JPS624330A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPS624330A JPS624330A JP60143793A JP14379385A JPS624330A JP S624330 A JPS624330 A JP S624330A JP 60143793 A JP60143793 A JP 60143793A JP 14379385 A JP14379385 A JP 14379385A JP S624330 A JPS624330 A JP S624330A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- control electrode
- semiconductor device
- annular
- lead
- Prior art date
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、環状の制御電極を有する半導体装置における
制御電極取り出し構造の改良に関するものである。
制御電極取り出し構造の改良に関するものである。
大容量のゲートターンオフサイリスタやトランジスタに
おいては、大容量化に伴って制御用電極(ゲート又はベ
ース)に流す電流が大きくなり、最近では数10A〜数
10OAの電流を流すものも実用化されている。特に大
容量ゲートターンオフサイリスクでは、ターンオフ時に
必要なゲート逆電流が大きく、しかも瞬時に均一に電流
を流す必要があるため、ゲート・カソード間のインピー
ダンスを極力小さくする工夫がなされている。例えばゲ
ート電極の取り出し部分の形状を環状にして取り出し部
分からエミッタ領域までの距離の短縮と電流分布の均一
化、軽減が図られている。
おいては、大容量化に伴って制御用電極(ゲート又はベ
ース)に流す電流が大きくなり、最近では数10A〜数
10OAの電流を流すものも実用化されている。特に大
容量ゲートターンオフサイリスクでは、ターンオフ時に
必要なゲート逆電流が大きく、しかも瞬時に均一に電流
を流す必要があるため、ゲート・カソード間のインピー
ダンスを極力小さくする工夫がなされている。例えばゲ
ート電極の取り出し部分の形状を環状にして取り出し部
分からエミッタ領域までの距離の短縮と電流分布の均一
化、軽減が図られている。
第3図は従来の半導体装置の第1例を示し、これは上記
環状のゲート電極構造を有するゲートターンオフサイリ
スタのエレメントの平面パターンを示す0図中、1はエ
レメント、1aはシリコンウェハ、1bはシリコンウェ
ハ1aを支持する補強板、ICはゲート電極、1dはカ
ソード電極、le、Ifはゲートの集電電極部分である
。
環状のゲート電極構造を有するゲートターンオフサイリ
スタのエレメントの平面パターンを示す0図中、1はエ
レメント、1aはシリコンウェハ、1bはシリコンウェ
ハ1aを支持する補強板、ICはゲート電極、1dはカ
ソード電極、le、Ifはゲートの集電電極部分である
。
またゲート配線部分の電気抵抗を低くしてゲートに大電
流を供給する方法としては、従来ゲート取り出し用電極
をエレメントに加圧接触させる方法があり、この方法は
ゲートがエレメントの中央にあるセンターゲート構造の
サイリスクや、大容量のトランジスタ等に用いた場合非
常に有効である。
流を供給する方法としては、従来ゲート取り出し用電極
をエレメントに加圧接触させる方法があり、この方法は
ゲートがエレメントの中央にあるセンターゲート構造の
サイリスクや、大容量のトランジスタ等に用いた場合非
常に有効である。
第4図は従来の半導体装置の第2例を示し、これはゲー
ト取り出し用電極をエレメントに加圧接触させる構造を
有するサイリスクの断面構造図である。図中、1はサイ
リスクエレメント、2は挿入板、3は外部陰極電極、4
はゲート取り出しリード、5は該ゲート取り・出しリー
ド4及び挿入板2を外部陰極電極3に対して位置決めす
る絶縁性支持部材、6はゲート取り出しリード4の先端
部4aを絶縁性支持部材5を介してサイリスクエレメン
ト1に加圧するバネ、7、は上記ゲート取り出しり一ド
4を外部陰極電極3と絶縁するための保護管、8は外部
陽極電極、9はサイリスクエレメント1を支持するセラ
ミック筒、10は外部陰極電極3をセラミック筒9に固
着支持するフランジ、11は外部陽極電極8をセラミッ
ク筒、9に固着支持する陽極フランジ、12は外部ゲー
ト電極である。
ト取り出し用電極をエレメントに加圧接触させる構造を
有するサイリスクの断面構造図である。図中、1はサイ
リスクエレメント、2は挿入板、3は外部陰極電極、4
はゲート取り出しリード、5は該ゲート取り・出しリー
ド4及び挿入板2を外部陰極電極3に対して位置決めす
る絶縁性支持部材、6はゲート取り出しリード4の先端
部4aを絶縁性支持部材5を介してサイリスクエレメン
ト1に加圧するバネ、7、は上記ゲート取り出しり一ド
4を外部陰極電極3と絶縁するための保護管、8は外部
陽極電極、9はサイリスクエレメント1を支持するセラ
ミック筒、10は外部陰極電極3をセラミック筒9に固
着支持するフランジ、11は外部陽極電極8をセラミッ
ク筒、9に固着支持する陽極フランジ、12は外部ゲー
ト電極である。
この従来の第2例によるサイリスクでは、ゲート取り出
し電極に銀等の導電性の良い材料を用いており大電流の
供給に有利であるが、上記絶縁性支持部材は、アルミナ
焼結体等を用いる必要があるため寸法精度が悪く、その
ため外部陰極電極3と該絶縁性支持部材5とのクリアラ
ンス、及び該絶縁性支持部材5とゲート取り出しリード
4とのクリアランスを大きくせざるを得す、位置決め精
度が悪くなり、その結果この従来のゲート取り出し構造
は高精度な位置決めを要するゲートターンオフサイリス
タに使用するには精度上不充分な場合があった。
し電極に銀等の導電性の良い材料を用いており大電流の
供給に有利であるが、上記絶縁性支持部材は、アルミナ
焼結体等を用いる必要があるため寸法精度が悪く、その
ため外部陰極電極3と該絶縁性支持部材5とのクリアラ
ンス、及び該絶縁性支持部材5とゲート取り出しリード
4とのクリアランスを大きくせざるを得す、位置決め精
度が悪くなり、その結果この従来のゲート取り出し構造
は高精度な位置決めを要するゲートターンオフサイリス
タに使用するには精度上不充分な場合があった。
また、環状ゲート構造のゲートターンオフサイリスタの
場合に、上記第2例による構造を採用するには、ゲート
取り出しり一ド4のエレメント1と接触する先端部4a
を環状にする必要があるが、この環状部分を容易かつ高
精度に位置決めできる加圧接触形ゲート構造は実用化さ
れていなかった。
場合に、上記第2例による構造を採用するには、ゲート
取り出しり一ド4のエレメント1と接触する先端部4a
を環状にする必要があるが、この環状部分を容易かつ高
精度に位置決めできる加圧接触形ゲート構造は実用化さ
れていなかった。
本発明はこのような従来のゲート取り出し構造の欠点を
除去するためになされたもので、制御電極の取り出しを
容易に、かつ高精度で所定位置において行なえ、信頼性
を向上できる半導体装置を提供することを目的としてい
る。
除去するためになされたもので、制御電極の取り出しを
容易に、かつ高精度で所定位置において行なえ、信頼性
を向上できる半導体装置を提供することを目的としてい
る。
この発明に係る半導体装置は、半導体基体の制御電極を
外部制御電極と接続するための略環状の制御電極取り出
し電極を設け、該制御電極取り出し電極のエレメントと
接触する部分に隣接する周辺部に環状の絶縁板を設け、
さらに上記取り出し電極本体の上面に絶縁挿入板を挿入
し、上記接触部を上記制御電極に圧接せしめるようにし
たものである。
外部制御電極と接続するための略環状の制御電極取り出
し電極を設け、該制御電極取り出し電極のエレメントと
接触する部分に隣接する周辺部に環状の絶縁板を設け、
さらに上記取り出し電極本体の上面に絶縁挿入板を挿入
し、上記接触部を上記制御電極に圧接せしめるようにし
たものである。
この発明においては、半導体基体の制御電極を外部制御
電極と接続するための略環状の制御電極取り出し電極を
設け、該制御電極取り出し電極のエレメントと接触する
部分に隣接する周辺部に環状の絶縁板を設け、さらに上
記取り出し電極本体の上面に絶縁挿入板を挿入し、上記
接触部を上記制御電極に圧接せしめるようにしたから、
制御電極の取り出しを容易に、かつ高精度で所定位置に
おいて行うことができる。
電極と接続するための略環状の制御電極取り出し電極を
設け、該制御電極取り出し電極のエレメントと接触する
部分に隣接する周辺部に環状の絶縁板を設け、さらに上
記取り出し電極本体の上面に絶縁挿入板を挿入し、上記
接触部を上記制御電極に圧接せしめるようにしたから、
制御電極の取り出しを容易に、かつ高精度で所定位置に
おいて行うことができる。
(実施例〕
以下、本発明の実施例を図について説明する。
第1図は本発明の一実施例による大容量ゲートターンオ
フサイリスタの構造を示し、図中、1は半導体基体であ
るサイリスクエレメントであり、これの第1主面(図示
上面)には第1主電極であるカソード電極及び制御電極
であるゲート電極が形成されており、またその第2主面
(図示下面)には第2主電極であるアノード電極が形成
されている。14は上記エレメント1のカソード電極の
外周部と、第1外部主電極である外部陰極電極18との
間に挿入された外側挿入板、15はエレメント1のカソ
ード電極の内側部と外部陰極電極18との間に挿入され
た内°側挿入板である。そして該外部陰極電極18の第
1主面側には環状の保持溝18aが凹設され、該保持溝
18a内には環状のゲート取り出し電極13が上下動自
在に挿入され、該取り出し電極13はこれと保持溝18
aの底面との間に挿入されたスプリング16により図示
下方に付勢されてニレメンl−1のゲート電極に圧接し
ている。また19は上記取り出し電極と、外部陰極電極
18との絶縁をはかるためのアルミナ又はボロンナイト
ライドからなる環状の絶縁挿入板である。
フサイリスタの構造を示し、図中、1は半導体基体であ
るサイリスクエレメントであり、これの第1主面(図示
上面)には第1主電極であるカソード電極及び制御電極
であるゲート電極が形成されており、またその第2主面
(図示下面)には第2主電極であるアノード電極が形成
されている。14は上記エレメント1のカソード電極の
外周部と、第1外部主電極である外部陰極電極18との
間に挿入された外側挿入板、15はエレメント1のカソ
ード電極の内側部と外部陰極電極18との間に挿入され
た内°側挿入板である。そして該外部陰極電極18の第
1主面側には環状の保持溝18aが凹設され、該保持溝
18a内には環状のゲート取り出し電極13が上下動自
在に挿入され、該取り出し電極13はこれと保持溝18
aの底面との間に挿入されたスプリング16により図示
下方に付勢されてニレメンl−1のゲート電極に圧接し
ている。また19は上記取り出し電極と、外部陰極電極
18との絶縁をはかるためのアルミナ又はボロンナイト
ライドからなる環状の絶縁挿入板である。
第2図は上記ゲート取り出し電極の構造を示す断面図で
ある。図中、13aはゲート取り出し電極13の取り出
し電極本体である環状金属部、13dは上記環状金属部
13aの下面全周に沿って突設されたエレメントlとの
接触部、13Cは環状金属部13aのロウ付部13eに
ロウ付された制御リード部であるワイヤ部、13bは上
記接触部の周囲にロウ付部13fにロウ付された環状の
絶縁板である。
ある。図中、13aはゲート取り出し電極13の取り出
し電極本体である環状金属部、13dは上記環状金属部
13aの下面全周に沿って突設されたエレメントlとの
接触部、13Cは環状金属部13aのロウ付部13eに
ロウ付された制御リード部であるワイヤ部、13bは上
記接触部の周囲にロウ付部13fにロウ付された環状の
絶縁板である。
次に上記ゲート取り出し電極13の製造方法を説明する
。
。
(1) まず環状金属部13aを所望の精度にて切削
加工して形成し、表面に銀メブキを5〜10μm行い、
しか、る後水素中で30〜60分間メッキ界面のアニー
ルを行う。
加工して形成し、表面に銀メブキを5〜10μm行い、
しか、る後水素中で30〜60分間メッキ界面のアニー
ルを行う。
(2) 次にアニールの完了した環状金属部13aの
ロー付部13eにワイヤ部13Cをロー付し、さらにア
ルミナ又はボロンナイトライド製の環状の絶縁板13b
を上記環状金属部13aのエレメントとの接触部周辺に
ロー付部13fにてロー付すると、所期のゲート取り出
し電極13が得られる。ここでワイヤ部13cの材質は
純11 (99,99%)とし、ロー付は銀銅ロウを用
いて水素中で行なう。
ロー付部13eにワイヤ部13Cをロー付し、さらにア
ルミナ又はボロンナイトライド製の環状の絶縁板13b
を上記環状金属部13aのエレメントとの接触部周辺に
ロー付部13fにてロー付すると、所期のゲート取り出
し電極13が得られる。ここでワイヤ部13cの材質は
純11 (99,99%)とし、ロー付は銀銅ロウを用
いて水素中で行なう。
次に作用効果について説明する。
本実施例のゲートターンオフサイリスクでは、環状金属
部13aの断面積が大きいので、該環状金属部13aの
電気抵抗が極めて小さく、また、ワイヤ部13Cの線径
も充分に大きいので、ゲート取り出し電掘13の電位降
下を極めて小さくすることができ、そのため電流分布の
均一性も向上でき、その結果ゲートターンオフサイリス
タの遮断簡力を向上することができる。また外側、内側
挿入板14.15は各々ゲート取り出し電極13の絶縁
板13bの外周壁面、内周壁面によって位置決めされる
ので、組立作業性が極めてよい。そしてまたゲート取り
出し電極本体13aは環状絶縁板13bと環状の絶縁挿
入板19により外部陰極電極18と絶縁されている。
部13aの断面積が大きいので、該環状金属部13aの
電気抵抗が極めて小さく、また、ワイヤ部13Cの線径
も充分に大きいので、ゲート取り出し電掘13の電位降
下を極めて小さくすることができ、そのため電流分布の
均一性も向上でき、その結果ゲートターンオフサイリス
タの遮断簡力を向上することができる。また外側、内側
挿入板14.15は各々ゲート取り出し電極13の絶縁
板13bの外周壁面、内周壁面によって位置決めされる
ので、組立作業性が極めてよい。そしてまたゲート取り
出し電極本体13aは環状絶縁板13bと環状の絶縁挿
入板19により外部陰極電極18と絶縁されている。
また本実施例のゲート取り出し電極13は従来のゲート
圧接構造における絶縁性支持部材とゲート取り出し用ワ
イヤとの両方の機能を兼ね備えており、従って従来のよ
うなこれらを係合させる作業も不要となり、作業性を向
上できると同時に、本実施例では寸法精度の高い環状金
属部13a及び環状絶縁板13bにより、取り出し電極
13の位置決め精度が支配されるので、従来問題であっ
た位置決め精度も極めて良好となる。
圧接構造における絶縁性支持部材とゲート取り出し用ワ
イヤとの両方の機能を兼ね備えており、従って従来のよ
うなこれらを係合させる作業も不要となり、作業性を向
上できると同時に、本実施例では寸法精度の高い環状金
属部13a及び環状絶縁板13bにより、取り出し電極
13の位置決め精度が支配されるので、従来問題であっ
た位置決め精度も極めて良好となる。
なお、上記実施例では、ゲートターンオフサイリスクに
ついて述べたが、本発明は環状の制御電極を有する大容
量の半導体装置、例えば大電力トランジスタやゲート補
助ターンオフサイリスタ等についても通用でき、同様の
効果をもたらすことができる。さらに本発明は環状の制
御電極を取り出すための構造だけではなく、従来のセン
ターゲート構造のゲート取り出し電極についても適用で
き、このようにすれば作業性及び位置決め精度を向上で
きる。
ついて述べたが、本発明は環状の制御電極を有する大容
量の半導体装置、例えば大電力トランジスタやゲート補
助ターンオフサイリスタ等についても通用でき、同様の
効果をもたらすことができる。さらに本発明は環状の制
御電極を取り出すための構造だけではなく、従来のセン
ターゲート構造のゲート取り出し電極についても適用で
き、このようにすれば作業性及び位置決め精度を向上で
きる。
〔発明の効果〕
以上のように本発明に係る半導体装置によれば、半導体
基体の制御電極を外部制御電極に接続する略環状の制御
電極取り出し電極を設け、該制御電極取り出し電極のエ
レメントと接触する部分に隣接する周辺部に環状の絶縁
板を設け、さらに上記取り出し電極本体の上面に絶縁挿
入板を挿入し、上記接触部を上記制御電極に圧接せしめ
るようにしたので、環状ゲートを有する半導体基体に対
し、極めて高精度で信頼性が高く、作業性の良いゲート
取り出し構造が得られる効果がある。
基体の制御電極を外部制御電極に接続する略環状の制御
電極取り出し電極を設け、該制御電極取り出し電極のエ
レメントと接触する部分に隣接する周辺部に環状の絶縁
板を設け、さらに上記取り出し電極本体の上面に絶縁挿
入板を挿入し、上記接触部を上記制御電極に圧接せしめ
るようにしたので、環状ゲートを有する半導体基体に対
し、極めて高精度で信頼性が高く、作業性の良いゲート
取り出し構造が得られる効果がある。
第1図は本発明の一実施例による半導体装置(ゲートタ
ーンオフサイリスタ)の断面図、第2図は上記実施例の
ゲート取り出し電極の構造を示す断面図、第3図は従来
の環状ゲート構造を有するゲートターンオフサイリスク
のカソード・ゲートパターンを示す平面図、第4図は従
来のセンターゲート加圧方式のサイリスタの構造を示す
断面図である。 12・・・外部制御電極、13・・・制御電極取り出し
電極、13a・・・取り出し電極本体(環状金属部)、
13b・・・環状絶縁板、13c・・・制御リード部、
13d・・・接触部、16・・・スプリング、19・・
・環状の絶縁挿入板、1・・・半導体基体(エレメント
)。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
ーンオフサイリスタ)の断面図、第2図は上記実施例の
ゲート取り出し電極の構造を示す断面図、第3図は従来
の環状ゲート構造を有するゲートターンオフサイリスク
のカソード・ゲートパターンを示す平面図、第4図は従
来のセンターゲート加圧方式のサイリスタの構造を示す
断面図である。 12・・・外部制御電極、13・・・制御電極取り出し
電極、13a・・・取り出し電極本体(環状金属部)、
13b・・・環状絶縁板、13c・・・制御リード部、
13d・・・接触部、16・・・スプリング、19・・
・環状の絶縁挿入板、1・・・半導体基体(エレメント
)。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (8)
- (1)その第1、第2主面に第1、第2主電極を、かつ
第1主面に制御電極を有する半導体基体と、該半導体基
体の第1、第2主電極に電気的に接続して上記第1、第
2主面に配設された第1、第2外部主電極と、 上記半導体基体の制御電極に接続されるべき外部制御電
極と、 上記制御電極を上記外部制御電極に接続する制御電極取
り出し電極とを備えた半導体装置において、 上記制御電極取り出し電極はその下面に接触部を、該接
触部の周辺部に環状の絶縁板を有する略環状の取り出し
電極本体と、上記外部制御電極に接続された制御リード
部とからなるものであり、上記取り出し電極本体の上面
に環状の絶縁挿入板を具備し、 上記取り出し電極本体はその接触部にて上記半導体基体
の制御電極に圧接されていることを特徴とする半導体装
置。 - (2)上記取り出し電極本体の上記制御電極への圧接は
、上記第1外部主電極に凹設された環状の保持溝に上記
取り出し電極本体とともに挿入されたスプリングによっ
てなされていることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の半導体装置。 - (3)上記接触部は、上記取り出し電極本体の全周に沿
う環状のものであることを特徴とする特許請求の範囲第
1項又は第2項記載の半導体装置。 - (4)上記接触部は、上記取り出し電極本体の全周に沿
って配設された複数の円弧状部からなることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項又は第2項記載の半導体装置。 - (5)上記接触部は、その表面に銀又は金メッキが施さ
れていることを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし
第4項のいずれかに記載の半導体装置。 - (6)上記制御電極取り出し電極は、銅又はアルミニウ
ムを主成分とする電気良導体を用いて形成されているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第5項のい
ずれかに記載の半導体装置。 - (7)上記絶縁挿入板は酸化アルミニウム又はボロンナ
イトライドを主成分とする絶縁性物質の焼結生成物から
なるものであることを特徴とする特許請求の範囲第1項
ないし第6項のいずれかに記記載の半導体装置。 - (8)上記取り出し電極本体の環状の絶縁板は、上記取
り出し電極本体にロー付けにより固定されていることを
特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第7項のいずれ
かに記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60143793A JPS624330A (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60143793A JPS624330A (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | 半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS624330A true JPS624330A (ja) | 1987-01-10 |
Family
ID=15347116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60143793A Pending JPS624330A (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS624330A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6055633A (ja) * | 1983-09-07 | 1985-03-30 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
-
1985
- 1985-06-28 JP JP60143793A patent/JPS624330A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6055633A (ja) * | 1983-09-07 | 1985-03-30 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
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