JPS6229779B2 - - Google Patents

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JPS6229779B2
JPS6229779B2 JP55059591A JP5959180A JPS6229779B2 JP S6229779 B2 JPS6229779 B2 JP S6229779B2 JP 55059591 A JP55059591 A JP 55059591A JP 5959180 A JP5959180 A JP 5959180A JP S6229779 B2 JPS6229779 B2 JP S6229779B2
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JP
Japan
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liquid crystal
sealant
discharge port
substrate
substrates
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JP55059591A
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English (en)
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JPS56155920A (en
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Kyohiro Uehara
Osamu Shimokawa
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339Gaskets; Spacers; Sealing of cells

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は新規な液晶表示装置の製法に関するも
のである。 液晶物質は電場の印加によりその化学的性質が
変化し、この性質を利用してパターンの表示、モ
ードパターンの観測、ホログラフイーなどの照射
エネルギー検出、光通信カメラのシボリ、ライト
バルブ、装飾用材料などに用いられる。 液晶表示装置はスペーサーで所定の間隔に保た
れた2枚の基板間に液晶物質を充填した構造より
成り、従来では基板としてガラス板が使用されて
きた。また基板には必要に応じ、電場印加用導電
被膜、背面光吸収又は反射性膜等が施されてい
る。 従来の液晶表示装置の液晶封入前では、第1図
〜第3図に示す構造であつた。すなわち基板1,
2間にスペーサー3を挾み、基板1,2間を一定
とし、スペーサー3又は基板1に液晶注入口4、
液晶排出口5等を設けておく。そして第1図と第
2図の構造の液晶表示装置では、装置を真空系の
中に置き、系が0.1〜10mmHg程度に達した時に液
晶注入口4より液晶物質が注がれる様にし、その
後系を常圧にもどして装置内に液晶物質を導入充
満していた。また第3図に示す構造の液晶表示装
置では、液晶注入口4を液晶物質中に浸し、液晶
排出口5より装置内の空気を吸引し、液晶物質を
導入充満していた。 上記のようにして導入充満後は、液晶注入口4
および排出口5を例えば第4図のようにシール剤
7によりシールしていた。 しかしながらこのような従来法では次のような
欠点があり工業的に優れた方法とは言えない。 真空にする工程又は吸引する工程、シール工
程等を必要とし、工程が複雑で面倒である。 スペーサー3とシール剤7との熱膨張率の相
違により両者の間に隙間が生じ易く、液晶物質
の密閉性が損われ易い。 そこで本発明者はこのような欠点を解消するた
め鋭意研究の結果、基板としてガラス板でなく可
撓性のプラスチツク基板を用い、特別の方法によ
り製造すれば、製造工程が大幅に簡単になりしか
も密閉性も完全な液晶表示装置が得られることを
見出し本発明を完成した。 すなわち本発明の要旨は、表面に薄膜状電極を
有する可撓性プラスチツク基板の1方に紫外線硬
化型樹脂を主成分とするシール剤を内周に沿つて
塗布し、シール剤内側に液晶物質を滴下し、表面
に薄膜状電極を有する他方の可撓性プラスチツク
基板を重ね合せ、塗布したシール剤を液晶排出口
に相当する部分を除いて紫外線を照射して硬化さ
せ、次に前記両基板を両側から押えて両基板間の
間隔を調節すると共に余分の液晶物質を液晶排出
口から排出し、しかる後に液晶排出口に相当する
塗布済のシール剤に紫外線を照射し硬化させ液晶
物質をシールすることを特徴とする液晶表示装置
の製法にある。 以下に本発明を詳細に説明するに、本発明では
基板としてプラスチツクフイルムを使用する。基
板としてプラスチツクフイルムを使用しようとす
るときそのプラスチツクフイルムには耐熱性、耐
薬品性、導電膜の密着性、抵抗値、可視光透過
率、平坦度、フイルム強度、旋光性等の物理的、
化学的諸性質が優れていることが要求される。最
近このような諸性質をほぼ具えた透明プラスチツ
クシートが現われ、なお改善の機運にある。そし
てその代表例としては、ポリエステルフイルム例
えばポリエチレンテレフタレート(PET)フイ
ルム、ポリブチレンテレフタレート(PBT)フ
イルム、さらにはポリエーテルスルフオンフイル
ム、それにポリカーボネートフイルムに酸化イン
ジウムの透明導電膜層を設けたものが挙げられ
る。そしてこれらのフイルムはパネル基板に使用
するためには通常液晶効果を高めるためにその面
上に、SiOの斜め蒸着等の配向処理を予じめして
おいたものを用いるのが通常である。 このような可撓性プラスチツク基板を用いて液
晶表示装置は次のようにして製造される。まず表
面に薄膜性電極を有する可撓性プラスチツク基板
の1方2に、シール剤7を内周に沿つてスクリー
ン印刷、転写方式等によつて第5図イのように塗
布する。シール剤7としては、紫外線硬化型樹脂
より成るものを使用し、その具体例としては種々
挙げることができるが、例えば紫外線により硬化
する公知のフオトレジスト、或いは次の(a)(b)(c)成
分を含有する樹脂組成物がある。 (a) 紫外線によりラジカルを発生する開始剤、 (b) ナイロンおよびエポキシ樹脂、 (c) 上記(a)(b)を溶解すると共に、プラスチツク基
板を溶解しうる溶媒。 ここに(a)成分として使用される紫外線によりラ
ジカルを発生する開始剤としては、紫外線照射に
よりラジカルを発生し、硬化反応を開始させる化
合物、例えばジエチルジチオカルバメート基のよ
うなジアルキルカルバメート基を分子末端に有す
る有機化合物、
【式】のよう なジアゾ化合物、又はチオールとアントラキノン
との混合物を挙げることができる。(b)成分の1つ
として使用するナイロンは、6−ナイロン、6・
6−ナイロン、12−ナイロン等のポリアミド樹脂
はすべて使用可能であるが、融点Tmが60℃<
Tm<150℃であるものが好ましい。ナイロンと
混用される(b)成分のエポキシ樹脂としては、グリ
シジルエーテル型、グリシジルエステル型、グリ
シジルアミン型、環状脂肪族型、線状脂肪族型の
ものをいずれも使用でき、分子量が300〜400程度
の比較的低分子量の液状のもので、ナイロンと架
橋結合するものであることが望ましい。分子量が
大きいエポキシ樹脂ではナイロンとの混合がうま
くゆかず、又硬化物がもろくなるので望ましくな
い。(b)成分中のナイロンとエポキシ樹脂の量比は
2:1〜5:1であるのが適当である。なお(b)成
分中にフタリルペルオキシドなどを添加しておく
と、紫外線照射により、更に強力に硬化するので
好ましい。上記(a)成分、(b)成分を溶解すると共
に、ポリエステル若しくはポリエーテルスルフオ
ン製等のプラスチツク基板を溶解しうる溶媒(c)と
しては、1・1・1・3・3・3−ヘキサフルオ
ロ−2−プロパノール(HFIP)、酢酸メチル、酢
酸エチル、トリクロルエチレン、メチレンクロラ
イド、メチルエチルケトン、酢酸セロソルブ、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、クロロホルム、
2−ニトロプロパン、ニトロメタン、フエノー
ル、メタクレゾールなどの単独溶媒の他、トルエ
ン/エタノール、トルエン/アセトン、ソルベン
トナフサ/アセトン、四塩化炭素/アセトン、酢
酸n−ブチル/トルエン、DOP/アセトンなど
の混合溶媒系が挙げられる。 (a)成分と(b)成分の配合割合は、 (a)成分:(b)成分=0.1〜1:100 であるのが適当で、この比よりも(a)成分が少なく
なると、硬化しなくなる。(c)成分に対する(a)(b)成
分の割合は、樹脂分が(c)成分である溶剤に完全に
溶解する量以下、即ち約30重量%以下であること
が望ましく、シール剤の塗布し易い粘度からみて
約10〜20重量%の範囲が良い。濃度が10%末満で
あると粘度が低いため流れ易くシール部分への塗
布は困難になる。 次にシール剤7内側に液晶物質6を滴下し他の
プラスチツク基板を重ね合せる。そして塗布した
シール剤のうち、液晶排出口5に相当する部分を
ステンレス等でマスクし紫外線が照射されないよ
うにしておき、シール剤7全体に紫外線を照射し
て第5図ロのように硬化させる。硬化したならば
両基板1,2を上下両側から押えて両基板1,2
間の間隔を所定の位置に調整する。この時シール
剤内側に滴下されている液晶物質6のうち余分な
ものは、液晶排出口5に相当するシール剤部分が
未硬化なため、ここから第5図ロの矢印のように
排出される。 次にマスクを除去し排出口5部分のみ或いは全
体に紫外線を照射すると、未硬化な個所も硬化し
液晶物質6は第5図ハのように完全にシールされ
る。 以上のような製法は液晶物質の封入に際して真
空にしたり、また空気を吸引したりする必要もな
く、さらに基板又はスペーサーの開口部を別のシ
ール剤でシールするといつた煩雑な工程を必要と
しないので、大量生産には好適である。また基板
としてPETの如き透明プラスチツクフイルムが
使用できるので、テープ状の透明プラスチツクフ
イルムを用いた液晶表示装置の製造が可能とな
り、従来のガラス製基板を用いる場合と比べ取り
扱いが極めて簡単である。 実施例 1 ポリエチレンテレフタレートフイルム上に少量
のスズを含む酸化インジウムの透明導電膜を設け
たプラスチツクフイルムに、SiOを斜めに蒸着
し、水平配向処理を施し上下基板を作る。さらに
10μφ長さ30〜50μのグラスフアイバーを基板上
に分散させる(約10ケ/cm2)。この下基板にマイ
クロフオトレジスト(日本合成ゴム株式会社製商
品名JSRCIR)を主成分とするシール材を第5図
の形状に厚さ100μ、幅100μにスクリーン印刷に
より塗布した。次に80℃で30分間乾燥後、ビフエ
ニル系液晶(BDH社製E−7)をシール剤内に
滴下し、次いでもう1枚の上基板を重ね、液晶排
出口に相当する部分をステンレスでマスクし、
500wランプにより紫外線を10cmの距離から1分
間照射しシール剤を液晶排出口に相当する部分を
除いて硬化させた。次に両基板を両側から指で押
えて基板間の間隔を10μmに調節すると共に余分
の液晶物質を液晶排出口から排出し、しかる後に
基板全体に500wランプにより紫外線を10cmの距
離から1分間照射し液晶排出口部分のシール剤を
硬化させて液晶表示装置を製作した。 このものの性質は次の通りであつた。 シール強度(剥離テスト) フイルムが破断するか又は導電膜からはがれ
る。 耐薬品性(HFIP中1時間) 基板表面が部分溶解又は白化するが、シール部
に変化はない。 耐水性(室温、90%温度で24時間) 液晶表示装置の電流値及び液晶の配向に変化は
みられなかつた。 上記した性質はこの液晶表示装置が十分実用に
たえることを示している。 なおポリエチレンテレフタレートフイルムの代
りに、ポリエーテルスルフオンフイルムまたはポ
リカーボネートフイルムを使用しても同様な液晶
表示装置が得られた。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第3図は液晶封入前の従来の液晶表示
装置を示す平面図、第4図は第1図の装置をシー
ルした状態を示す平面図、第5図は本発明方法の
実施方法を示す平面図である。 1,2……基板、3……スペーサー、4……液
晶注入口、5……液晶排出口、6……液晶物質、
7……シール剤。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 表面に薄膜状電極を有する可撓性プラスチツ
    ク基板の一方に紫外線硬化型樹脂を主成分とする
    シール剤を内周に沿つて塗布し、シール剤内側に
    液晶物質を滴下し、表面に薄膜状電極を有する他
    方の可撓性プラスチツク基板を重ね合せ、塗布し
    たシール剤を液晶排出口に相当する部分を除いて
    紫外線を照射して硬化させ、次に前記両基板を両
    側から押えて両基板間の間隔を調節すると共に余
    分の液晶物質を液晶排出口から排出し、しかる後
    に液晶排出口に相当する塗布済のシール剤に紫外
    線を照射し硬化させ液晶物質をシールすることを
    特徴とする液晶表示装置の製法。
JP5959180A 1980-05-06 1980-05-06 Manufacture of liquid crystal display device Granted JPS56155920A (en)

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