JPS6221002Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔考案の技術分野〕 この考案は複数の半導体ウエハを回転により乾
燥させる回転乾燥機に関する。

〔考案の技術的背景〕

一般に、回転乾燥機は、錆、ゴミ等を半導体ウ
エハに付着させることなく、乾燥させることを目
的とする。第１図はこの回転乾燥機１の外観斜視
図、第２図はその蓋２を開き内部構造を示す斜視
図である。第２図において、３は回転ドラム、４
_１〜４_４はそれぞれこの回転ドラム３内に設けら
れたホルダで、これらホルダ４_１〜４_４内に複数
の半導体ウエハを保持したカセツト（図示せず）
が収納されるようになつている。また、５は処理
槽、６はこの処理槽５を洗浄した際の水、ゴミ等
を外部に排出するための排出孔である。

第３図は上記回転ドラム３の下部における駆動
部の構造を示す断面図である。同図において、回
転ドラム３の底面部には複数のねじ（図示せず）
によりカツプリング７の上端部が固定されてい
る。このカツプリング７の底部には円筒状の凸部
８が設けられると共に、この凸部８の外周部に沿
つて環状の凹部９が設けられている。一方、上記
処理槽５の底部５ａにはカツプリング７の凸部８
が嵌合される開孔部１０が形成されると共に、こ
の開孔部１０の周縁部には環状の垂直片１１が設
けられている。この垂直片１１の外周部にはニト
リルゴムからなるＶリング１２が嵌め込まれ、こ
れにより処理槽５の底部５ａとカツプリング７と
の間を密閉し、外部からの錆、ゴミ等の侵入を防
止するようになつている。１３は開孔部１０の下
部に設置された駆動モータであり、このモータ１
３の軸１４に回転ドラム３が固定されている。

すなわち、駆動モータ１３が回転駆動（第１段
階400r，ｐ，ｍ、第２段階800r，ｐ，ｍ）される
ことにより、回転ドラム３及びカツプリング７が
一体的に回転し、これにより回転ドラム３内部の
複数の半導体ウエハが乾燥されるものである。

〔背景技術の問題点〕

前述のように、従来の回転乾燥機においては、
処理槽５の底部５ａにおける垂直片１１にＶリン
グ１２を嵌め込み、駆動モータ１３に直結したカ
ツプリング７の一部分と密着させることにより、
外部から駆動部への水、ゴミ等の侵入を防止して
いた。

しかしながら、上記Ｖリング１２の装着には、
装着後の高さが重要であり、それによつてシール
の可否が決定される。しかして、現状はその高さ
を一定にすることが困難であることと、錆，ゴミ
等の外部からの侵入、あるいは外部への漏れを防
ぐには、一個のＶリング１２だけでは不十分で、
またＶリング１２自体完全シール品ではないた
め、どうしても錆，ゴミ等の侵入あるいは漏れを
避けることができなかつた。

すなわち、処理槽５内を水で洗浄するとき、
水，ゴミ等は第３図に矢印で示す方向に侵入す
るが、逆に回転ドラム７の回転時には処理槽５内
が負圧になるため、駆動部に侵入した水，ゴミと
共に駆動モータ１３の軸１４部に生じた錆が矢印
で示す方向に引つぱり込まれ、処理槽５内に漏
れる事態が生じる。そして、この処理槽５内の錆
等が回転ドラム３内に侵入して乾燥中の半導体ウ
エハに付着し、歩留り低下の原因となつていた。

〔考案の目的〕

この考案は上記実情に鑑みてなされたもので、
その目的は、水，ゴミ等の洗浄時の駆動部への侵
入及び回転時における処理槽への漏れを防止し、
半導体ウエハに付着する錆，ゴミ等を最小限に減
少させ、製品の歩留りを向上させることのできる
回転乾燥機を提供することにある。

〔考案の概要〕

この考案は、処理槽側に第１のＶリングを取り
付け、さらにカツプリング側に第２のＶリング及
びこのＶリングの回転時における移動を防止する
ストツパを取り付けるものである。

〔考案の実施例〕

以下、図面を参照してこの考案の一実施例を説
明する。第４図において、２２は回転ドラム、２
３はカツプリング、２４はこのカツプリング２３
の凸部、２５は同じく凹部、２６は処理槽、２６
ａは処理槽２６の底部、２７は排出孔、２８は処
理槽２６の底部２６ａにおける開孔部、２９はこ
の開孔部２８の周縁部における垂直片、３０は駆
動モータ、３１は駆動モータ３０の軸である。こ
れらはいずれも第３図に示したものと同一である
ので、その説明は省略する。上記垂直片２９の外
周部にはニトリゴムからなる第１のＶリング３２
が嵌め込まれ、これにより処理槽２６の底部２６
ａとカツプリング２３との間を密閉するようにな
つている。さらに、カツプリング２３下方部の外
周部には第１のＶリング３２と同様にニトリルゴ
ムからなる第２のＶリング３３が嵌め込まれ、カ
ツプリング２３と処理槽２６の底部２６ａとの間
を密閉するようになつている。また、この第２の
Ｖリング３３の上のカツプリング２３の外周部に
は、例えばステンレスで形成された環状のストツ
パ３４が固定され、回転時における第２のＶリン
グ３３の上方への移動を防止するようになつてい
る。

すなわち、この回転乾燥機においては、第１の
Ｖリング３２及び第２のＶリング３３によるダブ
ルシール構造とするものである。従つて、洗浄時
における水，ゴミ等の駆動部への侵入防止効果が
向上すると共に回転時における水，ゴミ錆等の処
理槽２６側への漏れの防止効果も向上する。

斜光検査によれば、従来処理槽内の錆，ゴミが
100個以上であつたものが、この考案による回転
乾燥機にあつては15個以下と大幅に減少した。

〔考案の効果〕

以上のようにこの考案によれば、錆，ゴミ等の
シール効果が向上するため、これらの半導体ウエ
ハの付着が減少し、製品の歩留りが向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の回転乾燥機の外観斜視図、第２
図は上記乾燥機における回転ドラム内の構造を示
す斜視図、第３図は上記乾燥機における駆動部の
構造を示す断面図、第４図はこの考案の一実施例
に係る断面図である。 ２２……回転ドラム、２３……カツプリング、
２４……凸部、２５……凹部、２６……処理槽、
２６ａ……底部、２８……開孔部、２９……垂直
片、３０……駆動モータ、３２……第１のＶリン
グ、３３……第２のＶリング、３４……ストツ
パ。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 複数の半導体ウエハを回転により乾燥させる回
   転乾燥機において、処理槽と、内部に半導体ウエ
   ハを保持し、前記処理槽内に設置される回転ドラ
   ムと、底部に凸部を有すると共にこの凸部の外周
   部に環状の凹部を有し、上端部において前記回転
   ドラムに固定されるカツプリングと、このカツプ
   リングの凸部が嵌合される開孔部を有すると共に
   この開孔部の周縁部に環状の垂直片を有し、前記
   カツプリングを支持するように前記処理槽の底部
   に設けられたカツプリング支持部と、このカツプ
   リング支持部の下部に設けられ、前記回転ドラム
   及び前記カツプリングを回転駆動させる駆動手段
   と、前記カツプリング支持部の垂直片の外周部に
   嵌め込まれ、この垂直片と前記カツプリングとの
   間を密閉する第１のＶリングと、前記カツプリン
   グの外周部に嵌め込まれ、前記カツプリングと前
   記処理槽の底面部との間を密閉する第２のＶリン
   グと、この第２のＶリングの上方向へ移動を防止
   するように前記カツプリングに固定されるストツ
   パとを具備したことを特徴とする回転乾燥機。