捧、９は回転チャック、Ｚは均熱帯である。
を実現する装置の一実施例の概念図、第２図ｆａｔ〜（
Ｃ１及び第３図はそれぞれ従来装置の一例を表す概念図
である。 図面中、１は炉体、２は炉心管、３は昇降装置本体、５
は多孔質光ファイバ母材、６はヒータ、７は上蓋、８は
シード捧、９は回転チャック、Ｚは均熱帯である。
Claims (2)
- （１）炉体を貫通する炉心管内に多孔質光ファイバ母材
を挿入し、前記炉心管を囲むように前記炉体内に組込ま
れたヒータにより形成される均熱帯に前記多孔質光ファ
イバ母材を位置決めするに際し、前記均熱帯よりも前記
多孔質光ファイバ母材が長尺の場合には、前記均熱帯の
長さと前記多孔質光ファイバ母材の全長との差以上の往
復ストロークを以て前記多孔質光ファイバ母材を前記均
熱帯に沿って往復移動させると共に前記均熱帯に対する
前記多孔質光ファイバ母材の両端部の滞留時間をほぼ等
しく設定したことを特徴とする多孔質光ファイバ母材の
処理方法。 - （２）炉体を貫通する炉心管内に多孔質光ファイバ母材
を挿入し、前記炉心管を囲むように前記炉体内に組込ま
れたヒータにより形成される均熱帯に前記多孔質光ファ
イバ母材を位置決めするに際し、前記均熱帯よりも前記
多孔質光ファイバ母材が長尺の場合には、前記均熱帯の
長さと前記多孔質光ファイバ母材の全長との差以上の往
復ストロークを以て前記多孔質光ファイバ母材を前記均
熱帯に沿って往復移動させると共に前記均熱帯に対する
前記多孔質光ファイバ母材の両端部の滞留時間をほぼ等
しく設定する一方、前記多孔質光ファイバ母材の全長が
前記均熱帯の長さ以下に縮小した場合には、前記多孔質
光ファイバ母材を前記均熱帯の中央部に固定するように
したことを特徴とする多孔質光ファイバ母材の処理方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2779086A JPS62187128A (ja) | 1986-02-13 | 1986-02-13 | 多孔質光フアイバ母材の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2779086A JPS62187128A (ja) | 1986-02-13 | 1986-02-13 | 多孔質光フアイバ母材の処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62187128A true JPS62187128A (ja) | 1987-08-15 |
Family
ID=12230767
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2779086A Pending JPS62187128A (ja) | 1986-02-13 | 1986-02-13 | 多孔質光フアイバ母材の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62187128A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1035082A1 (en) * | 1999-03-10 | 2000-09-13 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Process and apparatus for sintering a porous glass preform |
| JP2015017013A (ja) * | 2013-07-10 | 2015-01-29 | 住友電気工業株式会社 | ガラス母材の製造装置および製造方法 |
-
1986
- 1986-02-13 JP JP2779086A patent/JPS62187128A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1035082A1 (en) * | 1999-03-10 | 2000-09-13 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Process and apparatus for sintering a porous glass preform |
| EP1561731A3 (en) * | 1999-03-10 | 2006-04-26 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for sintering a porous glass preform |
| JP2015017013A (ja) * | 2013-07-10 | 2015-01-29 | 住友電気工業株式会社 | ガラス母材の製造装置および製造方法 |
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