JPS62279650A - 半導体ウエ−ハの電気的特性測定用プロ−ブ針 - Google Patents

半導体ウエ−ハの電気的特性測定用プロ−ブ針

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JPS62279650A
JPS62279650A JP12311186A JP12311186A JPS62279650A JP S62279650 A JPS62279650 A JP S62279650A JP 12311186 A JP12311186 A JP 12311186A JP 12311186 A JP12311186 A JP 12311186A JP S62279650 A JPS62279650 A JP S62279650A
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dielectric substrate
insulator
probe needle
transmission line
transmission lines
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Hiroshi Yanagihara
浩 柳原
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Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の詳細な説明 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体ウェーハ上のIC,、LSI等の電気
的特性を測定する為のプローブ針に関する。
(従来の技術) 従来、第 図に示すウェーハ1上のIC,LSI等の電
気的特性を測定するのに、高い周波数領域でも電気的特
性の測定可能なプローブ針として、第6図に示す如く同
軸ケーブル3の先端中心に信号線4を突出し、同軸ケー
ブル3の先端外周にグランド部を取付けてその尖端を信
号線4の尖端に平行に200μ程度接近させて成る同軸
型プローブ針6を第7図の如く計測器7のx、y、z軸
方向に移動可能なアーム8にセットし、ウェーハ1上の
IC,LSI等のバッド2に接触させてパラメータを測
定する方法が採られている。
(発明が解決しようとする問題点) ところで、上記同軸型プローブ針6は、信号線4とグラ
ンド部が同軸ケーブル3の先端で数11にわたって同軸
構造をとらない為、特性インピーダンスがその部分で変
化してしまい、高周波数領域での正確な電気的特性測定
ができなかった。また、この構造では多端子化が不可能
であった。さらに、上記プローブ針6は、信号線4とグ
ランド部がシールドされていないので、クコストーク、
即ち雑音が大きいという問題があった。
一方、近時IC,LSIは高密度、高速化の開発が進め
られ、これに伴いこれらを評価するためのプローバとし
ては、特性インピーダンスの安定化、多端子化、ウェー
ハ上のパッドとの確実なコンタクト及びクコストークの
低減の図れるプローブ針を備えることが必要で、これの
開発が急がれている。
そこで本発明は、特性インピーダンスの設定に対する安
定化、多端子化、確実なコンタクト及びクロストークの
低減を達成でき、高周波数領域で正確な電気的特性測定
をできるプローブ針を提供しようとするものである。
(問題点を解決するための手段) 上記問題点を解決するための第1発明のプローブ針は、
誘電体基板上に、伝送線路を複数列平行に設け、この各
伝送線路の先端部を上方に隆起させて該隆起部の下側の
誘電体基板との間に空間部を形成するか又は弾性体を充
填して隆起部を接触部となし、この接触部を除いて少な
くとも誘電体基板上に伝送線路を挾んで絶縁体を接着し
、少なくとも前記絶縁体の上面に導電体を接合して成る
ものである。
第2発明のプローブ針は、第1発明のプローブ針に於い
て、各伝送線路の両側にて誘電体基板上にグランド線路
を平行に設けたものである。
第3発明のプローブ針は、第1発明のプローブ針に於い
て、左右両側端部長手方向に一定間隔にスルホールを穿
設し導電めっきを施して、絶縁体の上面及び誘電体基板
の下面の導電体を導通させたものである。
第4発明のプローブ針は、第3発明のプローブ針に於い
て、各伝送線路の両側にて誘電体基板上にグランド線路
を平行に設け、絶縁体の上面及び誘電体基板の下面の導
電体を導通させて成るものである。
(実施例) 第1発明のプローブ針の各種実施例を第1図a乃至Cに
よって説明する。
第1図aに示すプローブ針10は、アルミナ(AZZ0
3)より成る長さ4f)n、幅1011、厚さ0 、6
 +11の誘電体基板11上の長手方向に、厚さ3μ、
幅150μのCuより成る伝送線路12が200μの間
隔を存して3列平行に設けられ、各伝送線路12の先端
部は上方に2字状に屈曲成形されて高さ100μ隆起せ
しめられ、この隆起部13の下側の誘電体基板11との
間には空間部14が形成されて、隆起部13が接触部と
なっている。この接触部を除いて誘電体基板11上には
伝送線路12を挾んで厚さ100μのボリイミドより成
る絶縁体15が接着され、その絶縁体15の上面には厚
さ3μのCuより成る導電体16が接合されている。
第1図すに示すプローブ針10′は、第1図aと同じ誘
電体基板上1上の各伝送線路12の先端部が側面台形状
に屈曲成形されて高さ100μ隆起せしめられ、この隆
起部13′の下側の誘電体基板11との間に弾性材17
、例えばポリイミドが充填されて隆起部13′が接触部
となされ、この接触部を除いて誘電体基板11上に伝送
線路を挾んで厚さ100μのアルミナより成る絶縁体1
5′が接着され、その絶縁体15′の上面及び誘電体基
板上11の下面に厚さ3μのCuより成る導電体16が
接合されて成るものである。
第1図Cに示すプローブ針10“は、第1図aに示すプ
ローブ針10の絶縁体15を誘電体基板上11上だけで
なく全周に被覆し、さらにそれを包みこむように導電体
16を全周に接着したものである。
次に第2発明のプローブ針の各種実施例を第2図a乃至
Cによって説明する。
第2図aに示すプローブ針18は、第1図aに示すプロ
ーブ針10の各伝送線路12間及びその両外側にて誘電
体基板11上に厚さ3μ、幅150μのCuより成るグ
ランド線路19が伝送線路12と200μの間隔を存し
て平行に設けられているもので、その他の構成は第1図
aのプローブ針10と同一である。
第2図すに示すプローブ針20は、第1図すに示すプロ
ーブ針10′の各伝送線路12間及びその両外側にて誘
電体基板11上に厚さ3μ、幅150μのCuより成る
グランド線路19が伝送線路12と200μの間隔を存
して平行に設けられているもので、その他の構成は第1
図すのプローブ針10’と同一である。
第2図Cに示すプローブ針21は、第1図Cに示すプロ
ーブ針10″の各伝送線路12間及びその両外側にて誘
電体基板11上に厚さ3μ、幅150μのCuより成る
グランド線路19が伝送線路12と200μの間隔を存
して平行に設けられているもので、その他の構成は第1
図Cのプローブ針10“と同一である。
次いで第3発明のプローブ針の各種実施例を第3図によ
って説明する。
第3図に示すプローブ針22は、第1図すに示すプロー
ブ針10′の左右両側端部長手方向に3011間隔に直
径1 +nのスルホール23を穿設して、該スルホール
23に銅めっきを施し、上下両面の導電体16を導通し
て成るものである。
尚、このプローブ針22の伝送線路12の先端部の隆起
部13′は、第1図aに示す伝送線路12の先端部の隆
起部13に代えても良いものである。
次に第4発明のプローブ針の各種実施例を第4図によっ
て説明する。
第4図に示すプローブ針25は、第3図に示すプローブ
針22の伝送線路12間及びその両外側にて誘電体基板
11上に厚さ3μ、幅150μのCuより成るグランド
線路19が伝送線路12と200μの間隔を存して平行
に設けられているもので、その他の構成は第3図のプロ
ーブ針22と同一である。
尚、このプローブ針26の伝送線路12の先端部の隆起
部13′は、第1図aに示す伝送線路12の先端部の隆
、起部13に代えても良いものである。
上述の如く本発明の各プローブ針10.10′、10“
、18.20.21.22.25.26は、誘電体基板
11上に伝送線路12が3列平行に設けられているので
、伝送線路12はストリップ線路構造となっていて、伝
送線路12の特性インピーダンスには変化は無く、どの
部分でも一定である。そこで実施例のプローブ針、例え
ば第1図aのプローブ針10を第5図に示す如く計測器
7のX、Y、Z軸方向に移動可能なアーム8にセットし
、ウェーハ1上のIC,LSI等のパッド2に接触させ
て、電気的特性を測定したところ、高周波数領域で、本
例では30GH2の高周波数で正確に電気的特性を測定
できた。また、この測定を操り返し行っても、各伝送線
路12の先端部には隆起部13や13′が設けられ、そ
の下側に空間部14が形成され或いは弾性材17が充填
されて、隆起部13や13′が弾性変形できるようにし
であるので、前記電気的特性測定において、測定するウ
ェーハ1上のIC1LSI等のパッド2と接触した際、
各伝送線路12の接触部は潰れることが無く、常に確実
に安定して接触する。さらに、誘電体基板ll上の各伝
送線路12は絶縁体15に挾まれて、電気的にシールド
されているので、外部からのノイズが低減され、しかも
各伝送線路12間のクロストークが低減される。また、
導電体16が絶縁体15の上面、絶縁体15の上面と誘
電体基板11の下面、絶縁体15と誘電体基板11の重
合状態における同面等に接合されて、導電層が少なくと
も二層形成されているので、特性インピーダンスの設定
に対し著しく安定する。特に絶縁体15の上面と誘電体
基板11の下面の導電体16をスルホール23により導
通した第3発明及び第4発明の場合は、特性インピーダ
ンスの設定は極立って安定する。さらに、誘電体基板1
1上の各伝送線路12間及びその外側にグランド線路1
9を設けた第2発明及び第4発明の場合は、各伝送線路
12間がシールドされてクコストークが一層低減され、
雑音は殆んど生じない。
尚、上記各実施例のプローブ針の誘電体基vi11は、
アルミナより成るが、石英でも良いものである。また、
上記各実施例では伝送線路12が3列であるが、これに
限るものではなく、3列以上何列でも良いもので、数1
0列、数100列の場合もある。
さらに、絶縁体はアルミナとポリイミドの混合体より成
るものでも良い。また、導電体16上には必要に応じA
uめっきを施しても良いものである。
(発明の効果) 以上の説明で判るように本発明のプローブ針は、誘電体
基板上に、伝送線路を複数列平行に設けたものであるか
ら、伝送線路はストリップ線路構造となっている。従っ
て、特性インピーダンスの設定を安定化させることがで
き、また、各伝送線路はどの部分でも特性インピーダン
スを一定化でき、さらに複数列の伝送線路によって多端
子化が実現できる。その上、本発明のプローブ針は、各
伝送線路の先端部の接触部である隆起部が弾性変形する
ので、測定するウェーハ上のIC,、LSI等のバンド
に接触しても潰れることが無く、常に確実に安定して接
触する。また各伝送線路は絶縁体に挾まれたり伝送線路
間やその外側にグランド線路が設けられたりしているの
で、各伝送線路は電気的にシールドされて、外部からの
ノイズが低減され、しかも各伝送線路間のクロストーク
が低減され雑音が大幅に低減される。また、導電体が少
なくとも絶縁体の上面に接合されて、導電層が形成され
ているので、特性インピーダンスの設定が著しく安定す
る。とりわけ、上下両面に導電体が接合され、スルホー
ルめっきにて導通されている場合は、特性インピーダン
スの設定は極立って安定する。かくして、高密度、高速
化される半導体つ工−ハ上のIC,、LSI等のの高周
波数領域での電気的特性の測定を正確、確実に安定して
行うことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図a乃至Cは夫々本発明による第1発明の各種の実
施例を示す斜視図、第2図a乃至Cは夫々本発明による
第2発明の各種の実施例を示す斜視図、第3図a及びb
は夫々本発明による第3発明の各種の実施例を示す斜視
図、第4図a及びbは夫々本発明による第4発明の各種
の実施例を示す斜視図、第5図は第1図aのプローブ針
の使用状態を示す概略図、第6図は従来の同軸型プロー
ブ針の斜視図、第7図は第6図の同軸型プローブ針の使
用状態を示す概略図である。 出願人  田中貴金属工業株式会社 20.21・・・ブローフ゛計 第6図 手続補正書(方式) %式% 1、事件の表示 昭和61年特許願第123111号 2、発明の名称 半導体ウェーハの電気的特性測定用プローブ針3、補正
をする者 事件との関係   特許出願人 6、補正の内容 (1)明細書第13頁第18行目の「a及びbは夫々」
を「は」に補正する。 (2)同第13頁第19行目の「の各種」を削除する。 (3)同第13頁第19行乃至20行目の「a及びbは
夫々本発明による第4発明の各種」を「は本発明による
第4発明」に補正する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)誘電体基板上に、伝送線路を複数列平行に設け、こ
    の各伝送線路の先端部を上方に隆起させて該隆起部の下
    側の誘電体基板との間に空間部を形成するか又は弾性材
    を充填して隆起部を接触部となし、この接触部を除いて
    少なくとも誘電体基板上に伝送線路を挟んで絶縁体を接
    着し、少なくとも前記絶縁体の上面に導電体を接合して
    成る半導体ウェーハの電気的特性測定用プローブ針。 2)誘電体基板上に、伝送線路を複数列平行に設け、こ
    の各伝送線路の先端部を上方に隆起させて該隆起部の下
    側の誘電体基板との間に空間部を形成するか又は弾性材
    を充填して隆起部を接触部となし、前記各伝送線路の両
    側にて誘電体基板上にグランド線路を平行に設け、前記
    接触部を除いて少なくとも誘電体基板上に伝送線路及び
    グランド線路を挾んで絶縁体を接着し、少なくとも前記
    絶縁体の上面に導電体を接合して成る半導体ウェーハの
    電気的特性測定用プローブ針。 3)誘電体基板上に、伝送線路を複数列平行に設け、こ
    の各伝送線路の先端部を上方に隆起させて該隆起部の下
    側の誘電体基板との間に空間部を形成するか又は弾性材
    を充填して隆起部を接触部となし、前記接触部を除いて
    少なくとも誘電体基板上に伝送線路を挟んで絶縁体を接
    着し、この絶縁体の上面及び誘電体基板側の下面に導電
    体を接合し、左右両側端部長手方向に一定間隔にスルホ
    ールを穿設し導電めっきを施して上下両面の導電シート
    を導通させて成る半導体ウェーハの電気的特性測定用プ
    ローブ針。 4)誘電体基板上に、伝送線路を複数列平行に設け、こ
    の各伝送線路の先端部を上方に隆起させて該隆起部の下
    側の誘電体基板との間に空間部を形成するか又は弾性材
    を充填して隆起部を接触部となし、前記各伝送線路の両
    側にて誘電体基板上にグランド線路を平行に設け、前記
    接触部を除いて少なくとも誘電体基板上に伝送線路及び
    グランド線路を挟んで絶縁体を接着し、この絶縁体の上
    面及び誘電体基板側の下面に導電体を接合し、左右両側
    端部長手方向に一定間隔にスルホールを穿設し導電めっ
    きを施して上下両面の導電シートを導通させて成る半導
    体ウェーハの電気的特性測定用プローブ針。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10282144A (ja) * 1997-04-07 1998-10-23 Micronics Japan Co Ltd 平板状被検査体試験用プローブユニット
US6281691B1 (en) 1998-06-09 2001-08-28 Nec Corporation Tip portion structure of high-frequency probe and method for fabrication probe tip portion composed by coaxial cable
JP2009294064A (ja) * 2008-06-05 2009-12-17 Totoku Electric Co Ltd 高周波測定用プローブ

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59141239A (ja) * 1983-01-31 1984-08-13 Fujitsu Ltd Ic測定用プロ−バ
JPS60236241A (ja) * 1984-04-30 1985-11-25 カスケード・マイクロテツク・インコーポレイテツド ウエハプローブ
JPS612338A (ja) * 1984-06-15 1986-01-08 Hitachi Ltd 検査装置
JPS6114389U (ja) * 1984-06-29 1986-01-28 日立電子エンジニアリング株式会社 高周波コンタクト装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59141239A (ja) * 1983-01-31 1984-08-13 Fujitsu Ltd Ic測定用プロ−バ
JPS60236241A (ja) * 1984-04-30 1985-11-25 カスケード・マイクロテツク・インコーポレイテツド ウエハプローブ
JPS612338A (ja) * 1984-06-15 1986-01-08 Hitachi Ltd 検査装置
JPS6114389U (ja) * 1984-06-29 1986-01-28 日立電子エンジニアリング株式会社 高周波コンタクト装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10282144A (ja) * 1997-04-07 1998-10-23 Micronics Japan Co Ltd 平板状被検査体試験用プローブユニット
US6281691B1 (en) 1998-06-09 2001-08-28 Nec Corporation Tip portion structure of high-frequency probe and method for fabrication probe tip portion composed by coaxial cable
US6400168B2 (en) 1998-06-09 2002-06-04 Nec Corporation Method for fabricating probe tip portion composed by coaxial cable
JP2009294064A (ja) * 2008-06-05 2009-12-17 Totoku Electric Co Ltd 高周波測定用プローブ

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