JPH079694B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

産業上の利用分野 本発明は塗布型磁気記録層を有する磁気記録媒体に関
し、特に磁気記録層に特徴を有するデジタル記録用磁気
記録媒体に関するものである。 従来の技術及び発明が解決しようとする問題点 現在、磁気記録媒体は、オーディオ、ビデオ、コンピュ
ーター、磁気ディスク、8m/m等の分野で広範囲に使用さ
れるようになっており、将来ビデオフロッピー、高密度
フロッピー等の分野でも使用されることが予想され、そ
れに伴い、磁気記録媒体に記録する情報量も年々増加の
一途をたどり、そのため磁気記録媒体に対しては記録密
度の向上が益々要求されるようになってきている。従来
より、磁気テープなどの磁気記録媒体では、磁気記録層
中の針状磁性粉を長手方向に配向させる等して、磁気特
性を向上させているが、針状磁性粉を長手方向に配向さ
せたものは低周波帯域では高い出力が得られる反面高密
度記録には限界があるものであった。 又、このため最近では磁性粉末が平板状であり、垂直方
向に磁化容易軸を有するバリウムフェライト磁性粉末を
磁気記録層に使用した磁気記録媒体が提案されている
（特開昭57−195328号公報）。 これらのバリウムフェライト磁性粉末を使用したもので
は、短波長記録特性は良好である。特に短波長特性が良
好であるため、デジタル記録用の媒体としてすぐれてい
る。デジタル記録用は現在面内記録方式が中心であり、
さらに高密度化をはかるためには種々のデジタル記録用
の垂直記録媒体の開発がのぞまれる。最近、磁性粉のタ
ッピング充填率により再生出力とノイズの比S/Nが変化
し、安定性が異なることが報告されている（特開昭60−
69822）。それによれば、磁性粉のタッピング充填率が1
5％以上（タップ密度0.80g/cc以上）、粒径0.01〜0.3μ
ｍ、粒径と厚みとの比が2.3〜15の場合、飽和磁化、保
磁力においてすぐれており、充填率が15％未満（タップ
密度0.80g/cc未満）である場合には、磁性粉の強い凝集
が認められ、かつ、得られた磁気記録媒体のS/Nが低く
なる。充填率が15％より大きくなると、個々の磁性粉が
よく分解されて得られた磁気記録媒体のS/Nが高くなる
ことが記載されている。 問題点を解決するための手段 本発明者等はバリウムフェライト磁性粉について更に検
討したところ、バリウムフェライト磁性粉のタップ密度
により、配向性及び電磁変換特性が異なり、特定のタッ
プ密度のものが配向しやすく（第１表参照）、又、電磁
変換特性も良好であり、特に高密度領域で特性が優れて
おり、磁性層の厚さを特定することによりデジタル記録
用として優れて磁気記録媒体が得られることを見出し、
本発明に到達したものである。 すなわち、本発明は非磁性基材上に塗布型磁気記録層を
設けた磁気記録媒体において、磁気記録層がタップ密度
0.75〜0.35g/ccであるバリウムフェライトを用い、磁性
層の厚さが2.0〜0.5μｍであることを特徴とするデジタ
ル記録用磁気記録媒体に関するものである。 タップ密度が0.8g/cc以上のものは、塗膜中に磁性粉が
つまりやすいためか配向しにくい。そのため、フロッピ
ーでのデジタル記録用としての特性である線記録密度
（D₅₀）が悪い。タップ密度が0.75〜0.35g/ccのものは
塗膜中で磁性粉がスムーズに動きやすいためか配向しや
すい。そのためD₅₀が大となる。0.35g/cc未満、例えば
0.30g/cc以下のものはタップ密度が低すぎるためか、塗
料化に際し分散しにくい。分散性が悪く配向しにくい。
そのためD₅₀が小である。又、表面粗度も悪くなる。 飽和磁束密度（Bm）もタップ密度0.75〜0.35g/ccでは比
較的低下が少ない。分解能もNo1をST100％とするとタッ
プ密度0.75〜0.35g/ccのものはすぐれていることがわか
る（第１図参照）。 本発明で使用するバリウムフェライト磁性粉は六方晶系
板状のものであり、化学式BaO・6Fe₂O₃で表わされ、こ
の外、この化学式のBa及びFeの一部がTi,Cr,Co,Zn,In,M
n,Cu,Ge,Nb,Ca,Sr,Pb,Ni等の金属で置換されたものも含
まれる。 バリウムフェライト磁性粉は直径0.2μｍ以下、好まし
くは0.15μｍ以下、更に好ましくは0.1μｍ以下、板状
比に制限はないが、板状比６以上、更に好ましくは８以
上が垂直配向しやすいものである。この場合、板状比の
上限値には特に制限はないが、通常30以下である。ここ
で平均粒径とは、電子顕微鏡写真〔走査型顕微鏡（SE
M）および透過型顕微鏡（TEM）〕によって、例えば六方
晶系バリウムフェライト粒子の断面50個程度を観察し、
粒径についての測定値を平均したものである。平均厚み
も電子顕微鏡写真による測定値の平均である。また板状
比とは平均 粒径／平均厚の値である。あるいは平均厚はＸ線回折の
半値巾によって測定することも出来る。バリウムフェラ
イトは六方晶系板状であるため、針状磁性粉と比べて表
面粗度への影響が大きくなり、上記の径よりも大きくな
ると表面粗度の低下が激しく好ましくない。粒径が前記
のような範囲にある場合は垂直成分が充分に利用され、
かつ磁性層の表面平滑性が良好となり、ノイズも充分に
低く、高密度記録が達成できる。 バリウムフェライトの製法としては、セラミック法、共
沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、ガラス結晶化
法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があり、い
ずれの方法も利用できることは言うまでもない。 その他Co含有酸化鉄粉、γFe₂O₃粉、Fe₃O₄粉、Coフェラ
イト粉、メタル粉末等も利用できる。 この磁性層表面の表面粗度R₂₀は0.08μｍ以下であり、
特にR₂₀が0.06μｍ以下であることが好ましい。R₂₀が0.
08μｍをこえると、表面粗度が悪くなり、そのためヘッ
ドタッチが悪くなって電特低下を生じ、正確な書込み／
読み出しが行えず、高記録密度が達成されない。 この場合、20点平均粗さR₂₀の定義と表示は、JISB0601
に記載されている10点平均粗さＲに準じ、測定点を10点
から20点に増して新たに規定したものである。 すなわち、20点平均粗さR₂₀は、例えば触針計により描
き出された断面曲線を用い、この断面曲線から基準長さ
だけ抜き取った部分において、記録チャート進行方向に
記入した各山頂、谷底の平均線に平行、かつ断面曲線を
横切らない任意の基準直線から縦倍率の方向に測定した
最高から10番目までの山頂の標高の平均値と、最深から
10番目までの谷底までの山頂の標高の平均値と、最深か
ら10番目までの谷底の標高の平均値との差をマイクロメ
ーター（μｍ）で表わしたものをいう。 なお、20点平均粗さR₂₀を求める場合の基準長さＬは、
原則として20点平均粗さR₂₀の範囲によって異なり、 0.8μｍ≦R₂₀の場合 Ｌ＝0.25mm 0.8μｍ＜R₂₀≦6.3μｍの場合 Ｌ＝0.8mm 6.3μｍ＜R₂₀≦25μｍの場合 Ｌ＝2.5mm 25μｍ＜R₂₀≦100μｍの場合 Ｌ＝8mm 100μｍ＜R₂₀≦400μｍの場合 Ｌ＝25mm とする。 また、カットオフ値は、触針スピード30μm/secで、0.1
8〜9Hz程度とする。 また触針計の針圧は2mgとする。 本発明の磁気記録媒層には通常用いられる有機バインダ
ー、無機顔料、潤滑剤、その他、分散剤、帯電防止剤等
を常に従って用いることができる。 本発明の磁気記録層で用いる有機バインダーは、従来、
磁気記録媒体用に利用されている熱可塑性、熱硬化性又
は反応型樹脂やこれらの混合物が使用されるが、得られ
る塗膜強度等の点から硬化型、特に放射線硬化型の樹脂
が好ましい。 熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃以下、平均分子
量が10,000〜200,000、重合度が約200〜2,000程度のも
ので、例えば塩化ビニール−酢酸ビニール共重合体（カ
ルボン酸導入のものも含む）、塩化ビニル−酢酸ビニル
−ビニルアルコール共重合体（カルボン酸導入のものも
含む）、塩化ビニール−塩化ビニリデン共重合体、塩化
ビニール−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エス
テル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル
−塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステル−スチ
レン共重合体、メタクリル酸エステル−アクリロニトリ
ル共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニリデン共
重合体、メタクリル酸エステル−スチレン共重合体、ウ
レタンエラストマー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニト
ロセルロース−ポリアミド樹脂、ポリフッ化ビニル、塩
化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ブタジエン
−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビ
ニールブチラール、セルロース誘導体（セルロースアセ
テート、セルロースダイアセテート、セルローストリア
セテート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロー
ス等）、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリエステル
樹脂、クロロビニルエーテル−アクリル酸エステル共重
合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及
びこれらの混合物が使用される。 熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗布液の状態で
は200,000以下の分子量であり、塗布、乾燥後に加熱す
ることにより、縮合、付加等の反応により分子量は無限
大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱
分解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好まし
い。具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、
ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ア
ルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、エ
ポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミン樹
脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポ
リマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシア
ネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオール
とポリイソシアネートの混合物、尿素ホルムアルデヒド
樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジオール／トリフ
ェニルメタントリイソシアネートの混合物、ポリアミン
樹脂、及びこれらの混合物である。 バインダーは放射線硬化型化合物を硬化したものを用い
ることが好ましい。 放射線硬化性化合物の具体例としては、ラジカル重合性
を示す不飽和二重合を有すアクリル酸、メタクリル酸、
あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル系二
重結合、ジアクリルフタレートのようなアリル系二重結
合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等
の、放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱
可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。
その他放射線照射により架橋重合する不飽和二重結合を
有する化合物であれば用いることができる。 放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽和
ポリエステル樹脂がある。 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば下記（２）の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成る飽和ポリエステル樹脂
で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不飽
和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げる
ことができる。放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂は
多塩基酸成分１種以上と多価アルコール成分１種以上に
マレイン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒の存
在下で、180〜200℃、窒素雰囲気下、脱水あるいは脱ア
ルコール反応の後、240〜280℃まで昇温し、0.5〜1mmHg
の減圧下、縮合反応により得ることができる。マレイン
酸やフマル酸等の含有量は、製造時の架橋、放射線硬化
性等から酸成分中１〜40モル％、好ましくは10〜30モル
％である。 放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。 （１）塩化ビニール系共重合体 塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニールビニルアルコー
ル−マレン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−
末端OH側鎖アルキル基共重合体、たとえばUCC社製VRO
H、VYNC、VYBGX、VERR、VYES、VMCA、VAGH、UCARMAG52
0、UCARMG 528等が挙げられ、このものに後述の手法に
より、アクリル系二重結合、マレイン酸系二重結合、ア
リル系二重結合を導入して放射線感応変性を行う。 （２）飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、1,2プロピレングリコール、1,3
ブタンジオール、ジプロピレングリコール、1,4ブタン
ジオール、1,6ヘキサンジオール、ペンタエリスリッ
ト、ソロビトール、グリセリン、ネオペンチルグリコー
ル、1,4シクロヘキサンジメタノールのような多価アル
コールとのエステル結合により得られる飽和ポリエステ
ル樹脂又はこれらのポリエステル樹脂をSO₃Na等で変性
した樹脂（例えばバイロン53S）が例として挙げられ、
これらも同様にして放射線感応変性を行う。 （３）ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂及びこれらの成分の共重合体で、こ
れら樹脂中に含まれる水酸基に対し後述の手法により放
射線感応変性を行う。 （４）エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂 ビスフェノールＡとエピクロルヒドリン、メチルエピク
ロルヒドリンの反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル
化学製（エピコート152、154、828、1001、1004、100
7）、ダウケミカル製（DEN431、DER732、DER511、DER33
1）、大日本インキ製（エピクロン400、800）、更に上
記エポキシの高重合度樹脂であるUCC社製フェノキシ樹
脂（PKHA、PKHC、PKHH）、臭素化ビスフェノールＡとエ
ピクロルヒドリンとの共重合体、大日本インキ化学工業
製（エピクロン145、152、153、1120）等があり、又こ
れらにカルボン酸基を含有するものも含まれる。これら
樹脂中に含まれるエポキシ基を利用して放射線感応変性
を行う。 （５）繊維素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは硝化
綿、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、
ブチルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適であ
る、樹脂中の水酸基を活用して後述の方法により放射線
感応変性を行う。 その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂及び誘導体（PVPオレ
フィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、
フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を含有
するアクリルエステル及びメタクリルエステルを重合成
分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等も有効であ
る。 以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げ
る。 （１）ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性、及び基体フィルム、例
えばPETフィルムへの接着性が良い点で特に有効であ
る。ウレタン化合物の例としては、イソシアネートとし
て、2,4−トルエンジイソシアネート、2,6−トルエンジ
イソシアネート、1,3−キシレンジイソシアネート、1,4
−キシレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソ
シアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フ
ェニレンジイソシアネート、3,3′−ジメチル−4,4′−
ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4′−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート、3,3′−ジメチルビフェニ
レンジイソシアネート、4,4′−ビフェニレンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソフォ
ロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソ
シアネート、デスモジュールＬ、デスモジュールＮ等の
各種多価イソシアネートと、線状飽和ポリエステル（エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリ
ン、トリメチロールプロパン、1,4−ブタンジオール、
1,6−ヘキサンジオール、ペンタエリスリット、ソルビ
トール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサ
ンジメタノールの様な多価アルコールと、フタル酸、イ
ソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、アジピン酸、セ
バシン酸の様な飽和多塩基酸との縮重合によるもの）、
線状飽和ポリエーテル（ポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコー
ル）やカプロラクタム、ヒドロキシル含有アクリル酸エ
ステル、ヒドロキシル含有メタクリル酸エステル等の各
種ポリエステル類の縮重合物より成るポリウレタンエラ
ストマー、プレポリマーが有効である。 これらのウレタンエラストマーの末端のイソシアネート
基又は水酸基と、アクリル系二重結合又はアクリル系二
重結合等を有する単量体とを反応させることにより、放
射線感応性に変性することは非常に効果的である。又、
末端に極性基としてOH、COOH等を含有するものも含む。 さらに不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノあるい
はジグリセリド等、イソシアネート基と反応する活性水
素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合を
有する単量体も含まれる。 （２）アクリロニトリル−ブタジエン共重合体エラスト
マー シンクレアペトロケミカル社製ポリBDリタイッドレジン
として市販されている末端水酸基のあるアクリロニトリ
ルブタジエン共重合体プレポリマーあるいは日本ゼオン
社製ハイカー1432J等のエラストマーは、特にブタジエ
ン中の二重結合が放射線によりラジカルを生じ架橋及び
重合させるエラストマー成分として適する。 （３）ポリブタジエンエラストマー シンクレアペトロケミカル社製ポリBDリタイッドレジン
Ｒ−15等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマーが
特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。Ｒ−15
プレポリマーにおいては分子末端が水酸基となっている
為、分子末端にアクリル系不飽和二重結合を付加するこ
とにより放射線感応性を高めることが可能であり、バイ
ンダーとして更に有利となる。 またポリブタジエンの環化物、日本合成ゴム製CBR−M90
1も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質を有し
ている。 その他、熱可塑性エラストマー及びそのプレポリマーの
系で好適なものとしては、スチレン−ブタジエンゴム、
塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム及びその環化
物（日本合成ゴム製CIR701）があり、エポキシ変性ゴ
ム、内部可塑化飽和線状ポリエステル（東洋紡バイロン
＃300）等のエラストマーも下記に述べる放射線感応変
性処理を施こすことにより有効に利用できる。 オリゴマー、モノマーとして本発明で用いられる放射線
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、1,6−ヘキサングリコールジアクリ
レート、1,6−ヘキサングリコールジメタクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリメタクリレート、多官能オリゴエステ
ルアクリレート（アロニックスＭ−7100、Ｍ−5400、55
00、5700等、東亜合成）、ウレタンエラストマー（ニッ
ポラン4040）のアクリル変性体、あるいはこれらのもの
にCOOH等の官能基が導入されたもの、トリメチロールプ
ロパンジアクリレート（メタクリレート）、フェノール
エチレンオキシド付加物のアクリレート（メタクリレー
ト）、下記一般式で示されるペンタエリスリトール縮合
環にアクリル基（メタクリル基）またはε−カプロラク
トンアクリル基のついた化合物、 式中、ｍ＝１、ａ＝２、ｂ＝４の化合物（以下、特殊ペ
ンタエリスリトール縮合物Ａという）、 ｍ＝１、ａ＝３、ｂ＝３の化合物（以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Ｂという）、 ｍ＝１、ａ＝６、ｂ＝０の化合物（以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Ｃという）、 ｍ＝２、ａ＝６、ｂ＝０の化合物（以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Ｄという）、 及び下記一般式で示される特殊アクリレート類等が挙げ
られる。 （１）（CH₂＝CHCOOCH）_３−CCH₂OH （特殊アクリレートＡ） （２）（CH₂＝CHCOOCH₂）_３−CCH₂CH₃ （特殊アクリレートＢ） （３）〔CH₂＝CHCO（OC₃H₆）ｎ−OCH₂〕_３−CCH₂CH₃ （ｎ＝３）（特殊アクリレートＣ） （８）CH₂CHCOO−（CH₂CH₂O）_４−COCH＝CH₂ （特殊アクリレートＨ） A:アクリル酸、X:多価アルコール Y:多塩基酸（特殊アクリレートＫ） 次に、放射線感応性バインダー合成例を説明する。 ａ）塩化ビニール酢酸ビネール共重合体系樹脂のアクリ
ル変性体（放射線感応性樹脂）の合成 OH基を有する一部ケン化塩ビ−酢ビ共重合体（平均重合
度ｎ＝500）750部とトルエン1250部、シクロヘキサノン
500部を5lの４つ口フラスコに仕込み加熱溶解し、80℃
昇温後トリレンジイソシアネートの２−ヒドロキシエチ
ルメタクリレートアダクト※を61.4部加え、更にオクチ
ル酸スズ0.012部、ハイドロキノン0.012部を加え80℃で
N₂気流中、NCO反応率が90％となるまで反応せしめる。
反応終了後冷却し、メチルエチルケトン1250部を加え希
釈する。

【※トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）の２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート（２ＨＥＭＡ）アダクトの製
法 TDI348部をN₂気流中1lの４つ口フラスコ内で80℃に加熱
後、２−エチレンメタクリレート260部、オクチル酸ス
ズ0.07部、ハイドロキノン0.05部を反応缶内の温度が80
〜85℃となるように冷却コントロールしながら摘下終了
後80℃で３時間撹拌し反応を完結させる。反応終了後取
り出して冷却後白色ペースト状のTDIの2HEMAを得た。】 ｂ）ブラール樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応変
性樹脂） ブチラール樹脂積水化学製BM−S100部をトルエン191.2
部、シクロヘキサノン71.4部と共に5lの４つ口フラスコ
に仕込み加熱溶解し80℃昇温後TDIの2HEMAアダクト※を
7.4部加え、更にオクチル酸スズ0.015部、ハイドロキノ
ン0.015部を加え、80℃でN₂気流中NCO反応率が90％以上
となるまで反応せしめる。反応終了後冷却し、メチルエ
チルケトンにて希釈する。 ｃ）飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂） 飽和ポリエステル樹脂（東洋紡製バイロンRV−200）、1
00部をトルエン116部、メチルエチルケトン116部に加熱
溶解し80℃昇温後TDIの2HEMAアダクト※を3.55部加え、
オクチル酸スズ0.007部、ハイドロキノン0.007部を加
え、80℃、N₂気流中NCO反応率が90％以上となるまで反
応せしめる。 ｄ）◎エポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応
変性樹脂） エポキシ樹脂（シエル化学製エピコート1007）、400部
をトルエン50部、メチルエチルケトン50部に加熱溶解
後、N,N−ジメチルベンジルアミン0.006部、ハイドロキ
ノン0.003部を添加し80℃とし、アクリル酸69部を滴加
し80℃で酸価５以下となるまで反応せしめる。 ◎フェノキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応変
性樹脂） OH基を有するフェノキシ樹脂（PKHH:UCC社製 分子量3
0,000）600部、メチルエチルケトン1800部を31の４ッ口
フラスコに仕込み、加熱溶解し、80℃昇温後、トリレン
ジイソシアネートの２ヒドロキシエチルメタクリレート
アダクトを6.0部加え、更にオクチル酸スズ0.012部、ハ
イドロキノン0.012部を加え、80℃でN₂気流中、NCO反応
率が90％となるまで反応せしめる。このフェノキシ変性
体の分子量は35,000、１分子当りの二重結合は１個であ
る。 ｅ）ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成（放射
線硬化性エラストマー） 末端イソシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト（MDI）系ウレタンプレポリマー（日本ポリウレタン
製ニッポラン3119）250部、2HEMA32.5部、ハイドロキノ
ン0.07部、オクチル酸スズ0.009部を反応缶に入れ、80
℃に加熱溶解後TDI43.5部を反応缶内の温度が80〜90℃
となるように冷却しながら滴下し、滴下終了後80℃で反
応率95％以上となるまで反応せしめる。 ｆ）ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体（放射線硬化性エラストマー）の合成 日本ポリウレタン社製ポリエーテルPTG−500、250部、2
HEMA32.5部、ハイドロキノン0.007部、オクチル酸スズ
0.009部を反応缶に入れ、80℃に加熱溶解後TDI43.5部を
反応缶内の温度が80〜90℃となるように冷却しながら滴
下し、滴下終了後80℃で反応率95％以上となるまで反応
せしめる。 ｇ）ポリブタジエンエラストマーアクリル変性体の合成
（放射線硬化性エラストマー） シンクレアペトケミカル社製低分子量末端水酸基ポリブ
タジエンポリBDリクイットレジンＲ−15、250部、2HEMA
32.5部、ハイドロキノン0.007部、オクチル酸スズ0.009
部を反応缶に入れ、80℃に加熱溶解後TDI43.5部を反応
缶内の温度が80〜90℃となるように冷却しながら滴下
し、滴下終了後80℃で反応率95％以上となるまで反応せ
しめる。 高分子には放射線照射により崩壊するものと分子間に架
橋を起こすものが知られている。分子間に架橋を起こす
ものとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミ
ド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリビニルピロリ
ドンゴム、ポリビニルアルコール、ポリアクロレインが
ある。この様な架橋型ポリマーであれば上記のような変
性を特に施さなくても、架橋反応が起こるので、前記変
性体の他に、これらの樹脂はそのまま放射線架橋用とし
て使用可能である。 更にまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤型
の樹脂であっても短時間で硬化することができるので、
この様に樹脂を用いることができる。 このような放射線硬化性樹脂を用いることによって大径
のいわゆるジャンボロールで巻きしまりがなくなり、ジ
ャンボロール内外での電磁変換特性の差がなくなり特性
が向上する。またオンラインで行えるので生産性が良く
なる。 磁性粉／バインダーは、重量比で1/1〜9/1、特に2/1〜8
/1であることが好ましい。 このような割合とするのは1/1未満では飽和磁束密度が
低くなり、9/1を超えると分散不良により表面粗度が悪
くなり、また塗膜ももろくなり好ましくなくなるからで
ある。 本発明では必要に応じ、非反応性溶剤が使用される。溶
剤としては特に制限はないが、バインダーの溶解性およ
び相溶性等を考慮して適宜選択される。 例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコ
ール類；ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテル
等のエステル類；イソプロピルエーテル、エチルエーテ
ル、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチ
ルエーテル、、ジオキサン等のエーテル類；ベンゼン、
トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水
素類；テトラヒドロフラン、フルフラール等のフラン
類；メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化
炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロ
ルベンゼン等の塩素化炭化水素、その他ジメチルホルム
アミド等が単一溶剤またはこれらの混合溶剤として使用
される。 これらの溶剤はバインダーに対して10〜10000wt％、特
に100〜5000wt％の割合で用いる。 磁性層には無機顔料が含まれていてもよい。 無機顔料としては、１）導電性のあるカーボンブラッ
ク、グラファイト、グラファイト化カーボンブラック、
また２）無機充填剤としてSiO₂、TiO₂、Al₂O₃、Cr₂OSi
C、CaO、CaCO₃、酸化亜鉛、ゲーサイト、γFe₂O₃、タル
ク、カオリン、CaSO₄、窒化硼素、フッ化黒鉛、二硫化
モリブデン、ZnS等がある。またこの他、次のような微
粒子顔料（エアロジルタイプ、コロイダルタイプ）:SiO
₂、Al₂O₃、TiO₂、ZrO₂、Cr₂O₃、Y₂O₃、CeO₂、Fe₃O₄、Fe
₂O₃、ZrSiO₄、Sb₂O、SnO等も用いられる。これら微粒子
顔料は、例えばSiO₂の場合、無機硅酸の超微粒子コロ
イド溶液（スノーテックス、水系、メタノールシリカゾ
ル等、日産化学）、精製四塩化ケイ素の燃焼によって
製造される超微粒子状無水シリカ（標準品100Å）（ア
エロジル、日本アエロジル株式会社）などが挙げられ
る。又、前記の超微粒子コロイド溶液及びと同様の
気相法で製造される超微粒子状の酸化アルミニウム、並
びに酸化チタン及び前述の微粒子顔料が使用され得る。
この様な無機顔料の使用量は１）に関しては磁性粉100
重量部に対して１〜30重量部、又２）に関しては１〜30
重量部が適当であり、これらがあまり多くなると、塗膜
がもろくなり、かえってドロップアウトが多くなるとい
う欠点がある。 また、無機顔料の系については１）に関しては0.1μｍ
以下、さらには0.05μｍ以下が好ましく、２）に関して
は0.7μｍ以下、さらには0.5μｍ以下が好ましい。 磁性層には分散剤が含まれていてもよい。 分散剤としては有機チタンカップリング剤、シランカッ
プリング剤や界面活性剤が、帯電防止剤としてサポニン
などの天然界面活性剤；アルキレンオキサイド系、グリ
セリン系、グリシドール系などのノニオン界面活性剤；
高級アルキルアミン類、第４級アンモニウム塩類、ピリ
ジンその他の複素環類、ホスホニウム又はスルホニウム
類などのカチオン界面活性剤；カルボン酸、スルホン
酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の酸性基
を含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類
等の両性活性剤などが使用される。 磁性層には潤滑剤が含まれていてもよい。 潤滑剤としては従来この種の磁気記録媒体に用いられる
潤滑剤としてシリコンオイル、弗素オイル、脂肪酸、脂
肪酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、界面活性
剤等を用いることができる、脂肪酸および／又は脂肪酸
エステルを用いるのが好ましい。 脂肪酸としてはカプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、
ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン
酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン
酸、ステアロール酸等の炭素数12以上の脂肪酸（RCOO
H、Ｒは炭素数11以上のアルキル基）であり、脂肪酸エ
ステルとしては、炭素数12〜16個の一塩基性脂肪酸と炭
素数３〜12個の一価のアルコールからなる脂肪酸エステ
ル類、炭素数17個以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭
素数と合計して炭素数が21〜23個より成る一価のアルコ
ールとから成る脂肪酸エステル等が使用され、又前記脂
肪酸のアルカリ金属又はアルカリ土類金属からなる金属
石鹸、レシチン等が使用される。 シリコーンとしては脂肪酸変性よりなるもの、一部フッ
素変性されているものが使用される。アルコールとして
は高級アルコールよりなるもの、フッ素としては電解置
換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーション等によ
って得られるものが使用される。 潤滑剤の中では放射線硬化型のものも使用して好都合で
ある。 放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、グルセライド等があり、これらの潤
滑剤を構造式で表すと、 CH₂＝CHCOOR、 CH₂＝CH−CH₂COOR、 CH₂＝CHCONHCH₂OCOR、 RCOOCH₂−CH＝CH₂等で、ここでＲは直鎖又は分枝状の飽
和もしくは不飽和炭化水素基で、炭素数は７以上、好ま
しくは12以上23以下であり、これらは弗素置換体とする
こともできる。弗素置換体としては CnF₂n₊₁−、CnF₂n₊₁（CH₂）ｍ−（但し、ｍ＝１〜
５）、 CnFnCH₂CH₂NHCH₂CH₂−、 等がある。 これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート（アクリレート）、ステア
リルアルコールのメタクリレート（アクリレート）、グ
リセリンのメタクリレート（アクリレート）、グリコー
ルのメタクリレート（アクリレート）、シリコーンのメ
タクリレート（アクリレート）等が挙げられる。 潤滑剤の入っていない磁気記録層は摩擦係数が高いため
画像のゆらぎが生じ、ジッターが発生し易いと共に、特
に高温走行下で摩擦係数が高いため磁気記録層の削れが
発生し易く、巻きみだれを生じ易いものである。又、デ
ィスク媒体では耐久走行性が劣ったり、塗膜ケズレが発
生したりする。 分散剤および潤滑剤はバインダーに対して0.1〜20重量
％含ませるのがよい。 バインダー量が多すぎるとブロッキングが出、バインダ
ーが少なすぎるとカレンダー工程での付着が発生して好
ましくない。 なお本発明の磁気記録層の塗布乾燥後の厚みは0.1〜10
μｍの範囲が一般的である。 磁性層の潤滑剤、有機バインダーが放射線硬化型の場
合、その架橋に使用する活性エネルギー線としては、放
射線加速器を線源とした電子線、Co60を線源としたγ−
線、Sr90を線源としたβ−線、Ｘ線発生器を線源とした
Ｘ線あるいは紫外線等が使用される。 特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加熱器
により放射線を使用する方法が有利である。 本発明に使用される非磁性基材としては、ポリエチレン
テレフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等
のポリオレフィン類、セルローストリアセテート等のセ
ルロース誘導体、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリ
サルホン、ポリエチレンナフタレート、芳香族アラミ
ド、芳香族ポリエステル、アルミニウム等の金属板、ガ
ラス板等が使用されるが、これらに限定されるものでは
ない。これらの中では、特にポリエステル、ポリアミ
ド、ポリイミド等を用いることが好ましい。 本発明の磁気記録媒体では支持体の両面に磁性層を設け
てもよい。特にフロッピーディスクの場合は両面に磁性
層を設けているものが好ましい。 また本発明の磁気記録媒体は必要に応じてバックコート
およびトップコートを設けてもよい。 これらのうちバックコートは、バインダー、顔料および
潤滑剤からなる組成とするのがよい。 バインダーとしては、前述の磁性層に用いた放射線硬化
性樹脂を使用することができるが、例えば（Ａ）放射線
により硬化性をもつ不飽和二重結合を２個以上有する、
分子量5,000〜100,000のプラスチック状化合物、（Ｂ）
放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を１個以上有
するか、または放射線硬化性を有しない、分子量3,000
〜100,000のゴム状化合物、および（Ｃ）放射線により
硬化性をもつ不飽和二重結合を１個以上有する、分子量
200〜3,000の化合物を、（Ａ）20〜70重量％、（Ｂ）20
〜80重量％、（Ｃ）10〜40重量％の割合で用いた組合せ
が好ましい。 また熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂も用いることがで
き、これらは平均分子量200,000以下のものが好まし
い。 特に好ましいものは、繊維素樹脂（硝化綿等）、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレタ
ンの組合せからなる熱硬化性樹脂（硬化剤使用）であ
る。 顔料としては、前述の磁性層に用いた無機顔料を使用す
ることができる。そのなかの１）に関してバインダー10
0重量部に対して20〜300重量部、２）に関しては10〜30
0重量部含ませることが好ましい。 潤滑剤としては前述の磁性層に用いたものが使用でき
る。なかでも脂肪酸および／または脂肪酸エステルを用
いるのが好ましい。 本発明の磁気記録媒体を製造するには常法に従って行え
ばよく、磁性粉をバインダー、有機溶剤等とともに混合
分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料をポリエステ
ルフィルムなどの基体上にグラビアコート、リバースロ
ールコート、エアーナイフコート、エアードクターコー
ト、ブレードコート、キスコート、スプレイコートなど
の手法を用いて塗布し、磁性粉の磁化容易方向が磁性層
に対して垂直方向となるように配向処理を行って乾燥
し、好ましくは常法に従い放射線硬化すればよい。そし
て必要に応じてバックコートおよびトップコートを設け
ればよい。 配向処理は、常法に従う。 配向方法としては永久磁石、直流磁石、交流磁場が代表
的なものとして用いられ、それらのものの各種組合せ、
例えば垂直と水平の組合せ、永久磁石または直流磁場と
交流磁場の組合せ、機械的配向や機械的配向と上記の組
合せ等、種々のものが用いられる。 そして磁場外で磁性粒子が反磁場のために配向したもの
が乱れ、配向性の低下を生じないよう磁場内で乾燥さ
せ、反磁場が働いてもそれらの影響が出ないよう、磁場
内である程度乾燥させ、磁性粉が動かないようにする必
要がある。 磁場強度としては1000〜6000Gが好ましい。この場合、
本発明では、板状比が６以上と配向しやすい場合、1000
〜4000G程度でも十分目的にかなうものとなる。 本発明の記録媒体において、さらに支持体と磁性層との
間にパーマロイ等の高透磁率金属薄膜や下記に示すよう
な塗膜のアンダーコート層を設けることもできる。これ
らは併用してもよい。 塗膜のアンダーコート層には、前述したような放射線硬
化型化合物とカーボンブラックおよび／または界面活性
剤を含有させることが好ましい。 用いるカーボンブラックはファーネス、チャンネル、ア
セチレン、サーマル、ランプ等、いずれの方法で製造さ
れたものでもよいが、アセチレンブラック、ファーネス
ブラック、チャンネルブラック、ローラーおよびディス
クブラック及びドイツナフタリンブラックが好ましい。 カーボンブラックの粒子径はどのようなものでもよい
が、好ましいのは、電子顕微鏡撮影法により測定して10
〜100mμｍ、特に好ましくは10〜80mμｍである。更に
粒子系について言えば、粒子100mμｍを超えるとアンダ
ーコート層面の表面粗度が悪くなり、磁性層塗布後の電
特低下の原因となる。また10mμｍ未満では分散がうま
くいかず、やはりアンダーコートの表面粗度が悪くな
る。 カーボンブラックには特殊なものとしてグラファイト化
カーボンブラックがあり、本発明ではグラファイト化カ
ーボンブラックも用いることができる。 このようなアンダーコート層を設けることによって、媒
体のヘッドへのはりつき、また、塗布工程等の製造工程
中にガイドローラ、カレンダローラ等のはりつき、放電
ノイズ等の発生を防止することができる。 アンダーコート層の厚さは10Å〜３μｍ程度とすること
が好ましい。 実施例 実施例にて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は
これらに限定されるものではないことは言うまでもな
い。 特性は以下のようにして評価した。 （１）板状比 電子顕微鏡写真〔走査形顕微鏡（SEM）および透過形顕
微鏡（TEM）〕によって六方晶系のバリウムフェライト
粒子50個について断面を観察し、六角形の粒径について
の測定値を平均して求めた平均粒径と厚さについての測
定値を平均して求めた平均厚みとから平均粒径／平均市
みを算出し、板状比とした。 あるいはＸ線回折による２θの半値巾によってこれらの
値を測定することも出来る。 （２）表面粗度R₂₀ JISB0601に規定してある10点平均粗さの求め方に準じて
行った。なおJISでは10点平均法を規定しているが、本
発明の評価方法として、さらに厳密にするため20点平均
とした。 カットオフ値は、触針スピード30μm/secで0.18〜9Hz程
度、または針圧は2mgとした。 使用した触針式表面粗さ測定器はタリステップ−１、TA
YLOR HOBSON社製である。 （３）垂直配向度 磁気テープの垂直方向の角形比Br/Bmを測定し、反磁場
補正を行った。 （４）線記録密度D₅₀（KFRPI） 回転数300r.p.m.、ヘッド；フェライトヘッド、ギャッ
プ0.3μｍにて低記録密度領域での出力（Ｅ）が高記録
密度領域でE/2となる線記録密度D₅₀（KFRPI）を測定し
た。 （５）分解能 上記線記録密度D₅₀の測定において、48KFRPI/12KFRPIの
分解能を算出した。 表１に示されるサンプルNo.1を基準とし、この値を100
％として他のものを％単位に換算した。 （６）タップ密度 バリウムフェライト磁性粉Mgを内径３φ（cm）のサンプ
ル管に入れ、５分間タップ密度試験機で振動させ、振動
後のサンプル管の磁性粉の高さＸ（cm）を測定する。 実施例１ 厚さ75μｍのポリエステル（PET）フィルムの表面と裏
面の両面上に下記に示すようなアンダーコート層を設置
した。 アンダーコート層 重量部 カーボンブラック20mμｍ 50 （Ａ）アクリル変性塩ビ−酢ビ−ビニルアルコール共重
合体 分子量45,000 40 （Ｂ）アクリル変性ポリウレタンエラストマー分子量2
0,000 40 （Ｃ）オリゴエステルポリアクリレート 分子量1,0002
0 ステアリン酸 ２ ステアリン酸ブチル ２ 混合溶剤（MIBK/トルエン＝1/1） 300 上記組成物をボールミル中５時間分散させ、上記のポリ
エステル（PET）フィルム上に乾燥厚0.7μｍになるよう
に塗布し、表面平滑化処理を行い、エレクトロカーテン
タイプ電子線加速装置を用いて加速電圧150KeV、電極電
流10mA、吸収線量5Mrad、N₂ガス中で電子線をアンダー
コート層に照射した。 このようなアンダーコート層の両面上に、さらに下記に
示されるように磁性塗料からなる磁性層を形成し、種々
のサンプルを作製した。 すなわち、まず最初に、第１表に示すタップ密度の六方
晶系バリウムフェライトＡ（BaFe₁₂O₁₈のBa、Feを一部
置換したものを水熱合成法で合成）を用いて以下のよう
にして磁性塗料を作成した。 磁性層１（放射線硬化型磁性層） 重量部 バリウムフェライト（径0.1μ、Hc80Oe） 120 カーボンブラック30μｍ 10 α−Al₂O₃粉末（0.5μ粉状） ２ 溶剤（MEK/トルエン50/50） 100 上記組成物をボールミル中にて３時間混合し、六方晶系
板状バリウムフェライトを良く湿潤させる。次に 塩ビ−酢ビ−ビニルアルコール共重合体（マレイン酸含
有）分子量40,000 ６部（固型分換算） アクリル二重結合導入塩酢ビ共重合体（マレイン酸含
有）分子量20,000 12（固型分換算） アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー分子量40,000 ９部（固型分換算） ペンタエリスリトールトリアクリレート ３部 溶剤（MEK/トルエン50/50） 200部 ステアリン酸 ４部 ステアリン酸ブチル ２部 のバインダーの混合物を良く混合溶解させる。 これを先の磁性粉処理を行なったボールミル中に投入
し、再び42時間分散させる。 この様にして得られた磁性塗料を上記アンダーコート層
上に塗布し、永久磁石（3000ガウス）上で乾燥させなが
ら垂直配向させ、その後、連続して赤外線ランプまたは
熱風により溶剤を乾燥させた（これらは同時に並用して
もよい）後、表面平滑化処理後、ESI社製エレクトロカ
ーテンタイプ電子線加速装置を使用して、加速電圧150K
eV、電極電流20mA、全照射量5Mradの条件下でN₂雰囲気
下にて電子線を照射し、塗膜を硬化させた。硬化後の塗
膜圧は磁性層1.5μｍであった。なお、この膜厚の測定
は電子マイクロメーターで行った。これらの塗膜をフィ
ルムの両面に形成し、両面コートとした。このようにし
て作成したサンプルを前出の第１表に示した。前述のよ
うにタップ密度が適度のものは磁場中で動き易いため配
向しやすい。特に配向しやすいため高密度領域ですぐれ
たものとなりD₅₀が大となる。しかも比較的Bmの低下が
少ないため電特上すぐれたものとなる。 また第２表に示すように粒径0.1μｍ以下のものが電特
上好ましいが、実用に耐える範囲では粒径0.15μｍ迄の
ものが使用できる。 実施例２ 六方晶系バリウムフェライト（BaFe₁₂O₁₉のBa、Feを一
部変換したものを水熱合成法で合成）平均粒径0.08μ
ｍ、タップ密度0.50g/cc、Hc＝700 120重量部 α−Al₂O₃（0.5μ粉末） ２重量部 グラファイト化カーボン＃4000B20μｍ 12重量部 分散剤（大豆油未精製レシチン） ３重量部 および 溶剤（MEK/シクロヘキサノン70/30） 100重量部 を用いて実施例１と同様にして磁性粉混合物を作った。 次に、バインダーとして 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニアルコール共重合体（マ
レイン酸含有）分子量20,000 ６重量部（固型分換算） アクリル変性フェノキシ樹脂分子量35,000６重量部（固
型分換算） アクリル変性ポリエーテルウレタンエラストマー分子量
20,000 18重量部（固型分換算） 溶剤（MEK/シクロヘキサノン70/30） 200重量部 高級脂肪酸変性シリコーンオイル ３重量部 および ミリスチン酸ブチル ３重量部 混合溶解させた。 その後、実施例１と同様の操作により試料Ａを作成し、
特性を調べた。 とだし、配向処理は交流磁場（3000G）を用いて行っ
た。 この試料Ａの特性を以下に示す。 R₂₀ 0.05μｍ 垂直配向度 0.94 D₅₀ 75KFRPI 試料Ａにおいて放射線硬化型のバインダーを熱硬化型に
かえて同様に処理した。 すなわち塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共
重合体（マレイン酸含有）アクリル変性フェノキシ樹
脂、アクリル変性ポリエーテルウレタンエラストマー計
30重量部を、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコー
ル共重合体（ユニオンカーバイド社製VAGH）15重量部お
よびウレタン（日本ポリウレタン社ニッポラン3022）15
重量部に代える以外は、試料Ａと同様に試料Ｂを作製し
た。ただし、この場合、分散後磁性塗料中にイソシアネ
ート化合物（日本ポリウレタン社製コロネートＬ）を５
重量部（固型分換算）加えた。また表面平滑後、80℃で
48時間熱硬化を行った。 試料ＡおよびＢについて８インチ径の巻きとりロールに
5000m巻きとったときのジャンボロールの外側と内側で
の分解能（％）の値を求めた。 この結果を以下に示す。 この結果より試料Ｂではジャンボロールでの巻きしまり
があり、内側での分解能の低下が著しいことがわかる。 実施例３ 実施例１のサンプルNo.6（第１表）と同一の平均粒径を
有する板状磁性粉ならびにバインダーを用いて、第３表
に示されるような磁性層の厚さを種々変えたサンプルを
作製した。 なお、製造方法は実施例１の場合と同様に行い、アンダ
ーコート層も同様に設けた。 特性は、前記のR₂₀、垂直配向度、D₅₀を測定した。結果
を第３表に示した。 発明の効果 タップ密度が0.75〜0.35g/cc以下のものは塗膜中で動き
やすいために磁場中で配向しやすい。0.75g/ccを超える
ものは塗膜中でつまりやすいために磁場中で動きにくく
配向しにくい。0.35g/cc未満のものはタップ密度が低す
ぎるため塗料化工程で分散しにくい。そのため分散不良
となり、磁場配向しにくく、表面粗度が悪くなる。0.75
〜0.35g/ccの範囲のものはBmの低下も比較的少ないた
め、デジタルでは線記録密度（D₅₀）、分解能がすぐれ
たものとなる。又磁性層の厚さが2.0〜0.5μｍのもので
は、デジタル記録用として線記録密度（D50）の優れた
ものが得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は第１表の試料のタップ密度と垂直角型比および
線記録密度との関係を示すグラフであり、第２図は第３
表の磁性層厚さと垂直配向度および線記録密度との関係
を示すグラフである。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】非磁性基材上に塗布型磁気記録層を設けた
   磁気記録媒体において、磁気記録層がタップ密度0.75〜
   0.35g/ccであるバリウムフェライトを用い、磁性層の厚
   さが2.0〜0.5μｍであることを特徴とするデジタル記録
   用磁気記録媒体。
2. 【請求項２】バリウムフェライトが粒径0.15μｍ以下で
   ある特許請求の範囲第１項記載のデジタル記録用磁気記
   録媒体。