JPS6234737B2 - - Google Patents
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- JPS6234737B2 JPS6234737B2 JP60021400A JP2140085A JPS6234737B2 JP S6234737 B2 JPS6234737 B2 JP S6234737B2 JP 60021400 A JP60021400 A JP 60021400A JP 2140085 A JP2140085 A JP 2140085A JP S6234737 B2 JPS6234737 B2 JP S6234737B2
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- Japan
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- catalyst
- iridium
- oxygen
- silica
- cobalt
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
（産業上の利用分野）
本発明は、一酸化炭素と水素との混合ガス（以
下、合成ガスという）から、触媒の存在下にエタ
ノール、アセトアルデヒド、酢酸などの炭素数２
の含酸素化合物（以下、C2含酸素化合物とい
う）を直接製造する方法に関するものである。 （従来の技術） エタノールや、アセトアルデヒド、酢酸などの
C2含酸素化合物は有用な工業製品であり、石炭
を原料とする合成ガスから効率的に製造する方法
の確立が望まれている。これらの製造にはロジウ
ム系複合触媒が比較的良好な成績を示すことは公
知である。例えばロジウム触媒を用いるC2含酸
素化合物の製造法が特開昭51−80806号に、ロジ
ウム−鉄触媒を用いるエタノールの製造法が特開
昭51−80807号に、ロジウム−マンガン触媒を用
いるC2含酸素化合物の製造法が特開昭52−14706
号に、ロジウム−ルテニウム触媒を用いる酢酸の
製造法が米国特許第4101450号に、ロジウム−ハ
ロゲン−マグネシウム触媒を用いるC2含酸素化
合物の製造法が特開昭54−138054号に、ロジウム
−酸化ジルコニウム−シリカ触媒を用いるエタノ
ールの製造法が特開昭56−147730号にそれぞれ開
示されている。 一方、合成ガスから含酸素化合物を直接製造す
るにあたり、ロジウムを含有しない触媒を用いる
方法に関しては多くの研究が成されている。例え
ば、鉄系触媒を用い８〜25気圧の圧力、190〜225
℃の温度において合成ガスを高い空間速度で反応
させてアルコール類を製造するジノール法や、多
量のアルカカ金属を添加した鉄触媒を10〜30気圧
の圧力、180〜210℃の温度、100〜500h-1のガス
空間速度で使用し、オキソ法と組合せてアルコー
ル類を製造するオキシル法が古くから知られてい
る。た最近では酸化亜鉛−酸化化銅系触媒を用い
るメタノール合成法が工業的にも実施されてい
る。 （発明が解決しようとする問題点） しかしロジウム系複合触媒中に含有されている
ロジウムは、C2含酸素化合物の製造には必須の
活性元素である。しかるに、このロジウムは産出
量が少なく、かつ高価であるために、これらの製
造法の大きな欠点になつている。従つてロジウム
を用いずにC2含酸素化合物を製造する方法、特
に触媒の開発が強く求められている。 また、上記の如きロジウムを含有しない触媒を
用いるジノール法や、オキシル法では得られる生
成物が、鎖長が炭素数１から18にまで及ぶ広範な
アルコールの混合物であつて、選択性に乏しい。
また、メタノール合成法では生成物はメタノール
に限定され、価値の高いエタノールは生成しな
い。さらに、以上に述べた方法では酢酸等の有機
酸の生成は認められていない。 （問題点を解決するための手段） 本発明者らは、上記のような従来法に見られる
問題点を解決すべく、合成ガスからC2含酸素化
合物を選択的に合成する非ロジウム系触媒につい
て鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成するに到
つた。 すなわち本発明は、一酸化炭素と水素との反応
により、炭素数２の含酸素化合物を直接製造する
に当り、触媒活性成分としてイリジウムと、コバ
ルト及びニツケルの中から選ばれた少なくとも１
種の元素とを含む触媒を用いることを特徴とする
C2含酸素化合物の製造方法、 及び更にイリジウム−コバルト２成分触媒にリ
チウムを加えた３成分触媒を用いることにより、
合成ガスからC2含酸素化合物を選択性良く製造
する方法である。 C2含酸素化合物の選択性が上記２成分あるい
は３成分触媒において著しく高められているとい
う事実は、実に予想外のことである。なぜなら一
般に、イリジウムは低活性なメタノールの合成触
媒として、コバルトは炭化水素の非選択性な合成
触媒として、また、ニツケルはメタン合成触媒と
して知られており、リチウムは、合成ガス反応に
は触媒能を示さないものと考えられていたからで
ある。 以下において本発明について詳細に説明する。 本発明の触媒は前述の如く、イリジウムおよび
コバルトまたはニツケルを組合せた２成分触媒、
あるいはイリジウム−コバルト２成分触媒につい
ては、更にリチウムを組合せた３成分触媒であ
る。反応条件下における真の触媒活性種は必ずし
も明らかではないものの、その活性の中心となる
ものは本質的には互いに共存する金属種であり、
したがつて、触媒自体の形態や触媒中の各成分の
形には原則的には何ら制限はない。ただ、イリジ
ウムおよびコバルトまたはニツケルは、実質的に
は金属または低原子価の化合物として互いに物理
的に混合され、あるいは化学的に結合される。 本発明において用いられる触媒は、担体なしで
用いてもよいが、活性な表面積を大きくする意味
から多孔性物質に担体することが好ましい。担体
としては、周期律表第−族金族の酸化物が用
いられるが、シリカが好ましい。これらの担体は
粉末状、ペレツト状等の任意の形状で用いること
ができる。 本発明の触媒は、好ましくは担体をイリジウム
化合物およびコバルト化合物またはニツケル化合
物、必要に応じてリチウム化合物の溶液に含浸さ
せ、次いで乾燥することにより製造される。その
際、それらの金属化合物は同時あるいは順次に担
持することができる。前記金属化合物としては、
全ての可溶性の化合物、例えば、硝酸塩、ハロゲ
ン化物、有機酸塩、アンモニウム塩、クラスター
等が用いられ、その種類は特に制限されない。こ
れらの化合物は適当な溶媒に溶解される。溶媒と
しては、上記金属化合物を溶解するものであれ
ば、任意のものが用いられる。また、担持の方法
としては、含浸法以外にイオン交換法や沈澱法、
混練法等も用いることができる。 前記のようにして得られた触媒は乾燥後、適当
な還元剤、例えば、水素により還元処理される。
この場合、還元温度は200〜600℃の範囲が適当で
ある。また還元処理に先だつて、酸化性ガス、例
えば、空気で焼成処理を行なつてもよく、その際
の温度は200〜600℃の範囲が適当である。 本発明の触媒において、各触媒成分の使用量に
ついては必ずしも厳密な制限はないが、担持触媒
として調製する場合にはイリジウムの含有量とし
ては、0.01〜15重量％、好ましくは0.1〜10重量
％、他の触媒成分であるコバルト、ニツケル、お
よびリチウムの含有量としては、これらのイリジ
ウムに対するモル比で示すならば、それぞれ、
0.001〜100、好ましくは0.1〜10、0.01〜100、好
ましくは0.1〜10、および0.01〜100、好ましくは
0.05〜20の範囲が用いられる。 本発明のC2含酸素化合物の製造法における反
応は、通常、気相で行われ、例えば、触媒を充填
した固定床式反応器に合成ガスを導通させる。こ
の場合、合成ガスには一酸化炭素と水素以外に、
例えば、二酸化炭素や、窒素、アルゴン、ヘリウ
ム、水蒸気、メタン等、他の成分が含まれていて
もよい。また、触媒成分器は固定床式に限らず、
移動床式や流動床式等、他の形成であつてもよ
い。また、場合によつては触媒を適当な溶媒に懸
濁して合成ガスを導通して反応させる液相反応で
も実施することができる。 反応条件は広い範囲で変えることはできるが、
一酸化炭素と水素とのモル比は30：１〜１：30、
好ましくは10：１〜１：10、反応温度は100〜500
℃、好ましくは150〜350℃、圧力は１〜
300atm、好ましくは10〜200atm、ガス空間速度
は10〜100000h-1、好ましくは100〜10000h-1程度
が適当である。 （発明の効果） 本発明によれば、ロジウムを用いずに、合成ガ
スから、C2含酸素化合物を直接、選択性よく製
造することができる。 （実施例） 次に実施例に基づき本発明をさらに詳細に説明
するが、本発明はこれらの実施例に何ら制限され
るものではないことはもちろんである。実施例の
各表中における用語の意味は下記の通りである。 CO反応率＝（Ａ−Ｂ）／Ａ Ａ：供給した一酸化炭素のモル数 Ｂ：回収した一酸化炭素のモル数 選択率＝Ｃ×Ｄ／（Ａ−Ｂ） Ｃ：当該生成物のモル数 Ｄ：当該生成物の炭素数 Ａ、Ｂ：前記と同じ意味を有する。 また、以下の実施例に示す各符号は次の各物質
を意味する。 EtOH：エタノール、AcH：アセトアルデヒ
ド、AcOH：酢酸、MeOH：メタノール、
PrCH：プロパノール、CH4：メタン、C2 +：炭素
数２から５までの炭化水素の総和、CO2：二酸化
炭素、ΣC2−Ｏ：炭素数２の含酸素化合物の総
和 実施例 １ 四塩化イリジウム（IrCl4・H2O）0.528ｇと塩
化コバルト（CoCl2.6H2O）0.357ｇを含有する
16.5mlの水溶液を、富士デヴイソン社製シリカゲ
ル（＃57、20−32メツシユ、以下シリカと呼ぶ）
15.0ｇに含浸した。１時間放置後、エバポレータ
を用いて減圧下、80℃で１時間、110℃で１時間
乾燥させた。次に、水素気流中500℃で３時間還
元し、シリカ担持イリジウム−コバルト触媒を調
製した。イリジウムおよびコバルトの担持量は、
１ｇのシリカに対しそれぞれ100μmolである。
このようにして調製した触媒1.11ｇを高圧流通式
反応器に充填し、280℃において圧力50atmの合
成ガス（一酸化炭素／水素モル比＝0.5）を6Nl／
ｈの流速で流して反応させた。その結果を第１表
に実施例１として示した。 比較例 １および２ 四塩化イリジウム0.704ｇを含有する水溶液
11.0mlを10.0ｇのシリカに含浸した。以下、実施
例１と同様の操作によりシリカ担持イリジウム触
媒を調製した。この触媒のイリジウム担持量は１
ｇのシリカに対して200μmolである。この触媒
を用いた以外は実施例１と同様の条件で合成ガス
を反応させた結果を比較例１として第１表に示し
た。 四塩化イリジウムのかわりに塩化コバルト
0.476ｇを用いたほかは比較例１と同様の操作を
行ないシリカ担持コバルト触媒を調製した。この
触媒のコバルト担持量は１ｇのシリカに対して
200μmolである。この触媒を用いた以外は実施
例１と同様の条件で反応させた結果を比較例２と
して第１表に示した。 実施例１と比較例１あるいは比較例２との比較
から明らかなように、イリジウム触媒の活性は著
しく低くかつC2含酸素化合物は生成せず、また
コバルト触媒の活性も低くC2含酸素化合物の選
択性は1.6％と著しく低い。しかし、イリジウム
とコバルトとが共存するイリジウム−コバルト触
媒を用いると、CO反応率が向上するとともに、
エタノールを主成分とするC2含酸素化合物の活
性および選択性が著しく向上していることがわか
る。
下、合成ガスという）から、触媒の存在下にエタ
ノール、アセトアルデヒド、酢酸などの炭素数２
の含酸素化合物（以下、C2含酸素化合物とい
う）を直接製造する方法に関するものである。 （従来の技術） エタノールや、アセトアルデヒド、酢酸などの
C2含酸素化合物は有用な工業製品であり、石炭
を原料とする合成ガスから効率的に製造する方法
の確立が望まれている。これらの製造にはロジウ
ム系複合触媒が比較的良好な成績を示すことは公
知である。例えばロジウム触媒を用いるC2含酸
素化合物の製造法が特開昭51−80806号に、ロジ
ウム−鉄触媒を用いるエタノールの製造法が特開
昭51−80807号に、ロジウム−マンガン触媒を用
いるC2含酸素化合物の製造法が特開昭52−14706
号に、ロジウム−ルテニウム触媒を用いる酢酸の
製造法が米国特許第4101450号に、ロジウム−ハ
ロゲン−マグネシウム触媒を用いるC2含酸素化
合物の製造法が特開昭54−138054号に、ロジウム
−酸化ジルコニウム−シリカ触媒を用いるエタノ
ールの製造法が特開昭56−147730号にそれぞれ開
示されている。 一方、合成ガスから含酸素化合物を直接製造す
るにあたり、ロジウムを含有しない触媒を用いる
方法に関しては多くの研究が成されている。例え
ば、鉄系触媒を用い８〜25気圧の圧力、190〜225
℃の温度において合成ガスを高い空間速度で反応
させてアルコール類を製造するジノール法や、多
量のアルカカ金属を添加した鉄触媒を10〜30気圧
の圧力、180〜210℃の温度、100〜500h-1のガス
空間速度で使用し、オキソ法と組合せてアルコー
ル類を製造するオキシル法が古くから知られてい
る。た最近では酸化亜鉛−酸化化銅系触媒を用い
るメタノール合成法が工業的にも実施されてい
る。 （発明が解決しようとする問題点） しかしロジウム系複合触媒中に含有されている
ロジウムは、C2含酸素化合物の製造には必須の
活性元素である。しかるに、このロジウムは産出
量が少なく、かつ高価であるために、これらの製
造法の大きな欠点になつている。従つてロジウム
を用いずにC2含酸素化合物を製造する方法、特
に触媒の開発が強く求められている。 また、上記の如きロジウムを含有しない触媒を
用いるジノール法や、オキシル法では得られる生
成物が、鎖長が炭素数１から18にまで及ぶ広範な
アルコールの混合物であつて、選択性に乏しい。
また、メタノール合成法では生成物はメタノール
に限定され、価値の高いエタノールは生成しな
い。さらに、以上に述べた方法では酢酸等の有機
酸の生成は認められていない。 （問題点を解決するための手段） 本発明者らは、上記のような従来法に見られる
問題点を解決すべく、合成ガスからC2含酸素化
合物を選択的に合成する非ロジウム系触媒につい
て鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成するに到
つた。 すなわち本発明は、一酸化炭素と水素との反応
により、炭素数２の含酸素化合物を直接製造する
に当り、触媒活性成分としてイリジウムと、コバ
ルト及びニツケルの中から選ばれた少なくとも１
種の元素とを含む触媒を用いることを特徴とする
C2含酸素化合物の製造方法、 及び更にイリジウム−コバルト２成分触媒にリ
チウムを加えた３成分触媒を用いることにより、
合成ガスからC2含酸素化合物を選択性良く製造
する方法である。 C2含酸素化合物の選択性が上記２成分あるい
は３成分触媒において著しく高められているとい
う事実は、実に予想外のことである。なぜなら一
般に、イリジウムは低活性なメタノールの合成触
媒として、コバルトは炭化水素の非選択性な合成
触媒として、また、ニツケルはメタン合成触媒と
して知られており、リチウムは、合成ガス反応に
は触媒能を示さないものと考えられていたからで
ある。 以下において本発明について詳細に説明する。 本発明の触媒は前述の如く、イリジウムおよび
コバルトまたはニツケルを組合せた２成分触媒、
あるいはイリジウム−コバルト２成分触媒につい
ては、更にリチウムを組合せた３成分触媒であ
る。反応条件下における真の触媒活性種は必ずし
も明らかではないものの、その活性の中心となる
ものは本質的には互いに共存する金属種であり、
したがつて、触媒自体の形態や触媒中の各成分の
形には原則的には何ら制限はない。ただ、イリジ
ウムおよびコバルトまたはニツケルは、実質的に
は金属または低原子価の化合物として互いに物理
的に混合され、あるいは化学的に結合される。 本発明において用いられる触媒は、担体なしで
用いてもよいが、活性な表面積を大きくする意味
から多孔性物質に担体することが好ましい。担体
としては、周期律表第−族金族の酸化物が用
いられるが、シリカが好ましい。これらの担体は
粉末状、ペレツト状等の任意の形状で用いること
ができる。 本発明の触媒は、好ましくは担体をイリジウム
化合物およびコバルト化合物またはニツケル化合
物、必要に応じてリチウム化合物の溶液に含浸さ
せ、次いで乾燥することにより製造される。その
際、それらの金属化合物は同時あるいは順次に担
持することができる。前記金属化合物としては、
全ての可溶性の化合物、例えば、硝酸塩、ハロゲ
ン化物、有機酸塩、アンモニウム塩、クラスター
等が用いられ、その種類は特に制限されない。こ
れらの化合物は適当な溶媒に溶解される。溶媒と
しては、上記金属化合物を溶解するものであれ
ば、任意のものが用いられる。また、担持の方法
としては、含浸法以外にイオン交換法や沈澱法、
混練法等も用いることができる。 前記のようにして得られた触媒は乾燥後、適当
な還元剤、例えば、水素により還元処理される。
この場合、還元温度は200〜600℃の範囲が適当で
ある。また還元処理に先だつて、酸化性ガス、例
えば、空気で焼成処理を行なつてもよく、その際
の温度は200〜600℃の範囲が適当である。 本発明の触媒において、各触媒成分の使用量に
ついては必ずしも厳密な制限はないが、担持触媒
として調製する場合にはイリジウムの含有量とし
ては、0.01〜15重量％、好ましくは0.1〜10重量
％、他の触媒成分であるコバルト、ニツケル、お
よびリチウムの含有量としては、これらのイリジ
ウムに対するモル比で示すならば、それぞれ、
0.001〜100、好ましくは0.1〜10、0.01〜100、好
ましくは0.1〜10、および0.01〜100、好ましくは
0.05〜20の範囲が用いられる。 本発明のC2含酸素化合物の製造法における反
応は、通常、気相で行われ、例えば、触媒を充填
した固定床式反応器に合成ガスを導通させる。こ
の場合、合成ガスには一酸化炭素と水素以外に、
例えば、二酸化炭素や、窒素、アルゴン、ヘリウ
ム、水蒸気、メタン等、他の成分が含まれていて
もよい。また、触媒成分器は固定床式に限らず、
移動床式や流動床式等、他の形成であつてもよ
い。また、場合によつては触媒を適当な溶媒に懸
濁して合成ガスを導通して反応させる液相反応で
も実施することができる。 反応条件は広い範囲で変えることはできるが、
一酸化炭素と水素とのモル比は30：１〜１：30、
好ましくは10：１〜１：10、反応温度は100〜500
℃、好ましくは150〜350℃、圧力は１〜
300atm、好ましくは10〜200atm、ガス空間速度
は10〜100000h-1、好ましくは100〜10000h-1程度
が適当である。 （発明の効果） 本発明によれば、ロジウムを用いずに、合成ガ
スから、C2含酸素化合物を直接、選択性よく製
造することができる。 （実施例） 次に実施例に基づき本発明をさらに詳細に説明
するが、本発明はこれらの実施例に何ら制限され
るものではないことはもちろんである。実施例の
各表中における用語の意味は下記の通りである。 CO反応率＝（Ａ−Ｂ）／Ａ Ａ：供給した一酸化炭素のモル数 Ｂ：回収した一酸化炭素のモル数 選択率＝Ｃ×Ｄ／（Ａ−Ｂ） Ｃ：当該生成物のモル数 Ｄ：当該生成物の炭素数 Ａ、Ｂ：前記と同じ意味を有する。 また、以下の実施例に示す各符号は次の各物質
を意味する。 EtOH：エタノール、AcH：アセトアルデヒ
ド、AcOH：酢酸、MeOH：メタノール、
PrCH：プロパノール、CH4：メタン、C2 +：炭素
数２から５までの炭化水素の総和、CO2：二酸化
炭素、ΣC2−Ｏ：炭素数２の含酸素化合物の総
和 実施例 １ 四塩化イリジウム（IrCl4・H2O）0.528ｇと塩
化コバルト（CoCl2.6H2O）0.357ｇを含有する
16.5mlの水溶液を、富士デヴイソン社製シリカゲ
ル（＃57、20−32メツシユ、以下シリカと呼ぶ）
15.0ｇに含浸した。１時間放置後、エバポレータ
を用いて減圧下、80℃で１時間、110℃で１時間
乾燥させた。次に、水素気流中500℃で３時間還
元し、シリカ担持イリジウム−コバルト触媒を調
製した。イリジウムおよびコバルトの担持量は、
１ｇのシリカに対しそれぞれ100μmolである。
このようにして調製した触媒1.11ｇを高圧流通式
反応器に充填し、280℃において圧力50atmの合
成ガス（一酸化炭素／水素モル比＝0.5）を6Nl／
ｈの流速で流して反応させた。その結果を第１表
に実施例１として示した。 比較例 １および２ 四塩化イリジウム0.704ｇを含有する水溶液
11.0mlを10.0ｇのシリカに含浸した。以下、実施
例１と同様の操作によりシリカ担持イリジウム触
媒を調製した。この触媒のイリジウム担持量は１
ｇのシリカに対して200μmolである。この触媒
を用いた以外は実施例１と同様の条件で合成ガス
を反応させた結果を比較例１として第１表に示し
た。 四塩化イリジウムのかわりに塩化コバルト
0.476ｇを用いたほかは比較例１と同様の操作を
行ないシリカ担持コバルト触媒を調製した。この
触媒のコバルト担持量は１ｇのシリカに対して
200μmolである。この触媒を用いた以外は実施
例１と同様の条件で反応させた結果を比較例２と
して第１表に示した。 実施例１と比較例１あるいは比較例２との比較
から明らかなように、イリジウム触媒の活性は著
しく低くかつC2含酸素化合物は生成せず、また
コバルト触媒の活性も低くC2含酸素化合物の選
択性は1.6％と著しく低い。しかし、イリジウム
とコバルトとが共存するイリジウム−コバルト触
媒を用いると、CO反応率が向上するとともに、
エタノールを主成分とするC2含酸素化合物の活
性および選択性が著しく向上していることがわか
る。
【表】
実施例 ２〜５
イリジウムとコバルトとの合計担持量が１ｇの
シリカに対して200μmolになるように、４種の
シリカ担持イリジウム−コバルト触媒を実施例１
と同様にして調製し、この触媒を用い、実施例１
と同様にして合成ガスを反応させた結果を実施例
２、３、４、および５として第２表に示した。 実施例２の結果から明らかなように、イリジウ
ムの割合が高い場合にはC2含酸素化合物の選択
率はさらに著しく向上し、35％にまで達してい
る。
シリカに対して200μmolになるように、４種の
シリカ担持イリジウム−コバルト触媒を実施例１
と同様にして調製し、この触媒を用い、実施例１
と同様にして合成ガスを反応させた結果を実施例
２、３、４、および５として第２表に示した。 実施例２の結果から明らかなように、イリジウ
ムの割合が高い場合にはC2含酸素化合物の選択
率はさらに著しく向上し、35％にまで達してい
る。
【表】
実施例 ６
塩化リチウム（LiCl）0.042ｇを含有する水溶
液11.0mlを、実施例３と同様の方法で調製したシ
リカ担持イリジウム−コバルト触媒10.0ｇに含浸
した。以下、実施例１と同一の操作によりシリカ
担持イリジウム−コバルト−リチウム触媒を調製
し、この触媒を用いた以外は実施例１と同様の条
件下で合成ガスを反応させた結果を実施例６とし
て第３表に示した。ここで用いた触媒において、
イリジウム、コバルト、リチウムの担持量は１ｇ
のシリカに対してそれぞれ150、50、100μmolで
ある。 第３表の結果より、触媒中にリチウムを添加す
ることにより、C2含酸素化合物の生成活性が向
上していることが明らかである。
液11.0mlを、実施例３と同様の方法で調製したシ
リカ担持イリジウム−コバルト触媒10.0ｇに含浸
した。以下、実施例１と同一の操作によりシリカ
担持イリジウム−コバルト−リチウム触媒を調製
し、この触媒を用いた以外は実施例１と同様の条
件下で合成ガスを反応させた結果を実施例６とし
て第３表に示した。ここで用いた触媒において、
イリジウム、コバルト、リチウムの担持量は１ｇ
のシリカに対してそれぞれ150、50、100μmolで
ある。 第３表の結果より、触媒中にリチウムを添加す
ることにより、C2含酸素化合物の生成活性が向
上していることが明らかである。
【表】
実施例 ７
四塩化イリジウム0.924ｇと塩化ニツケル
（NiCl2・6H2O）0.089ｇを含有する水溶液16.5ml
を、15.0ｇのシリカに含浸した。１時間放置後、
エバポレータを用いて減圧下、80℃で１時間、
110℃で１時間乾燥させた。次に、水素気流中500
℃で３時間還元し、シリカ担持イリジウム−ニツ
ケル触媒を調製した。触媒中イリジウムおよびニ
ツケルの担持量は、１ｇのシリカに対してそれぞ
れ175および25μmolである。このようにして調
製した触媒1.11ｇを高圧流通式反応器に充填し、
300℃において圧力50atmの合成ガス（一酸化炭
素／水素モル比＝0.5）を6Nl／ｈの流速で流して
反応させた。その結果を第４表に実施例７として
示した。 実施例 ８〜10 イリジウムとニツケルの合計担持量が１ｇのシ
リカに対して200μmolになるように、３種のシ
リカ担持イリジウム−ニツケル触媒を実施例７と
同様にして調製し、これを用いて実施例７と同様
にして合成ガスを反応させた結果を実施例８、
９、および10として第４表に示した。 比較例 ３および４ 四塩化イリジウム0.74ｇを含有する水溶液11.0
mlを10.0ｇのシリカに含浸した。以下、実施例７
と同様の操作によりシリカ担持イリジウム触媒を
調製し、これを用いて実施例７と同様の条件で反
応させた結果を比較例３として第４表に示した。
イリジウム担持量は１ｇのシリカに対して200μ
molである。四塩化イリジウムのかわりに0.475ｇ
の塩化ニツケルを用いたほかは比較例３と同様の
操作を行ないシリカ担持ニツケル触媒を調製し、
同様の条件で反応させた結果を比較例４として第
４表に示した。この触媒のニツケル担持量は１ｇ
のシリカに対して200μmolである。 第４表の結果から明らかなように、イリジウム
とニツケルとが共存するイリジウム−ニツケル触
媒においてはC2含酸素化合物の活性および選択
性が著しく高められていることがわかる。
（NiCl2・6H2O）0.089ｇを含有する水溶液16.5ml
を、15.0ｇのシリカに含浸した。１時間放置後、
エバポレータを用いて減圧下、80℃で１時間、
110℃で１時間乾燥させた。次に、水素気流中500
℃で３時間還元し、シリカ担持イリジウム−ニツ
ケル触媒を調製した。触媒中イリジウムおよびニ
ツケルの担持量は、１ｇのシリカに対してそれぞ
れ175および25μmolである。このようにして調
製した触媒1.11ｇを高圧流通式反応器に充填し、
300℃において圧力50atmの合成ガス（一酸化炭
素／水素モル比＝0.5）を6Nl／ｈの流速で流して
反応させた。その結果を第４表に実施例７として
示した。 実施例 ８〜10 イリジウムとニツケルの合計担持量が１ｇのシ
リカに対して200μmolになるように、３種のシ
リカ担持イリジウム−ニツケル触媒を実施例７と
同様にして調製し、これを用いて実施例７と同様
にして合成ガスを反応させた結果を実施例８、
９、および10として第４表に示した。 比較例 ３および４ 四塩化イリジウム0.74ｇを含有する水溶液11.0
mlを10.0ｇのシリカに含浸した。以下、実施例７
と同様の操作によりシリカ担持イリジウム触媒を
調製し、これを用いて実施例７と同様の条件で反
応させた結果を比較例３として第４表に示した。
イリジウム担持量は１ｇのシリカに対して200μ
molである。四塩化イリジウムのかわりに0.475ｇ
の塩化ニツケルを用いたほかは比較例３と同様の
操作を行ないシリカ担持ニツケル触媒を調製し、
同様の条件で反応させた結果を比較例４として第
４表に示した。この触媒のニツケル担持量は１ｇ
のシリカに対して200μmolである。 第４表の結果から明らかなように、イリジウム
とニツケルとが共存するイリジウム−ニツケル触
媒においてはC2含酸素化合物の活性および選択
性が著しく高められていることがわかる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一酸化炭素と水素との反応により、炭素数２
の含酸素化合物を直接製造するに当り触媒活生成
分としてイリジウムとコバルト又はニツケル若し
くはその両方の元素とを含む触媒を用いることを
特徴とするC2含酸素化合物の製造方法。 ２ 触媒の担体がシリカである特許請求の範囲第
１項記載のC2含酸素化合物の製造方法。 ３ 一酸化炭素と水素との反応により、炭素数２
の含酸素化合物を直接製造するに当り触媒活生成
分としてイリジウム、コバルト及びリチウムを含
有する触媒を用いることを特徴とするC2含酸素
化合物の製造方法。 ４ 触媒の担体がシリカである特許請求の範囲第
３項記載のC2含酸素化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60021400A JPS61180733A (ja) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | Ｃ↓２含酸素化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60021400A JPS61180733A (ja) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | Ｃ↓２含酸素化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61180733A JPS61180733A (ja) | 1986-08-13 |
| JPS6234737B2 true JPS6234737B2 (ja) | 1987-07-28 |
Family
ID=12053999
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60021400A Granted JPS61180733A (ja) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | Ｃ↓２含酸素化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61180733A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2704165B2 (ja) * | 1990-09-10 | 1998-01-26 | 工業技術院長 | 有機含酸素化合物製造用触媒の調製方法 |
-
1985
- 1985-02-06 JP JP60021400A patent/JPS61180733A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61180733A (ja) | 1986-08-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |