JPS62275014A - 液体クロマトグラフイ−用シリカゲルの製造方法 - Google Patents

液体クロマトグラフイ−用シリカゲルの製造方法

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JPS62275014A
JPS62275014A JP61116205A JP11620586A JPS62275014A JP S62275014 A JPS62275014 A JP S62275014A JP 61116205 A JP61116205 A JP 61116205A JP 11620586 A JP11620586 A JP 11620586A JP S62275014 A JPS62275014 A JP S62275014A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、液体クロマトグラフィー用シリカゲルの製造
方法に関するものである。
シリカゲルは、架橋デキストラン、ポリアクリルアミド
等のポリマー系充填剤に比して機械的強度が高(、また
pH,イオン強度、溶離液組成等の変化による膨潤・収
縮がほとんど無いことから、液体クロマトグラフィー用
充填剤として広く使用されている。
〔従来技術〕
従来、シリカゲルについては、球状シリカゲルと破砕状
シリカゲルとが知られている。球状シリカゲルは破砕状
シリカゲルに比して、その性能及び使用特性の点で優れ
ている。
また、球状シリカゲルの内でも液体クロマトグラフィー
用充填剤として使用する場合、その表面積、平均細孔径
、細孔容積等の物性を厳密にコントロールすることが要
求される。
即ち、表面積joo〜500i/)、平均細孔径80〜
12OA、細孔容積(L8〜t2td/9の物性を有し
た球状シリカゲルが望まれ【いる。
更に、液体クロマトグラフィー用充填剤め分離能を大き
くするためKは、粒子径を小さくすることが必要であり
、近年より迅速で高精度な分離を実現する為、平均粒子
径が1〜20μの微小球状シリカゲルが要望されている
しかしながら、この様なシリカゲルは製造が容易でなく
高価であった。
従来微小球状のシリカゲルを得る方法としては以下の方
法が知られている。
(1)  特開昭60−71515号公報には水ガラス
ゾルを第1の界面活性剤を含有する有機溶媒中で乳化さ
せ、次いで第2の界面活性剤を添加してゲル化させる方
法が記載されている。
この方法では、乳化に使用した有機溶媒とシリカゲルを
分離する為、蒸留工程を必要とし経済的に不利である。
また得られたゲルは、その実施例より平均粒子径11.
3μの微小球状粒子であるが、その他の物性は明記され
ておらず、液体クロマトグラフィー用充填剤としての有
用性は不明である。
(2)  特公昭54−9588号公報にはコロイド状
シリカを水に対して混和性を有する重合可能な有機材料
をバインダーとして用いて(L5〜50μの微小球状粒
子を形成させる方法が記載されている。
この方法で得られるものはシリカゾル粒子と有機材料の
混合物であり、シリカゲルを得るには500℃以上でし
かも4時間以上の焼結工程によりポリマー化した有機材
料を除去しなければならない。また、得られるゲルの物
性は原料のコロイド状シリカの稲類で決まってしまい、
所望とするゲル物性へのコントロールが困難である。
(3)  上述の如き有機溶媒あるいは有機材料な使用
することなく球状ゲルを得る方法としては噴霧乾燥法が
知られている。
特開昭55−65293号公報にはシリカゾルを噴霧乾
燥する方法が提案されている。
しかしながら本発明者等がこの方法を実施したところ、
生成物は球状ではあるが中空あるいは大きな窪みを有す
るシリカゲルに成り易い事が判った。
この様な中空あるいは大きな窪みを有するシリカゲルは
、液体クロマトグラフィー用充填剤として使用する場合
、その強度が充分でなく破損したり、分離試料の広がり
の原因に成り易く好ましくない。
特公昭43−7012号公報には硅酸ナトリウム溶液を
ガス状炭酸ガスでゲル化させ熟成した後、更に硫酸で処
理した後噴霧乾燥することにより、300〜1000m
’/)の表面積で15〜1.25 C1: / 9の死
体積のシリカゲルを得る方法が記載されている。
この方法ではガス状炭酸ガスを使用することから、反応
の制御が容易でなく、得られるシリカゲルの物性をコン
トロールすることが困難である。
特公昭47−5446号公報にはアルカリ金属珪酸塩水
溶液と鉱酸とを反応させてpH9,6〜1119のシリ
カヒドロシルを作り、ゲル化させ更に鉱酸と反応させ酸
性シリカゲルスラリーとし噴霧乾燥により10〜80μ
の微小球状ゲルを得る方法が記載されている。
この方法において、その実施例によれば、740yy/
/りないし965w?/9という非常に大きな表面積の
シリカゲルが得られている。
この様に高い表面積のシリカゲルは一般に50A以下の
ミクロボアを有することが多い。
液体クロマトグラフィー用充填剤への使用を目的とした
場合、この様なミクロボアは試料成分の分離にあまり有
効でないばかりかシリカゲルの強度を低下させる原因に
なる。
更に特公昭47−35676号公報には珪酸ナトリウム
と硫酸を23〜50℃で混合してpH9,8〜1(L4
の混合溶液を調製し、そこでヒドロゲルスラリーを形成
し、熟成後piを3以下、C低下させ、熟成後pHを8
〜1α2に上昇させ、熟成し噴霧乾燥する方法が記載さ
れている。
この方法で得られるシリカゲルは、その実施例によれば
194〜560rrl/9の表面積でα9〜L15d/
gの細孔容積を有しているが、平均細孔径については明
記されていない。また、上述した様に熟成工程が多く操
作が煩雑である。
特公昭43−7012号公報、47− 3446号公報、47−55676号公報いずれの方法
もゲル生成工程をアルカリ側で実施することを必須要件
としているが、本発明者等が同様にアルカリ側でゲル生
成させたスラリーを使用したところ、原因は不明である
が、しばしば非常に脆いゲルが得られ、又表面に凹凸の
多いものあるいは球状以外の異形粒子の混在するものが
得られやすい事が解りた。この様なシリカゲルは通常の
乾燥剤としの低下をきたし好ましくない。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明の目的は上記従来技術に比して、より簡単な方法
で安価に1表面が滑らかで、異形粒子の混在することの
ない液体クロマトグラフィー用充填剤として高性能な微
小球状シリカゲルの型造法を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の要旨は、アルカリ金属珪酸塩水溶液を鉱酸の水
溶液と反応させて得られるシリカヒドロゲルスラリーを
噴霧乾燥することに依りシリカゲルを得る方法において 〜 アルカリ金属珪酸塩の水溶液を鉱酸の水溶液と反応
させてpFI五〇〜4.0で810.濃度&5〜1t5
wtlの活性なケイ酸を生成させす、該ケイ酸を攪拌下
でゲル化させ C6アンモニア水溶液と反応させた後、濾過。
水洗し 屯 得られたヒドロゲルを湿式粉砕し e、二流体ノズル方式により噴霧乾燥することを特徴と
する液体クロマドグ5フイー用シリカゲルの製造法にあ
り、以下その詳細について説明する。
本発明において使用するアルカリ金属珪酸塩としては珪
酸ナトリウム、珪酸カリウム等が挙げられるが、珪酸ナ
トリウムが一般的である。鉱酸としては硫酸、塩酸、硝
酸等が使用できる。
活性なケイ酸を生成させる方法としては、いかなる方法
でも良いが、攪拌下にある鉱酸にアルカリ金属珪酸塩を
滴下する方法が好ましい。
この時最終pHが五〇〜4.0で810.濃度が65〜
115wt%になる様忙、アルカリ金属珪酸塩及び鉱酸
の各濃度及び混合割合を調整することが必要である。
pHの値はゲル化時間に大きく影響し、pa五〇未満で
はゲル化に長時間を要し実際的ではなり、pHが40を
超えるとゲル化が急速に進行し、ケイ酸を安定的に調製
することが困難になる。
生成ケイ酸のSin’、濃度は、最終的に得られるシリ
カゲルの平均細孔径に重大な影響を及ぼす。即ち、S1
0.濃度が6.5 wt4未満では得られるシリカゲル
の平均細孔径は80A未満となり、5102濃度が1 
t 5 wtlを超えると得られるシリカゲルの平均細
孔径は120Aを超え、また、強度の低いゲルとなる。
活性ケイ酸生成温度は5〜60℃の範囲で実施できるが
、特に30〜50℃が好ましく、実際的である。生成温
度が5℃未満ではゲル化に長時間を要し、逆に60℃を
超えるとゲル化が急速に進行し、活性ケイ酸を安定的に
生成させることが困難になる。この様にして得られた活
性なケイ酸の水溶液を攪拌下でゲル化させ、シリカヒド
ロゲルのスラリーを生成させる。
ゲル化の温度は特に限定されな(・が、低温ではゲル化
を完了させるのに長時間を要し、逆に高温ではゲル化が
急速に進んで均一な攪拌が困難となるので20〜50℃
が適当である。また一般にゲル化温度の低い方がゲル化
速度が遅く攪拌も容易であるので例えば20℃でゲル化
を開始させ、スラリー状にした後80℃に昇温してゲル
化を完了させるといった方法も可能である。
攪拌手段は、活性ケイ酸がゲル化する際に生成するヒド
ロゲルを破砕してヒドロゲルのスラリーを生成すること
が可能であればいかなるものでも良く通常のパドル型攪
拌翼でも実施可能であるが、必要に応じて高速攪拌装置
あるいはニーダ−等も使用できる。
生成したシリカヒドロゲルスラリーにアンモニア水溶液
を添加して反応させる。この時スラIJ −の濃度は特
に限定されないが、高濃度では粘度が高く攪拌が困難と
なり低濃度では経済的に不利となることから810!濃
度として5〜10 wtIsが適当である。
そのアンモニア処理をした液のpHが大きいほど最終生
成シリカゲルの平均細孔径は大きくなり、また表面積は
小さくなる。たとえば、このpaをaO〜90にするこ
とKより、それらをそれぞれ80〜120λおよび30
0〜500m’/9に調節することができる。
反応温度は特に限定されないが、低温では反応終了まで
に長時間を要するので、60〜90℃が適当である。
反応終了後、戸遇、水洗し、副生じたアルカリ金属塩を
除去する。この副生物を除去することなく噴霧乾燥する
と、得られるシリカゲル中に該塩の結晶が析出する為、
ボアが不均一になりやすい。
得られた濾過ケーキを水に分散した後湿式粉砕する。
この粉砕処理は、最終生成シリカゲルの粒子表面状態及
び形状に大きな影響を及ぼす。即ち、表面が滑らかで、
異形粒子の混在することのないシリカゲルを得る為に粉
砕処理は必須である。粉砕方法としては、湿式であれば
いかなる方法でも良く、例えば、ボールミル、振動ミル
、攪拌ボールミル、ロッドミル、摩擦円板ミル、石臼式
コロイドミル等が使用できる。
こうして得られた粉砕シリカヒドロゲルスラリーを二流
体方式により噴霧乾燥することによって微小球状シリカ
ゲルを得ることができる。
従来噴霧方式としては、加圧ノズル方式1回転ディスク
方式、二流体方式が知られ【いるが、動力消費の面から
加圧ノズル方式1回転ディスク方式が広く採用されてい
る。
前述した特開昭55−65293号公報、特公昭43−
7012号公報、47−3446号公報。
47−55676号公報においては、噴霧方法について
特に規定は無く、特開昭55−65295号公報の実施
例に回転ディスク方式による噴霧乾燥方法が記載されて
いるだけである。
本発明者等が噴霧乾燥によりシリカ微小粒子を得る為種
々の検討を行った所、得られる粒子の形状、物性及び粒
度は噴霧する液又はスラリーの性状及び噴霧方法の組み
合せKより太き(変動し、所望の形状、物性及び粒度の
シリカ微小粒子を得ることは容易ではなかった。例えば
既述した様に中空あるいは大きな窪みを有するシリカゲ
ルや、球状以外の粒子の混在するものポアサイズが小さ
く表面積の大きいもの、ポアサイズが大きく強度の低い
ものがしばしば得られた。
従って表面積が500〜5QOW?/9.平均細孔径8
0〜120A、細孔容積α8〜1.2d/9の物性を有
した平均粒径1〜20μの微小球状シリカゲルを得る為
には、特定の性状のスラリーを特定の噴霧方法により噴
霧乾燥することが必要である。
即ち前述の如(アルカリ金属珪酸塩水溶液を鉱酸の水溶
液と反応させてpH五〇〜40で1310.濃度&5〜
1 t 5 wt96の活性なケイ酸を生成させ、該ケ
イ酸を攪拌下でゲル化させ、アンモニア水溶液と反応さ
せた後濾過水洗し、得られたヒドロゲルを湿式粉砕する
ととくより生成したシリカヒドロゲルスラリーを二流体
方式により噴霧乾燥するに依り上記の目的を達成するこ
とができる。
本発明方法における二流体方式を加圧ノズル方式及び回
転ディスク方式による噴霧方法にかえたμ以上となり、
1〜20μの微小粒子を効率良く得ることが容易ではな
かった。
二流体方式に工り噴霧乾燥する際の条件としては%に限
定されないが、噴霧圧を419/(−111以上にする
ことが好ましい。噴霧圧を41ai/d未満で噴霧する
と、平均粒径が大きくなり、1〜20μの微小粒子の収
率が低下することがある。
乾燥用の熱風温度は100〜300℃程度で差し支えな
い。
以上の方法に依り、表面が滑らかで、異形粒子の混在す
ることのない液体クロマトグラフィー用充填剤として高
性能な微小球状シリカゲルを得ることが出来る。
〔発明の効果〕
以上の説明から明らかな様に本発明によれば、有機溶媒
あるいは有機材料を使用することな(、しかも煩雑な操
作を要せず簡単な方法で安価に表面が滑らかで異形粒子
の混在することのない液体クロマトグラフィー用充填剤
として高性能な微小球状シリカゲルを得ることが出来る
次に本発明を実施例により更に具体的に説明する。
実施例1 濃度15wt%の硫酸水溶液500gを50℃恒温槽に
設置、した反応槽に供給した。パドル型攪拌翼で硫酸水
溶液を攪拌しながら、Sl)濃度12 wt%の珪酸ナ
トリクム水溶液約12609を添加し、pH五5でSi
n、濃度&6wt%の活性なケイ酸を調製した。約10
分後該ケイ酸水溶液は増粘しゲル化を開始した。この時
攪拌を続行して、ヒドロゲルを破砕しながらゲル化を完
了させ、シリカヒドロゲルスラリーを得た。
シリカヒドロゲルスラリーに純水及び濃度約8wt%の
アンモニア水溶液を加え、SiQ、濃度約6 wt%X
JUaOに調整した後、80℃で2時間反応させた。
反応終了後、p過水洗した後、水に分散させグイノーミ
ル(ウィリー・A・パ、コーフェン社製)Kより湿式粉
砕し、次いで入口熱風温度200℃。
出口熱風温度100℃で噴霧圧5に9/cdtにセット
した二流体方式のスプレードライヤーにより噴霧乾燥し
た。
得られたシリカゲルは、20μ以下の球状で、表面は滑
らかであり、異形粒子の混在はほとんどなかった。
また、物性については、第1表に示す様に液体クロマト
グラフィー用充填剤として好適なものであった。
実施例2 濃度15wt%の硫酸水溶液100りを20℃恒温槽に
設置した反応槽に供給した。バドル型攪拌翼で硫酸水溶
液を攪拌しながらSin、濃度12wt%の珪酸ナトリ
ウム約2859を添加しpH4,0でSiQ!濃度a 
9 wt%の活性なケイ酸を調製した。約50分後、該
ケイ酸水溶液はゲル化を開始した。
攪拌によりヒドロゲルを破砕しながらゲル化させ、更V
C80℃に昇温してゲル化を完了させた。
得られたシリカヒドロゲルスラリーに純水及び濃度約8
 wt%のアンモニア水溶液を加え、Sio!濃度約6
 wt%、pHaoに調整した後、77℃で一夜反応さ
せた。反応終了後、ヂ過水洗し、ポールミルにより湿式
粉砕し、次いで入口熱風温度200℃、出口熱風温度1
00℃で、噴霧圧7J19/cdIKセ、トシた二流体
方式のスプレードライヤーにより噴霧乾燥した。
得られたシリカゲルは、20μ以下の微小球で表面は滑
らかであり、異形粒子の混在はほとんど無かった。
また、物性については、第1表に示す様に液体クロマト
グラフィー用充填剤として好適なものであった。
比較例1 濃度15wt%の硫酸水溶液2009にSin、濃度2
0 wt%の珪酸ナトリウム水溶液3419を添加して
、pH40でSin、濃度I L 6 wt%17)活
性ケイ酸を得た以外は、実施例2と同じ条件で実施した
得られたシリカゲルは球状で表面は滑らかで、異形粒子
の混在は無かったが、第1表に示す様に平均粒子径、ポ
アサイズが大きく、また細孔容積も大きく比較的弱いも
のであった。
比較例2 実施例2と同様にして、ただしSl−濃度7.5 wt
%の珪酸ナトリウム水溶液4469を添加して、pH4
,0で810.濃度& I wt%の活性なケイ酸を調
製して実施した。
得られたシリカゲルは、20μ以下の微小球で表面は滑
らかで、異形粒子の混在は無かったが、第1表に示す様
にポアサイズが小さく細孔容積の小さいものであった。
比較例3 実施例2と同様にして、ただしアンモニアを添加せず、
pH6で80℃−要処理して実施した。
得られたシリカゲルは、20μ以下の微小球で表面は滑
らかであり、異形粒子の混在はほとんど無かったが、第
1表に示す様にポアサイズの小さいものであった。
比較例4 実施例1と同様にして、ただし湿式粉砕せずに実施した
得られたシリカゲルは球状であるが、表面に凹凸があり
、しかも異形粒子の混在するものであった。
比較例5 実施例1と同様にして、ただし回転ディスク方式のスプ
レードライヤーにより噴霧乾燥して実施した。
得られたシリカゲルは、球状で表面は滑らかであり、異
形粒子の混在は無かったが、平均粒子径が40μで20
μ以下の微小粒子の少ないものであった。
比較例6 実施例1と同様にして、ただし加圧ノズル方式のスプレ
ードライヤーにより噴霧乾燥して実施したO 得られたシリカゲルは球状で表面は滑らかであり、異形
粒子の混在は無かったが、平均粒子径が80μで、20
μ以下の微小粒子はほとんど無かった〇 第  1  表

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)アルカリ金属珪酸塩の水溶液を鉱酸の水溶液と反
    応させて得られるシリカヒドロゲルスラリーを噴霧乾燥
    することに依りシリカゲルを得る方法において a、アルカリ金属珪酸塩の水溶液を鉱酸の水溶液と反応
    させてpH3.0〜4.0でSiO_2を濃度6.5〜
    11.5wt%の活性なケイ酸を生成させ b、該ケイ酸を攪拌下でゲル化させ c、アンモニア水溶液と反応させた後、ろ過水洗し d、得られたヒドロゲルを湿式粉砕し e、二流体ノズル方式により噴霧乾燥する ことを特徴とする液体クロマトグラフィー用シリカゲル
    の製造方法。
JP61116205A 1986-05-22 1986-05-22 液体クロマトグラフイ−用シリカゲルの製造方法 Expired - Lifetime JPH0764542B2 (ja)

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