JPS62293629A - 半導体装置の加速寿命試験方法 - Google Patents
半導体装置の加速寿命試験方法Info
- Publication number
- JPS62293629A JPS62293629A JP13737786A JP13737786A JPS62293629A JP S62293629 A JPS62293629 A JP S62293629A JP 13737786 A JP13737786 A JP 13737786A JP 13737786 A JP13737786 A JP 13737786A JP S62293629 A JPS62293629 A JP S62293629A
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- heater
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体装置の加速寿命試験方法に関し、特に半
導体装置をウェハース状態で試験を行う半導体装置の加
速寿命試験方法に関する。
導体装置をウェハース状態で試験を行う半導体装置の加
速寿命試験方法に関する。
従来、半導体装置をウェハース状態で行う加速寿命試験
は、第2図および第3図に例示するような方法によって
いる。すなわち、第2図に示す例は、針8をヒータ7上
に搭載したウェハース4上に斜めから接触させ、ヒータ
7を加熱しながらこの針8にバイアス電圧を印加する方
法であり、第3図に示す例は、ヒータ7上に搭載したウ
ェハース4を電極lOの付いたふた9によって挟んで電
極に10バイアス電圧を印加する方法である。
は、第2図および第3図に例示するような方法によって
いる。すなわち、第2図に示す例は、針8をヒータ7上
に搭載したウェハース4上に斜めから接触させ、ヒータ
7を加熱しながらこの針8にバイアス電圧を印加する方
法であり、第3図に示す例は、ヒータ7上に搭載したウ
ェハース4を電極lOの付いたふた9によって挟んで電
極に10バイアス電圧を印加する方法である。
上述したような従来の半導体装置の加速寿命試験方法は
、第2図の方法の場合は、バイアス電圧印加のためにウ
ェハースと接触する針が、ウェハースの表面に対して傾
斜しているため、1枚のつェハースによって多量の半導
体装置の試験を行おうとしたとき、近接する針が互に接
触するため、多量の半導体装置の試験を同時に行うこと
ができないという欠点がある。また、第3図に示した方
法の場合は、多量の半導体装置の試験を同時に行うこと
は可能であるが、ウェハースと接触するバイアス印加の
ための電極に伸縮性がないため、ウェハースをヒータと
ふたとではさみ込んだ時、一部に大きな圧力が加わって
ウェハースが割れる可能性があるという欠点がある。
、第2図の方法の場合は、バイアス電圧印加のためにウ
ェハースと接触する針が、ウェハースの表面に対して傾
斜しているため、1枚のつェハースによって多量の半導
体装置の試験を行おうとしたとき、近接する針が互に接
触するため、多量の半導体装置の試験を同時に行うこと
ができないという欠点がある。また、第3図に示した方
法の場合は、多量の半導体装置の試験を同時に行うこと
は可能であるが、ウェハースと接触するバイアス印加の
ための電極に伸縮性がないため、ウェハースをヒータと
ふたとではさみ込んだ時、一部に大きな圧力が加わって
ウェハースが割れる可能性があるという欠点がある。
本発明が解決しようとする問題点、換言すれば本発明の
目的は、上述のような従来の半導体装置の加速寿命試験
方法の欠点な除去して、同時に多量の半導体装置をウェ
ハース状悪で試験を行うことが可能で、しかもウェハー
スを破損するおそれがないため、安全性の高い半導体装
置の加速寿命試験方法を提供することにある。
目的は、上述のような従来の半導体装置の加速寿命試験
方法の欠点な除去して、同時に多量の半導体装置をウェ
ハース状悪で試験を行うことが可能で、しかもウェハー
スを破損するおそれがないため、安全性の高い半導体装
置の加速寿命試験方法を提供することにある。
本発明の半導体装置の加速寿命試験方法は、平坦な上面
を有し任意の温度に設定自在なヒータ上にウェハースの
外形形状と一致する穴を有する所定の厚さのスペーサを
載せ、前記スペーサの前記穴の中に被試験体の前記ウェ
ハースを嵌入して前記ヒータと接触させ、前記ウェハー
ス内の各半導体装置に対応した位置に対応して設けられ
下方に向って垂直に植設されて上下方向に伸縮自在であ
りかつその寸法が前記スペーサの厚さと前記ウェハース
の厚さとの差より大きい長さの複数個の針を有するふた
を被せ、前記ふたを前記スペーサに密着させて固定した
のち前記ヒータに電流を供給して設定温度に保持し、前
記針にバイアス電圧を供給して構成される。
を有し任意の温度に設定自在なヒータ上にウェハースの
外形形状と一致する穴を有する所定の厚さのスペーサを
載せ、前記スペーサの前記穴の中に被試験体の前記ウェ
ハースを嵌入して前記ヒータと接触させ、前記ウェハー
ス内の各半導体装置に対応した位置に対応して設けられ
下方に向って垂直に植設されて上下方向に伸縮自在であ
りかつその寸法が前記スペーサの厚さと前記ウェハース
の厚さとの差より大きい長さの複数個の針を有するふた
を被せ、前記ふたを前記スペーサに密着させて固定した
のち前記ヒータに電流を供給して設定温度に保持し、前
記針にバイアス電圧を供給して構成される。
次に、本発明について図面を参照して詳細に説明する。
第1図(a)および(b)は本発明の一実施例を用いた
試験装置の一例を示す平面図およびA−A断面図である
。
試験装置の一例を示す平面図およびA−A断面図である
。
第1図において、ヒータ17の上にウェハース4の外形
形状に合わせた形状の穴を有するスペーサ6を載せ、ス
ペーサ6の穴の中にウェハース4を入れてその上方から
ふた2を載せる。ふた2には、鉛直下方に伸長じた多数
の針1が植設されていて、この針1はウェハース4内の
各半導体装置の電極と接触し、すべての針1は上下方向
に伸縮性を有するように構成されており、その長さはス
ペーサ6の厚さとウェハース4の厚さとの差より長くな
っている。
形状に合わせた形状の穴を有するスペーサ6を載せ、ス
ペーサ6の穴の中にウェハース4を入れてその上方から
ふた2を載せる。ふた2には、鉛直下方に伸長じた多数
の針1が植設されていて、この針1はウェハース4内の
各半導体装置の電極と接触し、すべての針1は上下方向
に伸縮性を有するように構成されており、その長さはス
ペーサ6の厚さとウェハース4の厚さとの差より長くな
っている。
次に、ふた2がスペーサ6と密接する迄固定具3によっ
て締めつけて固定し、ヒータ17に電流を供給して設定
温度まで上昇させる。温度が安定したのち、ふた2に設
けられている端子5からバイアス印加を供給して針1を
介してウェハース4の各半導体装置にバイアス電圧を印
加することによってそれらの加速寿命試験を行う。
て締めつけて固定し、ヒータ17に電流を供給して設定
温度まで上昇させる。温度が安定したのち、ふた2に設
けられている端子5からバイアス印加を供給して針1を
介してウェハース4の各半導体装置にバイアス電圧を印
加することによってそれらの加速寿命試験を行う。
以上説明したように本発明の半導体装置の加速寿命試験
方法は、ウェハースの面と垂直な方向に植設された伸縮
性のある針を用いることによって、一枚のウェハース内
の多数の半導体装置の試験を同時に行うことができると
いう効果があり、しがも針の伸縮性によってウェハース
の局部に大きな力を加えることがないため、ウェハース
を破損することなく安全に試験を行うことができるとい
う効果がある。
方法は、ウェハースの面と垂直な方向に植設された伸縮
性のある針を用いることによって、一枚のウェハース内
の多数の半導体装置の試験を同時に行うことができると
いう効果があり、しがも針の伸縮性によってウェハース
の局部に大きな力を加えることがないため、ウェハース
を破損することなく安全に試験を行うことができるとい
う効果がある。
第1図(a)および(b)は本発明の半導体装置の加速
寿命試験方法の一実施例を用いた試験装置の一例を示す
平面図およびA−A断面図、第2図および第3図は従来
の試験方法の例を示す断面図である。 1・・・針、2・・・ふた、3・・・固定具、4・・・
ウェハース、5・・・端子、6・・・スペーサ、7・・
・ヒータ、8・・・針、9・・・ふた、10・・・電極
。
寿命試験方法の一実施例を用いた試験装置の一例を示す
平面図およびA−A断面図、第2図および第3図は従来
の試験方法の例を示す断面図である。 1・・・針、2・・・ふた、3・・・固定具、4・・・
ウェハース、5・・・端子、6・・・スペーサ、7・・
・ヒータ、8・・・針、9・・・ふた、10・・・電極
。
Claims (1)
- 平坦な上面を有し任意の温度に設定自在なヒータ上にウ
ェハースの外形形状と一致する穴を有する所定の厚さの
スペーサを載せ、前記スペーサの前記穴の中に被試験体
の前記ウェハースを嵌入して前記ヒータと接触させ、前
記ウェハース内の各半導体装置に対応した位置に対応し
て設けられ下方に向って垂直に植設されて上下方向に伸
縮自在でありかつその寸法が前記スペーサの厚さと前記
ウェハースの厚さとの差より大きい長さの複数個の針を
有するふたを被せ、前記ふたを前記スペーサに密着させ
て固定したのち前記ヒータに電流を供給して設定温度に
保持し、前記針にバイアス電圧を供給することを特徴と
する半導体装置の加速寿命試験方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13737786A JPS62293629A (ja) | 1986-06-12 | 1986-06-12 | 半導体装置の加速寿命試験方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13737786A JPS62293629A (ja) | 1986-06-12 | 1986-06-12 | 半導体装置の加速寿命試験方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62293629A true JPS62293629A (ja) | 1987-12-21 |
| JPH0584670B2 JPH0584670B2 (ja) | 1993-12-02 |
Family
ID=15197261
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13737786A Granted JPS62293629A (ja) | 1986-06-12 | 1986-06-12 | 半導体装置の加速寿命試験方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62293629A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6435926A (en) * | 1987-07-30 | 1989-02-07 | Tokyo Electron Ltd | Reliability testing system for semiconductor element |
| US5219765A (en) * | 1990-09-12 | 1993-06-15 | Hitachi, Ltd. | Method for manufacturing a semiconductor device including wafer aging, probe inspection, and feeding back the results of the inspection to the device fabrication process |
| US5291127A (en) * | 1991-05-03 | 1994-03-01 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Chip-lifetime testing instrument for semiconductor devices |
| US5315240A (en) * | 1991-05-31 | 1994-05-24 | Ej Systems, Inc. | Thermal control system for a semi-conductor burn-in |
| US5539324A (en) * | 1988-09-30 | 1996-07-23 | Micron Technology, Inc. | Universal wafer carrier for wafer level die burn-in |
| US5726580A (en) * | 1990-08-29 | 1998-03-10 | Micron Technology, Inc. | Universal wafer carrier for wafer level die burn-in |
| US5952840A (en) * | 1996-12-31 | 1999-09-14 | Micron Technology, Inc. | Apparatus for testing semiconductor wafers |
| US7511520B2 (en) | 1990-08-29 | 2009-03-31 | Micron Technology, Inc. | Universal wafer carrier for wafer level die burn-in |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57179168U (ja) * | 1981-05-07 | 1982-11-13 | ||
| JPS5974729U (ja) * | 1982-11-10 | 1984-05-21 | クラリオン株式会社 | 試料測定装置 |
-
1986
- 1986-06-12 JP JP13737786A patent/JPS62293629A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57179168U (ja) * | 1981-05-07 | 1982-11-13 | ||
| JPS5974729U (ja) * | 1982-11-10 | 1984-05-21 | クラリオン株式会社 | 試料測定装置 |
Cited By (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6435926A (en) * | 1987-07-30 | 1989-02-07 | Tokyo Electron Ltd | Reliability testing system for semiconductor element |
| US5539324A (en) * | 1988-09-30 | 1996-07-23 | Micron Technology, Inc. | Universal wafer carrier for wafer level die burn-in |
| US7161373B2 (en) | 1990-08-29 | 2007-01-09 | Micron Technology, Inc. | Method for testing using a universal wafer carrier for wafer level die burn-in |
| US6087845A (en) * | 1990-08-29 | 2000-07-11 | Micron Technology, Inc. | Universal wafer carrier for wafer level die burn-in |
| US7511520B2 (en) | 1990-08-29 | 2009-03-31 | Micron Technology, Inc. | Universal wafer carrier for wafer level die burn-in |
| US5726580A (en) * | 1990-08-29 | 1998-03-10 | Micron Technology, Inc. | Universal wafer carrier for wafer level die burn-in |
| US5859539A (en) * | 1990-08-29 | 1999-01-12 | Micron Technology, Inc. | Universal wafer carrier for wafer level die burn-in |
| US7362113B2 (en) | 1990-08-29 | 2008-04-22 | Micron Technology, Inc. | Universal wafer carrier for wafer level die burn-in |
| US7288953B2 (en) | 1990-08-29 | 2007-10-30 | Micron Technology, Inc. | Method for testing using a universal wafer carrier for wafer level die burn-in |
| US7167014B2 (en) | 1990-08-29 | 2007-01-23 | Micron Technology, Inc. | Method for testing using a universal wafer carrier for wafer level die burn-in |
| US6091254A (en) * | 1990-08-29 | 2000-07-18 | Micron Technology, Inc. | Universal wafer carrier for wafer level die burn-in |
| US6737882B2 (en) | 1990-08-29 | 2004-05-18 | Micron Technology, Inc. | Method for universal wafer carrier for wafer level die burn-in |
| US7167012B2 (en) | 1990-08-29 | 2007-01-23 | Micron Technology, Inc. | Universal wafer carrier for wafer level die burn-in |
| US6535012B1 (en) | 1990-08-29 | 2003-03-18 | Micron Technology, Inc. | Universal wafer carrier for wafer level die burn-in |
| US6342789B1 (en) | 1990-08-29 | 2002-01-29 | Micron Technology, Inc. | Universal wafer carrier for wafer level die burn-in |
| US7112986B2 (en) | 1990-08-29 | 2006-09-26 | Micron Technology, Inc. | Method for testing using a universal wafer carrier for wafer level die burn-in |
| US7112985B2 (en) | 1990-08-29 | 2006-09-26 | Micron Technology, Inc. | Method for testing using a universal wafer carrier for wafer level die burn-in |
| US7141997B2 (en) | 1990-08-29 | 2006-11-28 | Micron Technology, Inc. | Method for testing using a universal wafer carrier for wafer level die burn-in |
| US5219765A (en) * | 1990-09-12 | 1993-06-15 | Hitachi, Ltd. | Method for manufacturing a semiconductor device including wafer aging, probe inspection, and feeding back the results of the inspection to the device fabrication process |
| US5291127A (en) * | 1991-05-03 | 1994-03-01 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Chip-lifetime testing instrument for semiconductor devices |
| US5315240A (en) * | 1991-05-31 | 1994-05-24 | Ej Systems, Inc. | Thermal control system for a semi-conductor burn-in |
| US6362637B2 (en) | 1996-12-31 | 2002-03-26 | Micron Technology, Inc. | Apparatus for testing semiconductor wafers including base with contact members and terminal contacts |
| US6064216A (en) * | 1996-12-31 | 2000-05-16 | Micron Technology, Inc. | Apparatus for testing semiconductor wafers |
| US5952840A (en) * | 1996-12-31 | 1999-09-14 | Micron Technology, Inc. | Apparatus for testing semiconductor wafers |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0584670B2 (ja) | 1993-12-02 |
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