JPS6231771A - ダイアフラム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、基布の両面が高分子弾性体層とされ絞り部を
有するダイアフラムに関する。

〈従来の技術〉 ここでは、絞り部を有するダイアフラム１として、第５
〜８図に示す如く、環状湾曲部（絞り部）２を有するア
クチューエータ用のものを例に採り説明するがこれに限
られるものではない。

従来、上記ダイアフラム１を成形するには、基布３の両
面が高分子夕１性体層４とされた積層シート材から打ち
抜きにより得たブランク（ゴム材の場合未加硫物）５を
、第６図に示すように雌型６にセット後、雄型７又は雌
型６を型閉じ方向に移動させ、第７図に示すように材料
流れ開始直前の浅い絞りから材料流れを生じさせ最終的
に第８図に示すように絞り込んで（圧伸して）成形する
。

〈発明が解決しようとする問題点〉 上記絞り成形において、材料流れ開始直前には、第７図
に示すように、ブランク５の周縁外方に材料に存在しな
い環状空間１０ができるため、第８図に示す絞り込み完
了に至るまでの材料流れは、環状空間１０方向、即ち放
射方向となり、基布３は放射方向に引っ張られる。この
とき、基布３は一般に補強性の見地から伸びないポリエ
ステル糸、ナイロン糸等で形成され、平織又はニットで
形成されているため、はとんど伸びないか又はニットで
あっても伸びにくい方向があり、また、基布の布目は一
般に渣動材料を通す。従って、第８図に示すように基布
３が偏在して絞り部２の内側に部分的に露出しやすい、
このダイアフラム１における基布の露出は、接触流体の
ダイアプラム内へ毛細管現象的に透過を促進し、また、
ダイヤプラムの膜作動性に悪影響を与え望ましくない、
なお、基布をゴム糸のような伸びる糸で形成すれば、基
布は材料流れに追従して基布は偏在しないが、成形品を
金型から取り出した後の糸の弾性戻りが大きいため、ダ
イアフラムの膜面に“しわ”が発生するとともに、ゴム
糸は引張モジュラスが小さく基布の補強性が十分でない
。

〈問題点を解決するための手段〉 本発明者らは、上記問題点を解決すべく鋭意開発に努力
した結果、基布の両面が高分子弾性体層とされ、絞り部
を有するダイアフラムにおいて、基布として、ポリウレ
タン系弾性糸で形成され、該ポリウレタン系弾性繊糸を
ダイアフラム形成温度において緊張熱固定性を有するも
のを用いることに想到し、本発明のダイアフラムを完成
した。

〈発明の作用効果〉 本発明のダイアフラムは、上記手段により、基布の両面
に高分子弾性体層を有するブランクから絞り成形するに
際して、ブランクの放射方向への材料流れにより、基布
が放射方向に引っ張られてても、基布は伸びるため材料
流れに追従して、基布が偏在することがなく、基布が露
出して形成されることがない、また、基布を形成するポ
リウレタン系弾性糸はダイアフラム成形温度で緊張熱固
定性を有するので、成形品を金型から取り出した後め糸
、即ち基布の弾性戻りが小さく、ダイアフラムの膜面に
しわが発生することがなく、さらには、ポリウレタン系
弾性糸はゴム糸に比して引張モジュラスも２〜４倍と大
きく基布の補強性も十分である。

〈実施例〉 以下１本発明の実施例を第１〜４図に基づいて説明をす
る。

従来と同様、この実施例のダイアフラムＩＡは、基布３
Ａの両面が高分子弾性体層４．４とされ、中間部に環状
湾曲部（絞り部）２を有する。こコテ、高分子弾性体に
は、ＮＢＲ，ＥＰＤＭ、Ｃ０、ＥＣＯ等のゴム材の他に
、ウレタン系、ポリオレフィン系等の熱可塑性エラスト
マーも含まれる。

モして基布３Ａはポリウレタン系弾性糸からなり、この
弾性糸はダイアフラム形成温度において緊張熱固定性を
有するものとする。

上記のようなポリウレタン系弾性糸としては、例えば、
′オペロン”の商標で東し・デュポン（株）から製造販
売しているものを挙げることができ、通常、太さ１０〜
２０００Ｄのものを用いる。また、緊張熱固定性とは、
緊張熱処理後の糸の弾性戻りが少ない性質を言い、定量
的には下記式で示される熱固定率で示され、通常熱固定
率が６０％以上のものを緊張熱固定性を有するとする。

熱固定率＝熱処理後の糸長さ／緊張時の糸長さなお、オ
ペロンの場合、ゴムダイアフラムの形成温度１８０〜２
００℃で、熱固定率約６０〜９０％である。基布３Ａの
形成態様は、従来同様、平織又はニットとする。

次に、上記実施例のダイアプラムの形成方法を説明する
。

上記ポリウレタン系弾性糸からなる基布３Ａの両面が高
分子弾性体層４，４とされた積層シートｊ材から打ち抜
きにより得たブランク５Ａを、第２図に示すように雌型
６にセット後、雄型７又は雌型６を型閉じ方向に移動さ
せ、第３図に示すように材料流れ開始直前の浅い絞りか
ら材料流れを生じさせ最終的に第４図に示す如く絞り込
んで（圧伸して）成形する。

このとき、従来同様、材料流れ開始直前には、第３図に
示すようにブランク５Ａの周縁外方に材料の存在しない
環状空間１ｏができ、第４図に示す絞り込み完了までの
材料流れは、放射方向となり、基布３Ａは放射方向に引
っ張られる。ところが、基布３Ａは弾性糸からなるため
、材料流れに追従して基布３Ａも伸び、基布３Ａが偏在
して成形されることはなく、基布３Ａが露出するおそれ
がない、成形品を型から取り出した場合、基布を形成す
る弾性糸は緊張熱固定性を有するため、弾性戻りが小さ
く、ダイアフラムの膜面に“しゎ”が発生することもな
い。さらに当該弾性糸は、ゴム糸に比して引張モジュラ
スも２〜４倍と大きいため基布の補強性も十分である。

こうして得た成形品から環状リブ部１１の外側で切断し
て、第１図に示すようなダイアフラムＩＡを得る。

なお、本発明は、図例の断面と有するものに限られず、
皿型等、他の絞り形状を有するダイアフラムにも勿論適
用できる。

【図面の簡単な説明】

第１〜４図は本発明を示し、第１図はダイアフラムの一
例を示す断面図、第２〜４図は第１図のダイアフラム成
形に際しての各状態概略断面図で、第２図はブランクを
雌型にセット時の、第３図は材料流れ開始直前の、第４
図は絞り込み完了時のそれぞれ示し、第５〜８図は従来
例を示し、第５図は基布が偏在したダイアフラムの一例
を示す断面図、第６〜８図は第５図のダイアフラム成形
に際しての各状態概略断面図で、第６図はブランクを雌
型にセット時の、第７図は材料流れ開始直前の、第８図
は絞り込み完了時をそれぞれ示す。 １、ＩＡ・・・ダイアフラム、 ２・・・環状湾曲部（絞り部）、 ３．３Ａ・・・基布、 ５．５Ａ・・・ブランク、 ６・・・雌型、 ７・・・雄型、 １０・・・環状空間。 特　　許　　出　　願　　人

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 基布の両面が高分子弾性体層とされ、絞り部を有するダ
   イアフラムにおいて、 前記基布がポリウレタン系弾性糸からなり、弾性糸はダ
   イアフラム成形温度において緊張熱固定性を有するもの
   であること を特徴とするダイアフラム。