JPS62242496A - イオン注入監視制御装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はイオン注入装置の監視制御に用いられるイオ
ン注入監視制御ｎ装置に関するものである。

〔従来の技術〕

第３図は従来のメカニカルスキャン型のイオン注入装置
およびこのメカニカルスキャン型のイオン注入装置を監
視制御するイオン注入監視制御装置の構成の一例を示す
ブロック図である。メカニカルスキャン型のイオン注入
装置は、イオン電流が１ｍＡ＝ｌＯｍＡ程度の大電流用
として供されているものである。

メカニカルスキャン型のイオン注入装置は、大きく分け
ればイオンを発生するイオン源１と、イオン源１から引
き出されたイオンビーム２から必要なイオン種を選択す
る質量分析器３と、この質量分析器３から出たイオンビ
ーム２を加速する加速管４と、加速管４を出たイオンビ
ーム２をウェハ５に当ててイオン注入を行うエンドステ
ーション６とで構成され、これらの内部は真空となって
いる。イオン源１には、ガスを供給するガスボックス７
と各種電圧、電流を供給するイオン源電源８と、イオン
ビーム２を引き出すための引き出し電源９がつながれて
いる。質量分析器３には、質量分析マグネット（図示せ
ず）に給電するための分析マグネント電源１０が、加速
管４には、加速電源１１がそれぞれつながれている。

イオン源ｌは、例えば固体オーブン付属の熱陰極ＰＩＧ
型であって、フィラメント（図示せず）とアーク電極（
図示せず）とソースマグネット（図示せず）とを有し、
イオン源電源（フィラメントＴＨ，ＦＡ＋　アーク電源
、ソースマグネット電源。

オーブン電源等）８から前記フィラメント、アーク電極
、ソースマグネット等にそれぞれ給電されることにより
、ガスボックス７からアークチャンバに供給されるガス
をイオン化する。具体的には、アークチャンバ内におい
てフィラメントからの熱電子放出をトリガとしてアーク
放電を行うことによりプラズマを作る。そして、引き出
し電源９から供給される例えば３０ＫＶ〜４０ＫＶの引
き出し電圧によってスリット状のイオン引き出し電極ｌ
ａからイオンビーム２を引き出す。このイオンｒＡｌは
、イオン源物質として、ガスだけでなく、固体（Ａｓ、
Ｐ、Ｓｂ等）の使用も可能であり、固体を使用する場合
には、固体のイオン源物質を固体オーブンで蒸発させて
アークチャンバに導くとともに、ガスボックス７からキ
ャリアガス（Ａｒ等）をアークチャンバに導き、固体イ
オン物質をイオン化する。

ガスボックス７は、上記したイオンａｔｔに接続され、
例えば４個のガスボトル（例えばＡｒ。

ＳｉＦ、、ＢＣｌ３．ＰＣＩ等）を内蔵し、必要なイオ
ン種に対応していずれかの種類のガスを選択的にイオン
源１へ供給する。

質量分析器３は、分析マグネット電源１０から９０度偏
向の質量分析マグネットに給電され、イオン源１から引
き出されたイオンビーム２の中から必要なイオン種を選
択するとともに、質量分析マグネットの磁気集束作用を
利用してイオンビーム２を分析スリン１−３ａに絞り込
んで加速管４へ導く、この質量分析器３が必要であるの
は、以下の理由によるためである。イオン源１から引き
出されるイオンの中には不要イオンが混在する場合が多
い０例えばボロンイオンを引き出す場合、ＢＦ３ガスを
使用するが、この場合、必要なボロンイオンの他にＦ’
　、ＢＦ’　、ＢＦ２”などの不要イオンが生じ、これ
らの不要イオンがウェハ５に注入されると具合が悪いた
めである。

上記質量分析器３は、質量分析マグネットに供給する電
流をＪＡ整することにより、必要なボロンイオンが真空
チャンバ中で丁度９０度偏向されて分析スリ７）３ａに
導びかれ、加速管４に入ることになる。一方、不要イオ
ンは、ボロンイオンとは質量が異なるため、質量分析器
３の真空チャンバの側壁に当たってそこで吸収される等
し、分析スリット３ａには達しない。

加速管４は、例えば絶縁物と金属製電極とを多段に接着
した構造で、各電極には加速電源１１から抵抗（図示せ
ず）を通して一定の加速電圧が印加され、イオンビーム
２は前記した引き出し電圧とこの加速電圧とを合わせた
電圧で加速されてエンドステーション６に入ることにな
る。この加速電圧は注入エネルギに応じて設定される。

エンドステーション６は、イオンビーム２を静止させた
ままでディスク１２を移動させるメカニカルスキャン式
である。ウェハ５はディスク１２の円周上に装填され、
ウェハ５全面にイオンビーム２が均一に照射されるよう
に、インダクションモータ１３およびステソビンダモー
タ１４によって、ディスク１２が回転しながらビーム領
域を並進運動する。この場合、ディスク１２の回転速度
は一定であるが、並進運動は、ディスク１２の移動速度
がディスク１２の外周部と内周部で異なること、および
ビーム電流の変動にかかわらず、注入量をウェハ５全面
にわたって均一にする必要があることから、一定ではな
く、並進速度を上記の変化に応じて制御する必要がある
。

また、エンドステーション６は、イオン注入前にウェハ
５をディスク１２に装填し、注入終了後にウェハ５をデ
ィスク１２から取り出す、この際、ウェハ５の装填、取
り出しは、エンドステーション６の一部に設けたエアロ
ツク（図示せず）を介して行い、エンドステーション６
およびその前段の真空状態は保持するようにしている。

つぎに、上記したメカニカルスキャン型のイオン注入装
置を監視制御するイオン注入監視制御装置について説明
する。このイオン注入監視制御装置は、エンドステーシ
ョンコントローラ１５．用役コントローラ１６．注入コ
ントローラ１９．加速コントローラ２０．マスコントロ
ーラ２１．イオン源コントローラ２６．引き出し電圧コ
ントローラ２７．ガスセレクトコントローラ２８等から
構成されている。

用役コントローラ１６は、真空系の制御および装置の状
態監視を行うもので、真空計２３．バルブ２４．引出系
やビームラインのための真空ポンプ２５．その他リミッ
トスイッチなどが接続され、真空ポンプ２５やパルプ２
４のシーゲンス制御を行うとともに、真空度のデータお
よびその他各種用役の状態監視を行う。

イオン源コントローラ２６は、イオン源ｌにおけるプラ
ズマ発生のコントローラで、イオンｉ１のパラメータ（
フィラメント電圧、アーク電圧。

ソースマグネット電流等）を変化させるようになってい
る。

ガスセレクトコントローラ２日はイオン源ｌにおけるプ
ラズマ発生のためのガス試料選択を行う。

マスコントローラ２１は所望のマス値のイオンビーム２
を得ることができるように１１ｔ量分析器３に与える分
析マグネント電流の調整を行う。

具体的には、マス値に応じて質量分析器３に与える分析
マグネットを流を設定し、引き出し電圧コントローラ２
７によって設定した引き出し電圧と上記分析マグネット
電流とから演算した。マス値を引き出し電圧コントロー
ラ２７に表示させる。

なお、この際、マスコントローラ２１は、分析マグネッ
ト電流をビーム電流が最大となるように制御して必要な
イオンが常に分析マグネット３ａに達するようにする。

加速コントローラ２０は、必要な加速エネルギに応じて
加速電圧を設定する。

注入コントローラ１９は、ドーズ量、ウェハサイズ等の
制御条件のデータをもとにしてディスク１２の並進運動
をステンピングモータドライバ２９を経由して制御する
ことによりウェハ５全面に均一にイオン注入がなされる
ようにし、かつビーム電流を変換器３０でデジタル変換
したものを入力して、ビーム電流を積分し、この積分値
がウェハサイズおよびドーズ量によって決まる値に達し
たときにイオン注入を停止させる。

エンドステーションコントローラ１５は、ウェハハンド
リングの制御を行うもので、例えばエアロツクの真空度
を測定する真空計３１．光センサ３２からの信号をもと
に真空ポンプ３３．パルプ３４等の制御を行う。なお、
このエンドステーションコントローラ１５と、用役コン
）Ｃ’−ラ１６と注入コントローラ１９とは相互にイン
タロックがかけられている。

テレメータ３５は、大地側と高電圧部３６と間のデータ
の送受信を行うもので、大地側ユニットと高電圧部側ユ
ニットとは絶縁するための光ファイバ等で接続している
。

このような従来装置においては、エンドステーションコ
ントローラ１５．用役コントローラ１６゜注入コントロ
ーラ１９．加速コントローラ２０゜マスコントローラ２
１．イオン源コントローラ２６゜引き出し電圧コントロ
ーラ２８等に操作器および表示器を設け、すなわち、操
作器および表示器を分散配置し、各操作器および表示器
によってイオン注入装置の監視制御を行っていたため、
操作性が悪く、大形化するという問題があった。

このような問題を解消するために第４図に示すようなイ
オン注入監視制御装置が既に提案されている。

このイオン注入監視制御装置は、マンマシンコントロー
ラ５１と、３台の系統制御用コントローラ５２，５３．
５４と、伝送部５５〜６０と、伝送線６１，６２．６３
と、集中監視制御器６４とから構成され、マンマシンコ
ントローラ５１と系統制御用コントローラ５２〜５４と
が伝送部５５〜６０および伝送線６１〜６３を介して接
続され、マンマシンコントローラ５１と集中監視制御器
６４とが集中監視制御用伝送線６５を介して接続され、
各系統制御用コントローラ５２〜５４にはイオン注入装
置を構成する各種要素機器（後述）が接続されている。

用役系統の系統制御用コントローラ５４には、真空計や
各種リミットスイッチなどの測定器７２や、バルブ７３
、引き出し系やビームラインのための真空ポンプ７４等
が接続されている。この系統制御用コントローラ５４に
より、イオン注入装置の真空ポンプやバルブのシーケン
ス制御および電源や各種用役の状態監視を行う。このイ
オン注入監視制御装置は、自動と手動のモードを備えて
おり、自動時には、この系統制御用コントローラ５４の
みでシーケンス制御を行うことができ、手動時には、マ
ンマシンコントローラ５１からこの系統制御用コントロ
ーラ５４を経由してイオン注入装置を制御することがで
きる。イオン注入装置の状態は、適当なタイミングで伝
送線６３上に乗せられ、他の系統制御用コントローラ５
２．５３゜マンマシンコントローラ５１がこれを読み込
む゛。

エンドステーション系統の系統制御用コントローラ５３
には、ウェハハンドリングのための光センサ７５．真空
ポンプ７６、バルブ７７およびモータ７８等が接続され
ている。この系統制御用コントローラ５３によりウェハ
のハンドリングを制御する。自動時には、この系統制御
用コントローラ５３のみで制御を行うことができる。こ
の場合、系統制御用コントローラ５４からの情報により
タイミングを決定する。手動時には、マンマシンコント
ローラ５１からこの系統制御用コントローラ５３を経由
してウェハのハンドリングを制御することができる。イ
オン注入装置の状態（例えば、ウェハの処理状況等）は
、適当なタイミングで伝送線６２上に乗せられ、他のコ
ントローラ（主としてマンマシンコントローラ５１）が
これを読み込む。

ビーム系統の系統制御用コントローラ５８には、テレメ
ータ７９や真空計等の測定器８１等が接続されている。

テレメータ７９には、イオン源電源。

引き出し電源、分析マグネット電源、加速電源等の各種
の電源８０が接続されている。この系統制御用コントロ
ーラ５２により、測定器のデータの読み込み、電源のパ
ラメータの読み込み、電源のパラメータ制御を行う信号
の出力等が行われる。

読み込まれたデータは、伝送線６１に乗せられてマンマ
シンコントローラ５１に渡される。また、パラメータ制
御信号はマンマシンコントローラ５１から送られてくる
。

この系統制御用コントローラ５２には、ウェハディスク
ａ＊ｈｉａ構のためのステッピングモータ８３を駆動す
るステッピングモータ８２やビーム電流をへ／Ｄ変換す
る変換器８４が接続されている。

この系統制御用コントローラ６１により、ビーム電流に
基づいてウェハの装填されたディスクの並進速度の制御
が行なわれる。

マンマシンコントローラ５１は、ＣＰＵ（中央処理装置
）およびフロンピディスク装置等を備えており、ＣＲＴ
表示装置およびキーボード等からなる集中監視制御器６
４によって設定されたイオン注入のための種々の制御条
件（加速エネルギ。

ビーム量、ドーズ量、イオン種、ウェハサイズ等）を記
憶するとともに、この制御条件のデータを各系統ｉＩＩ
御用コントローラ５２〜５４へ送り、また系統制御用コ
ントローラ５２〜５４からの監視データを読み込み、こ
れを集中監視制御器６４へ送って各種監視データを表示
させる。

また、マンマシンコントローラ５１は、集中監視制御器
６４のＣＲ７画面上に操作のガイダンスを表示し、集中
監視制御器６４におけるファンクションキー、テンキー
などのキーにより操作を行う。また、自動運転時には、
イオン源の立ち上げ。

ビーム引き出し、ビーム集束等の調整制御のための制御
信号を伝送線６１〜６３に乗せて系統ニー制御用コント
ローラ５２〜５４に与える。例えばその制御信号に基づ
き各電源等に制御信号を与える。

さらに、マンマシンコントローラ６４は、必要に応じて
ホストコンピュータとの通信を行い、外部からの条件設
定の読込み、イオン注入装置の処理情報の送信等を行う
、これはユーザ側のＥＤＰのためのものである。

ツキニ、前述したマンマシンコントローラ５１゜および
系統制御用コントローラ５２〜５４と伝送部５５〜５７
とについて説明する。

第５図は、コントローラ９０および伝送部９１を示すブ
ロフク図である。コントローラ９０は前述したマンマシ
ンコントローラ５１．系統制御用コントローラ５２〜５
４を一般的に示したものであり、伝送部９１は前述した
伝送部５５〜６０を一般的に示したものである。コント
ローラ９０は、互いに接続されたＣＰＵ９０Ａ、メモリ
９０ＢおよびＩ１０インターフェース９０Ｃを備える。

Ｉ１０インターフェース９０Ｃには、前述した各種の要
素機器が接続される。伝送部９１は、互いに接続された
受信部９１Ａ、送信部９１Ｂおよびインターフェース部
９１Ｃを備える。インターフェース部９１Ｃには、伝送
線９２が接続されている。

受信部９１Ａは、伝送線９２から情報が送られてきたら
これを取り込み、コントローラ９０に送る。一方送信部
９１Ｂは、コントローラ９０からの送信情報を読み取り
この送信情報を伝送線９２へ送出する。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記した既ｆ２案例のイオン注入監視制御装置は、集中
監視制御を行うため、集中監視制御装置６４で一括して
設定動作を行い、集中監視制御装置６４で設定したデー
タをマンマシンコントローラ５１へ送り、マンマシンコ
ントローラ５１から各系統制御用コントローラ５２〜５
４へ伝送部５５〜６０および伝送！６１〜６３を通して
送り、各系統制御用コントローラ５２〜５３から各種要
素機器（電源８０等）へ送り、また、各要素機器（測定
器８１等）からの監視データを各系統Ｗ制御用コントロ
ーラ５２〜５４で集め、各系統制御用コントローラ５２
〜５４から伝送部５５〜６０および伝送部６１〜６３を
通してマンマシンコントローラ５１へ送す、マンマシン
コントローラ５１から集中監視制御器６４へ送って監視
データを表示させるようにしていた。

ところが、このような集中監視制御は、前記した従来例
の欠点を解消できるものではあるが、集中監視制御器６
４から各系統制御用コントローラ５２〜５４までの間に
、マンマシンコントローラ５１、伝送部５５〜６０およ
び伝送線６１〜６３が介在するため、集中監視側ｍ１６
４の操作によって設定された各種データが系統制御用コ
ントローラ５２〜５４へ伝わるまでにかなり時間を要し
、また、系統側御用コントローラ５２〜５４から出力さ
れる監視データが集中監視制御器６４に表示されるまで
にかなり時間を要することになり、監視制御の応答性が
悪いという問題があった。

したがって、例えばオペレータが集中監視制御器６４の
ＣＲＴ画面を見ながらキーボードを操作することに゛よ
り、例えば引き出し電圧を監視しながら引き出し電圧の
手動調整を行う場合に上記したように監視制御の応答性
が悪いため、この手動調整が容易でなかった。

この発明の目的は、必要なときには監視制御の応答性を
良くすることができるイオン注入監視制御装置を提供す
ることである。

〔問題点を解決するための手段〕

この発明のイオン注入監視制御装置は、イオン注入のた
めの複数系統の制御を与えられた制御条件に基づいてそ
れぞれ局部的に分散して行うとともに複数系統の監視デ
ータをそれぞれ取り込んで出力する複数の系統制御用コ
ントローラと、前記複数の系統制御用コントローラに対
する制御条件をｍｌｌ記数数系統制御用コントローラに
それぞれ与えるとともに前記複数の系統制御用コントロ
ーラから出力された監視データを取り込むマンマシンコ
ントローラと、前記複数の系統制御用コントローラおよ
びマンマシンコントローラにそれぞれ設けられた伝送部
と、これらの伝送部間に接続されて前記制御条件および
監視データの前記複数の系統制御用コントローラおよび
マンマシンコントローラ間での授受を行わせる伝送線と
、前記制御条件を設定するとともに前記監視データを表
示する集中監視制御器と、前記複数の系統制御用コント
ローラからそれぞれ引き出されて前記集中監視制御器と
の間で前記制御条件および監視データの授受を行う複数
の個別監視制御用伝送線と、前記マンマシンコントロー
ラから引き出されて前記集中監視制御器との間で前記制
御条件および監視データの授受を行う集中監視制御用伝
送線と、前記複数の個別監視制御用伝送線および集中監
視制御用伝送線のいずれか一つを選択的に前記集中監視
制御器につなぐ伝送線切替器とを備えている。

〔作用〕

この発明の構成によれば、複数の系統制御用コントロー
ラから複数の個別監視制御用伝送線を引き出し、マンマ
シンコントローラから引き出した集中監視制御用伝送線
とともに伝送線切替器に接続し、伝送線切替器に集中監
視制御器を接続し、伝送線切替器によって集中監視制御
用伝送線および個別監視制御用伝送線のいずれか一つを
選択的に集中監視制御器につなぐようにしたため、応答
性を良くする必要がある場合には、伝送線切替器によっ
て系統制御用コントローラと集中監視制御器とをつなぐ
ようにすれば、応答性を良くすることができる。

〔実施例〕

この発明の一実施例を第１図および第２図に基づいて説
明する。このイオン注入監視制御装置は、第１図に示す
ように、複数の系統制御用コントローラ５２〜５４と、
マンマシンコントローラ５１と、伝送部５５〜６０と、
伝送線６１〜６３と、集中監視制御器６４と、複数の個
別監視制御用伝送線６６〜６８と、集中監視制御用伝送
ＶＡ６５とを０１９えている。

この場合において、複数の系統制御用コントローラ５２
〜５４は、イオン注入のための複数系統の制御を与えら
れた制御条件に基づいてそれぞれ局′部的に分散して行
うとともに複数系統の監視データをそれぞれ取り込んで
出力するように構成されており、マンマシンコントロー
ラ５１は、前記複数の系統制御用コントローラ５２〜５
４に対する制御条件を前記複数の系統制御用コントロー
ラ５２〜５４にそれぞれ与えるとともに前記複数の系統
制御用コントローラ５２〜５４から出力された監視デー
タを取り込むように構成されている。

伝送部５５〜６０は、前記複数の系統制御用コントロー
ラ５２〜５４およびマンマシンコントローラ５１にそれ
ぞれ設けられ、これらの伝送部５２〜５４間に接続され
た伝送線６１〜６３が前記制御条件および監視データの
前記複数の系統制御用コントローラ５２〜５４およびマ
ンマシンコントローラ５１間での授受を行わせることに
なる。

集中監視制御器６４は、ＣＲＴ表示装置およびキーボー
ド等からなり、制御条件を設定するとともに前記監視デ
ータを表示するようになっている。

複数の個別監視制御用伝送線６６〜６８は、前記複数の
系統制御用コントローラ５２〜５４からそれぞれ引き出
されて前記集中監視制御器６４との間で前記制御条件お
よび監視データの授受を行い、集中監視制御用伝送線６
５は、マンマシンコントローラ５１から引き出されて前
記集中監視制御器６４との間で前記制御条件および監視
データの授受を行う。

伝送線切替器６９は、前記複数の個別監視制御用伝送り
Ａ６６〜６８および集中監視制御用伝送線６５のいずれ
か一つを選択的に前記集中監視制御器６４につなぐよう
になっている。

このイオン注入監視制御装置は、第４図のものと比べて
、各系統制御用コントローラ５２〜５４から個別監視制
御用伝送線６６〜６８を引き出し、マンマシンコントロ
ーラ６４から引き出した集中監視制御用伝送線６５とと
もに伝送線切替器６９に接続し、伝送線切替器６９に集
中監視制御器６４および伝送線選択器７０を接続した点
が相違する。

伝送線切替器６９および伝送線選択器７０は具体的には
、第２図のように構成される。すなわち、伝送線切替器
６９は、スリーステートバッファＢＩ１．Ｂｌ！、Ｂ□
、Ｂ２□、Ｂ１１．Ｂ１１とからなり、伝送線選択器７
０はセレクトスイッチＳ界等からなり、セレクトスイッ
チＳＷを例えばａの位置にすると、スリーステートバッ
ファＢＩＩ、ＢＩ２が導通し、マンマシンコントローラ
５１と集中監視制御器６４とがつながり、セレクトスイ
ッチＳＷを例えばｂの位置にすると、スリーステートバ
ンフ７Ｂ２１．Ｂ！２が導通し、系統制御用コントロー
ラ５２と集中監視制御器６４とがつながり、セレクトス
イッチＳＷを例えばＣの位置にするとスリーステートバ
ッファＢ５１＝Ｂ３！が導通し、各系統制御用コントロ
ーラ５４と集中監視制御器６４とがつながる。なお、こ
の図では、集中監視制御用伝送線６５および個別監視制
御用伝送線６６〜６８は、制御用伝送線と監視用伝送線
とを分けて書いている。

このように構成すると、例えば引き出し電圧の測定値を
見ながら引き出し電圧を手動調整する場合、伝送線切替
２３７０を操作して伝送線切替器６９により系統制御用
コントローラ５２と集中監視制御器６４とをつないでお
くと、集中監視制御器６４によって例えば引き出し電圧
の上昇を指令した場合、この信号が集中監視制御器６４
から伝送線切替器６９１個別監視制御用伝送線６６を通
して系統制御用コントローラ５２へ入り、引き出し電圧
の測定値は上記と逆の経路で集中監視制御器６４へ入る
ことになる。

なお、その他の構成および作用は第４図のものと同じで
ある。

この実施例のイオン注入監視制御装置は、系統制御用コ
ントローラ５２〜５４から個別監視制御用伝送線６６〜
６８を引き出し、マンマシンコントローラ５１から引き
出した集中監視制御用伝送線６５とともに伝送線切替器
６９に接続し、伝送線切替器６９に集中監視制御器６４
を接続し、伝送線選択器７０による選択によって集中監
視制御用伝送ｗＡ６５および個別監視制御用伝送線６６
〜６日のいずれか一つを選択的に集中監視制御器６４に
つなぐようにしたため、例えば引き出し電圧の手動調整
時のように応答性を良くする必要がある場合には、伝送
線選択器７０を操作して系統制御用コントローラ５２と
集中監視制御器６４とをつなぐようにすれば、応答性を
良くすることができ、その調整を容易に行うことができ
る。

なお、この発明はイオン注入装置の形式には全く制限さ
れず、例えば静電スキャン型のイオン注入装置にも、こ
の発明を適用できる。また、手動調整の項目としては、
引き出し電圧だけでな（、各種電圧、電流等が考えられ
る。

〔発明の効果〕

この発明のイオン注入監視制御装置によれば、複数の系
統制御用コントローラから複数の個別監視制御用伝送線
を引き出し、マンマシンコントローラから引き出した集
中監視制御用伝送線とともに伝送線切替器に接続し、伝
送線切替器に集中監視制御器を接続し、伝送線切替器に
よって集中監視制御用伝送線および個別監視制御用伝送
線のいずれか一つを選択的に集中監視制御器につなぐよ
うにしたため、応答性を良くする必要がある場合には、
伝送線切替器によって系統制御用コントローラと集中監
視制御器とをつなぐようにすれば、応答性を良くするこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例を示すブロック図、第２図
は第１図の要部の具体的なブロック図、第３図は従来例
を示すブロック図、第４図は既提案例を示すブロック図
、第５図は第４図の要部の具体的なブロック図である。 ５１・・・マンマシンコントローラ、５２〜５４・・・
系統制御用コントローラ、５５〜６０・・・伝送部、６
１〜６３・・・伝送線、６４・・・集中監視制御器、６
５・・・集中監視制御用伝送線、６６〜６８・・・個別
監視制御用伝送線、６９・・・伝送線切替器第２図 第５図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. イオン注入のための複数系統の制御を与えられた制御条
   件に基づいてそれぞれ局部的に分散して行うとともに複
   数系統の監視データをそれぞれ取り込んで出力する複数
   の系統制御用コントローラと、前記複数の系統制御用コ
   ントローラに対する制御条件を前記複数の系統制御用コ
   ントローラにそれぞれ与えるとともに前記複数の系統制
   御用コントローラから出力された監視データを取り込む
   マンマシンコントローラと、前記複数の系統制御用コン
   トローラおよびマンマシンコントローラにそれぞれ設け
   られた伝送部と、これらの伝送部間に接続されて前記制
   御条件および監視データの前記複数の系統制御用コント
   ローラおよびマンマシンコントローラ間での授受を行わ
   せる伝送線と、前記制御条件を設定するとともに前記監
   視データを表示する集中監視制御器と、前記複数の系統
   制御用コントローラからそれぞれ引き出されて前記集中
   監視制御器との間で前記制御条件および監視データの授
   受を行う複数の個別監視制御用伝送線と、前記マンマシ
   ンコントローラから引き出されて前記集中監視制御器と
   の間で前記制御条件および監視データの授受を行う集中
   監視制御用伝送線と、前記複数の個別監視制御用伝送線
   および集中監視制御用伝送線のいずれか一つを選択的に
   前記集中監視制御器につなぐ伝送線切替器とを備えたイ
   オン注入監視制御装置。