JPS6233336A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS6233336A JPS6233336A JP17343385A JP17343385A JPS6233336A JP S6233336 A JPS6233336 A JP S6233336A JP 17343385 A JP17343385 A JP 17343385A JP 17343385 A JP17343385 A JP 17343385A JP S6233336 A JPS6233336 A JP S6233336A
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は、磁気ディスク、磁気テープ、フロッピーテ
ィスフ、磁気カード等の磁気記録媒体の製造方法に関す
るものである。
ィスフ、磁気カード等の磁気記録媒体の製造方法に関す
るものである。
（従来の技術）
磁気ディスク、磁気テープ、フロッピィ−ディスク、磁
気カード等の記録密度８高めるためそこに使われる磁性
膜を薄くする必要性から、薄膜の磁性膜が採用されるよ
うになって来た。しかし薄膜であることと、記録密度を
高めるため磁気ヘッドを極力この磁性膜ｌこ接近させる
必要性から摩耗が顕著になることにより必然的に保護膜
の採用が不可欠とされるようになって来ている。
気カード等の記録密度８高めるためそこに使われる磁性
膜を薄くする必要性から、薄膜の磁性膜が採用されるよ
うになって来た。しかし薄膜であることと、記録密度を
高めるため磁気ヘッドを極力この磁性膜ｌこ接近させる
必要性から摩耗が顕著になることにより必然的に保護膜
の採用が不可欠とされるようになって来ている。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら、保護膜は薄く、機械的に耐久力のある非
磁性体でかつ磁性膜とも密着万人でしかも耐食性に優れ
たものでなけれはならず、このような目的に適する材料
及び製造方法は極めて少くしかも磁気ディスク、ａｉ気
テープフロッピーディスク、８１気カード等に共通する
ものは皆無といってよい。
磁性体でかつ磁性膜とも密着万人でしかも耐食性に優れ
たものでなけれはならず、このような目的に適する材料
及び製造方法は極めて少くしかも磁気ディスク、ａｉ気
テープフロッピーディスク、８１気カード等に共通する
ものは皆無といってよい。
この発明は、磁気ディスク、Ｂｉ磁気テープフロッピー
ティスク、ａ１気カード等のすべその磁気記録媒体に適
する保護膜の形成方法を提供することを目的とするもの
である。
ティスク、ａ１気カード等のすべその磁気記録媒体に適
する保護膜の形成方法を提供することを目的とするもの
である。
（問題点を解決するための手段）
この発明による磁気記録媒体の製造方法は基体上に金属
磁性膜を形成する工程と、この金属磁性膜の表面を酸素
原子又は窒素原子又は双方の存在する雰囲気中で紫外線
を照射しながら酸化又は窒化又はその両方を行う工程を
含む発明と、基体上に磁性膜を形成する工程と、この磁
性膜の上に金属膜を形成する工程亡、この金属膜を酸素
原子又は窒素原子又はその両方の存在する雰囲気中で紫
外線を照射しながら酸化又は窒化又はその両方を行う工
程とを含む発明であり、さらにこれらに潤滑剤を塗布す
る工程とを含む発明である。
磁性膜を形成する工程と、この金属磁性膜の表面を酸素
原子又は窒素原子又は双方の存在する雰囲気中で紫外線
を照射しながら酸化又は窒化又はその両方を行う工程を
含む発明と、基体上に磁性膜を形成する工程と、この磁
性膜の上に金属膜を形成する工程亡、この金属膜を酸素
原子又は窒素原子又はその両方の存在する雰囲気中で紫
外線を照射しながら酸化又は窒化又はその両方を行う工
程とを含む発明であり、さらにこれらに潤滑剤を塗布す
る工程とを含む発明である。
（作用）
本発明に適用さｎる材料の一例と製造の具体例を以下に
行す。基体としてはディスク形状のアルミニウム合金基
板、アルミニウム上にＮｉｐ合金をメッキしれ基板、ア
ルミニウム合金表面に陽極酸化法で形成した酸化膜８有
する基板、ガラス基板セラミック基板、セラミックスの
表面に５ｉ０２゜Ａ／２０３． Ｓｉ３Ｎ４．Ｃｒ、
ＴｉｌＭｏ、Ｗ Ｓｉ、 Ｇｅ、 ＡＪ。
行す。基体としてはディスク形状のアルミニウム合金基
板、アルミニウム上にＮｉｐ合金をメッキしれ基板、ア
ルミニウム合金表面に陽極酸化法で形成した酸化膜８有
する基板、ガラス基板セラミック基板、セラミックスの
表面に５ｉ０２゜Ａ／２０３． Ｓｉ３Ｎ４．Ｃｒ、
ＴｉｌＭｏ、Ｗ Ｓｉ、 Ｇｅ、 ＡＪ。
Ｃｕ 等のいずれかを主成分さする非磁気性膚を有する
基板、テープ又はフロッピーディスク又はカードの形状
をしたポリエステル、ポリイミド、ポリイミドアミド、
ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、塩化ビ
ニル重合体等の有機高分子フィルム、又はこれらの有機
高分子フィルムの表面に５ｉ０２． ＡＪ２０３．５ｉ
３ｈ４、Ｃｒ、ＴｉｌＭｏ、 Ｗ。
基板、テープ又はフロッピーディスク又はカードの形状
をしたポリエステル、ポリイミド、ポリイミドアミド、
ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、塩化ビ
ニル重合体等の有機高分子フィルム、又はこれらの有機
高分子フィルムの表面に５ｉ０２． ＡＪ２０３．５ｉ
３ｈ４、Ｃｒ、ＴｉｌＭｏ、 Ｗ。
Ｓｉ、Ｇｅ、ＡＡ！、Ｃｕ等のいずれかを主成分とする
非ａ性層を有するフィルム等が適する。
非ａ性層を有するフィルム等が適する。
金属磁性膜を形成する工程には、 Ｃｏ、−Ｐ、Ｃｏ−
Ｎｉ −Ｐ。
Ｎｉ −Ｐ。
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｍｎ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−＃、Ｉｎ−Ｒｅ−
Ｐ、 Ｃｏ−Ｎ１−Ｒｅ−Ｐ等の合金を電解又は無電解
メッキで形成する方法が。
Ｐ、 Ｃｏ−Ｎ１−Ｒｅ−Ｐ等の合金を電解又は無電解
メッキで形成する方法が。
Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｐｔ、 Ｃｏ−Ｒｅ
、 Ｃｏ−Ｆ３ｍ、Ｆｅ→瓜Ｆｅ−ａＣｏ−Ｖ、 Ｐ
ｅ−Ｃｒ−Ｃｏ、Ｎｉ −Ｆｅ ４％の合金或いはこれ
らの合金のいずれかを主成分とする合金をスパッタ法も
しくは蒸着法で形成する方法が適する。
、 Ｃｏ−Ｆ３ｍ、Ｆｅ→瓜Ｆｅ−ａＣｏ−Ｖ、 Ｐ
ｅ−Ｃｒ−Ｃｏ、Ｎｉ −Ｆｅ ４％の合金或いはこれ
らの合金のいずれかを主成分とする合金をスパッタ法も
しくは蒸着法で形成する方法が適する。
磁性膜を形成する工程には、前記金属磁性膜を形成する
工程と同様の材料と工程の他、 Ｆｅ２Ｏ３を主成分
とする金属（Ｃｏ、Ｃｕ、Ｓｉ等）の酸化物との混合体
、Ｂａ１−フェライ） ＣｏとＣｏＯの混合体等をスパ
ッタ法もしくは蒸着法で形成する方法が適する。
工程と同様の材料と工程の他、 Ｆｅ２Ｏ３を主成分
とする金属（Ｃｏ、Ｃｕ、Ｓｉ等）の酸化物との混合体
、Ｂａ１−フェライ） ＣｏとＣｏＯの混合体等をスパ
ッタ法もしくは蒸着法で形成する方法が適する。
金属膜を形成する工程には、 ＡＩ、Ｃｕ、 Ｃｒ、
ＴｉＳｉ、ａＦｅ、 Ｃｏｔ、Ｇｅ、 Ｍｏ又は、これ
らを主成分とする合金の蒸着もしくはスパッタ法、Ｎｉ
Ｐ、Ｇｏ Ｐ。
ＴｉＳｉ、ａＦｅ、 Ｃｏｔ、Ｇｅ、 Ｍｏ又は、これ
らを主成分とする合金の蒸着もしくはスパッタ法、Ｎｉ
Ｐ、Ｇｏ Ｐ。
Ｎｉ −Ｔ３． Ｃｏ−Ｂ等の合金を電解もしくは無
電解によるメッキ法等が適する。
電解によるメッキ法等が適する。
酸素原子又は窒素原子又はその双方の存在する雰囲気中
で紫外線を照射しながら酸化する工程には、雰囲気とし
て、空気、 ０２． Ｎ２．Ｃｏ２．ＮＱＮＯ２，Ｈ
ｃ凡 Ｈ２Ｑ アルコール等又はこれらを一部に含む
混合気体の存在する雰囲気加速し、紫外線の発生源とし
ては高圧水銀ラング、キセノンランプ、ヨー素人りタン
グステンランプ等が適する。
で紫外線を照射しながら酸化する工程には、雰囲気とし
て、空気、 ０２． Ｎ２．Ｃｏ２．ＮＱＮＯ２，Ｈ
ｃ凡 Ｈ２Ｑ アルコール等又はこれらを一部に含む
混合気体の存在する雰囲気加速し、紫外線の発生源とし
ては高圧水銀ラング、キセノンランプ、ヨー素人りタン
グステンランプ等が適する。
潤滑剤を塗布する工程には、潤滑剤として脂肪酸、金属
石ケン等の炭化水素、シリコーンオイル、フロロシリコ
ンオイル、バー７０ロアルキルポリエーテル、テトラフ
ロロエチレン重合体、カーボン、二硫化モリブテン、も
しくハ、これらの混合物、もしくは、以上の潤滑剤のい
ずれかを適当な溶剤ｌこ溶解もしくは分散させたものを
、浸漬法。
石ケン等の炭化水素、シリコーンオイル、フロロシリコ
ンオイル、バー７０ロアルキルポリエーテル、テトラフ
ロロエチレン重合体、カーボン、二硫化モリブテン、も
しくハ、これらの混合物、もしくは、以上の潤滑剤のい
ずれかを適当な溶剤ｌこ溶解もしくは分散させたものを
、浸漬法。
スフ”レー法、蒸着法、ローラーコート法、スピン塗布
法等による塗布法が適す暮。
法等による塗布法が適す暮。
次に媒体形状として、磁気ディスク、磁気テープ、フロ
ッピーディスクを例にそれぞれ具体的な実施例を挙げて
説明する。
ッピーディスクを例にそれぞれ具体的な実施例を挙げて
説明する。
（実施例り
Ａ７→鍮合金の上ｌこ非磁性ＮｉＰを無１解メツキ法そ
の表面をダイアモンド砥粒で表面粗さが０．０１μｍ以
下となるように研磨し基体とした。この基体を硫酸ニッ
ケル・硫酸コバルト、次亜リン酸、硫酸アンモニウム、
コハフ酸、リンゴ酸、マロン酸から成るメッキ浴に浸漬
し、８００ＡのＣｏ−Ｎ ｉ −Ｐ 合金から成る金属
磁性膜を無電解メッキ法ｌこより形成し１次いで通常の
大気の雰囲気で２００℃ に加熱しながら、ｌＫＷ の
水銀ラングで紫外線を１時間照射し保護膜を形成し磁気
記録媒体とした。この時表面から約１６ＯＡの深さまで
ｔｏ−Ｎｉ Ｐ の酸化膜から成る保護膜が形成され、
非出性体となっていることが確かめられた。この膜は、
硬度もとッカース値で６００以上あり、耐蝕性にも優れ
。
の表面をダイアモンド砥粒で表面粗さが０．０１μｍ以
下となるように研磨し基体とした。この基体を硫酸ニッ
ケル・硫酸コバルト、次亜リン酸、硫酸アンモニウム、
コハフ酸、リンゴ酸、マロン酸から成るメッキ浴に浸漬
し、８００ＡのＣｏ−Ｎ ｉ −Ｐ 合金から成る金属
磁性膜を無電解メッキ法ｌこより形成し１次いで通常の
大気の雰囲気で２００℃ に加熱しながら、ｌＫＷ の
水銀ラングで紫外線を１時間照射し保護膜を形成し磁気
記録媒体とした。この時表面から約１６ＯＡの深さまで
ｔｏ−Ｎｉ Ｐ の酸化膜から成る保護膜が形成され、
非出性体となっていることが確かめられた。この膜は、
硬度もとッカース値で６００以上あり、耐蝕性にも優れ
。
薄さ、密着力共正こ申し分の無い保護膜であることが確
認式れた。
認式れた。
（実施例２）
実施例１と同様の基体に、同様の無１解メツキ法により
Ｃｏ−Ｎ ｉ −Ｐ 合金を５０ＯＡ メッキし、次い
で市販のＮｉＰメッキ浴により非磁性ＮｉＰ合金を３０
ＯＡ無電解メツキ法により形成し、実施例１と同様の工
程で酸化工程を通して保護膜を形成し磁気記録媒体とし
た。この結果ＮｉＰの表面から同じく約１６０Ａ の深
さまで酸化膜が形成されていることが確認され、その特
徴に略実施例１と同様でｔり−）た。
Ｃｏ−Ｎ ｉ −Ｐ 合金を５０ＯＡ メッキし、次い
で市販のＮｉＰメッキ浴により非磁性ＮｉＰ合金を３０
ＯＡ無電解メツキ法により形成し、実施例１と同様の工
程で酸化工程を通して保護膜を形成し磁気記録媒体とし
た。この結果ＮｉＰの表面から同じく約１６０Ａ の深
さまで酸化膜が形成されていることが確認され、その特
徴に略実施例１と同様でｔり−）た。
（実施例３）
実施例１と同様の工程で磁気記録媒体を作成した。但し
雰囲気としては１′１１Ｈ３とＮＯ２の混合体を用いた
。この結果Ｃｏ−Ｎ ｉ −Ｐ の表面には約１６ＯＡ
の酸化物と窒化物の混合体からなる保護膜が形成された
が、この保護膜の性質は実施例１と同様であった。
雰囲気としては１′１１Ｈ３とＮＯ２の混合体を用いた
。この結果Ｃｏ−Ｎ ｉ −Ｐ の表面には約１６ＯＡ
の酸化物と窒化物の混合体からなる保護膜が形成された
が、この保護膜の性質は実施例１と同様であった。
（実施例４）
実施例２と同様の工程で磁気記録媒体を作成した。但し
雰囲気としては、 ＮＨ３とＨ２Ｏの混合気体を用いた
。この結果ＮｉＰの表面には約１６ＯＡの酸化物と窒化
物の混合物から成る保護膜が形成されたが、この保護膜
の性′Ｘは実施例Ｉと同様であった。
雰囲気としては、 ＮＨ３とＨ２Ｏの混合気体を用いた
。この結果ＮｉＰの表面には約１６ＯＡの酸化物と窒化
物の混合物から成る保護膜が形成されたが、この保護膜
の性′Ｘは実施例Ｉと同様であった。
（実施例５）
厚さ５０μｍ ポリイミドフィルムを基体としてこの上
に厚さ８００Ａ のＣｏ−Ｎｉ合金からなる金属磁性膜
をスパッタ法で形成し、大気の雰囲気中で２００℃ に
加熱しながら３０分間ＩＫＷの水銀ランプで紫外線を照
射して保＠膜を形成し一つは。
に厚さ８００Ａ のＣｏ−Ｎｉ合金からなる金属磁性膜
をスパッタ法で形成し、大気の雰囲気中で２００℃ に
加熱しながら３０分間ＩＫＷの水銀ランプで紫外線を照
射して保＠膜を形成し一つは。
フロッピーティスフ形状に一つはテープ形状に切り出し
磁気記録媒体とした。この結果ＣｏＮｉの表面には約１
０ＯＡ の酸化膜が形成されるが、硬度耐蝕性、薄さ、
密着力共に申し分の無い特性を有することが確認された
。
磁気記録媒体とした。この結果ＣｏＮｉの表面には約１
０ＯＡ の酸化膜が形成されるが、硬度耐蝕性、薄さ、
密着力共に申し分の無い特性を有することが確認された
。
（実施例６）
実施例５と同様の基体に厚さ８００Ａ のＣｏ−Ｎｉ合
金から成る金属磁性Ｈをスパッタ法で形成し、純いて厚
さ３００ＡのＢをスパッタ法で形成し。
金から成る金属磁性Ｈをスパッタ法で形成し、純いて厚
さ３００ＡのＢをスパッタ法で形成し。
ＮＨ３とＮＯ２の混合気体雰囲気中で２００℃に加熱し
ながら３０分間ＩＫＷ の水銀ランプにより紫外線照射
を行って保護膜を・形成し一つはフロピーディスク形状
ｌこ、一つはテープ形状に切り出し磁気記録媒体とした
、この結果Ｂの表面には約１０ＯＡの酸化膜と窒化膜の
混合物が形成されたが、硬度、耐蝕性、薄さ、密着力共
に申し分の無い特性をＨすることが確認された。
ながら３０分間ＩＫＷ の水銀ランプにより紫外線照射
を行って保護膜を・形成し一つはフロピーディスク形状
ｌこ、一つはテープ形状に切り出し磁気記録媒体とした
、この結果Ｂの表面には約１０ＯＡの酸化膜と窒化膜の
混合物が形成されたが、硬度、耐蝕性、薄さ、密着力共
に申し分の無い特性をＨすることが確認された。
（実施例７）
実施例１の至６の磁気記録媒体の表面に潤滑剤の代表例
であるバー７０ロアルキルボリエーデル（デュポン社製
、商品名クライトックス）を浸漬法で塗布し、エーテル
を含むガーゼで軽くふき取り磁気記録媒体とした。この
励来潤滑剤の膜厚は１００Ａ ± ５ＯＡであった。
であるバー７０ロアルキルボリエーデル（デュポン社製
、商品名クライトックス）を浸漬法で塗布し、エーテル
を含むガーゼで軽くふき取り磁気記録媒体とした。この
励来潤滑剤の膜厚は１００Ａ ± ５ＯＡであった。
実施例１乃至７に、そｎそれ優れた保護膜を持っている
ため化学的−こ安定であり機械的耐久性ｌこも優れてい
る特に潤滑剤付の例では、山気ディスクに関し２０００
０回以上のコンタクトスタートストップ回数を損傷なく
耐え、磁気テープに関してａＶＴ几装置テストで、スチ
ル再生が３０分以上保証でき、フロッピーディスクに関
しては市販の５．２５ インチフレキシブル装置に装着
しバスウェアテストを行っても３００万回はクリアした
。
ため化学的−こ安定であり機械的耐久性ｌこも優れてい
る特に潤滑剤付の例では、山気ディスクに関し２０００
０回以上のコンタクトスタートストップ回数を損傷なく
耐え、磁気テープに関してａＶＴ几装置テストで、スチ
ル再生が３０分以上保証でき、フロッピーディスクに関
しては市販の５．２５ インチフレキシブル装置に装着
しバスウェアテストを行っても３００万回はクリアした
。
（発明の効果）
上述の様に本発明の製造方法によｆ′Ｌは磁気ディスク
も、山気テープも、磁気カードもフロッピーディスクも
皆同じ工程で保護膜の形成が出来、かつスループットが
高く信頼性（耐久性、耐食性。
も、山気テープも、磁気カードもフロッピーディスクも
皆同じ工程で保護膜の形成が出来、かつスループットが
高く信頼性（耐久性、耐食性。
薄さ、密着力等）も良好で、極めて優れた磁気記録媒体
が得られる。
が得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、少くとも基体上に金属磁性膜を形成する工程とこの
金属磁性膜の表面を酸素原子又は窒素原子又はその両方
雰囲気中で紫外線を照射しながら酸化又は窒化又は、酸
化と窒化と両方を行う保護膜形成工程とを含む磁気記録
媒体の製造方法。 ２、少くとも基体上に磁性膜を形成する工程と、次いで
この磁性膜の上に金属膜を形成する工程と、この金属膜
を酸素原子又は窒素原子又はその両方の存在する雰囲気
中で紫外線を照射しながら酸化又は窒化又は酸化と窒化
の両方を行う保護膜形成３、少くとも基体上の金属磁性
膜の表面に形成された酸化又は窒化又は酸化と窒化の両
方の反応生成物の上に潤滑油を塗布する工程を含む磁気
記録媒体の製造方法。 ４、少くとも基体上の磁性膜のさらにその上に存在する
金属膜の表面に酸化又は窒化又は酸化と窒化の両方の反
応生成物の上に潤滑剤を塗布する工程を含む磁気記録媒
体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17343385A JPS6233336A (ja) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17343385A JPS6233336A (ja) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6233336A true JPS6233336A (ja) | 1987-02-13 |
Family
ID=15960367
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17343385A Pending JPS6233336A (ja) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6233336A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0322895A3 (en) * | 1987-12-28 | 1992-04-15 | Domain Technology | Methods and compositions for electroless plating of magnetic recording media |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57167133A (en) * | 1981-04-08 | 1982-10-14 | Hitachi Maxell Ltd | Production for magnetic recording medium |
| JPS59201224A (ja) * | 1983-04-28 | 1984-11-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS6063723A (ja) * | 1983-09-16 | 1985-04-12 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS61172222A (ja) * | 1985-01-28 | 1986-08-02 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1985
- 1985-08-06 JP JP17343385A patent/JPS6233336A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57167133A (en) * | 1981-04-08 | 1982-10-14 | Hitachi Maxell Ltd | Production for magnetic recording medium |
| JPS59201224A (ja) * | 1983-04-28 | 1984-11-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS6063723A (ja) * | 1983-09-16 | 1985-04-12 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS61172222A (ja) * | 1985-01-28 | 1986-08-02 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0322895A3 (en) * | 1987-12-28 | 1992-04-15 | Domain Technology | Methods and compositions for electroless plating of magnetic recording media |
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