JPS6245826Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は、例えばガソリンタンク等のように本
体と蓋体からなる被溶接物をシーム溶接する際、
該被溶接物の溶接線に沿つて該被溶接物を自動的
に案内するシーム溶接機の被溶接物誘導装置に関
するものである。

（従来技術） 従来、シーム溶接機の被溶接物誘導装置として
は、上部電極と下部電極を備えたシーム溶接機本
体に取り付けられ、上部にラチエツトを出没自在
に装着したガイドレールと、前記シーム溶接機本
体に移動可能かつ回転可能に支持され、被溶接物
の直線部と円弧部からなる溶接線に見合つた形状
に形成された回転テーブルと、該回転テーブルの
外周部に装着され、前記ラチエツトと係合して前
記溶接線の直線部を案内するための倣い板と、前
記回転テーブルの前記溶接線の円弧部の中心に対
応する位置に装着され、前記ガイドレールと係合
して前記溶接線の円弧部を案内するための半月カ
ムピンより概略構成され、前記回転テーブルに被
溶接物を載置して位置決め固定し、前記上部電極
と下部電極との間に該被溶接物を挾持し、その
後、前記両電極によつて通電・加圧しながら被溶
接物の溶接線に沿つて該被溶接物を案内して溶接
を行うようにしたものがある。

そして、前記溶接線の円弧部の半径がすべて等
しい被溶接物を対象とする被溶接物誘導装置とし
ては、特願昭48−32489号（特公昭52−22746号）
に開示され、また、前記溶接線の円弧部の半径が
異なる被溶接物を対象とする被溶接物誘導装置と
しては特願昭50−15691号（特公昭54−3012号）
に開示されている。

しかし、前述したものはいずれもガイドレール
の上部に穿孔を設け、該穿孔にラチエツト本体を
出没自在に挿入し、該ラチエツトをスプリングで
常時上方へ弾発付勢する構成となつている。この
ため、内部水冷式シーム溶接機においては差支え
ないが、外部水冷式シーム溶接機においては外部
から冷却水をかけながらシーム溶接を行うので、
前記穿孔とラチエツト本体との僅かな隙間より冷
却水および該冷却水に混じつてスパツタや電極の
切粉などの異物が該穿孔内に容易に進入する。こ
のように穿孔内に異物が進入すると、倣い板によ
つてラチエツト本体が押し下げられる際、冷却水
が穿孔内に充満してラチエツト本体が直ちに下降
しない、異物が穿孔とラチエツト本体間の隙間に
引つ掛かりラチエツト本体の出没動作を妨害する
等の問題が生じ、溶接品質を著しく低下させるこ
ととなる。

（考案の目的） 本考案の目的は、上記の問題を解消し、溶接品
質向上の観点から極めて良好なシーム溶接をなら
しめるシーム溶接機の被溶接物誘導装置を提供す
ることにある。

（考案の構成） このため本考案の構成は、シーム溶接機本体に
設けた被溶接物案内用ガイドレールの上面に穿孔
を形成し、この穿孔にラチエツトを出没自在に挿
入すると共に、穿孔の底部側に流体供給路を連通
して形成し、穿孔とラチエツト間の隙間に穿孔の
内側より上方へ向けて流体を供給し得るようにし
たところを特徴とするものである。

（作用） このように構成すると、冷却水、スパツタ、電
極切粉等の異物が穿孔とラチエツト間の隙間から
進入しようとしても、穿孔の内側より前記隙間に
向けて流体を供給することにより該隙間に流体の
カーテンを形成して異物の進入を確実に阻止する
ことができる。したがつて、ラチエツトは常時速
やかに出没し、被溶接物の溶接線に沿つて該被溶
接物を円滑に案内することができ、溶接欠陥を防
止することができる。

（実施例） 以下、本考案の一実施例について説明すると、
第１図は本実施例の側面図、第２図はその要部平
面図である。両図においては、１はシーム溶接機
本体で、第２図に示すように、シーム溶接機本体
１にはブラケツト２と３が互に平行に水平方向に
固着されている。シーム溶接機本体１のブラケツ
ト２側には、第１図に示すように、一対のブラケ
ツト４，５が固着され、６はシーム溶接機本体１
に移動自在に装着された治具である。前記一対の
ブラケツト４，５にはピン７を介してリンクアー
ム８が水平方向に回動自在に連結され、さらに、
リンクアーム８にはピン９を介してリンクアーム
１０が水平方向に回動自在に連結されている。

１１はリンクアーム１０の上部に回動自在に支
持され、かつ、被溶接物の溶接線の形状に合せて
形成された回転テーブルで、その上方には受け台
１２が配設され、受け台１２は回転テーブル１１
の適所に装着した複数個のフローテイング機構１
３によつて支持されている。フローテイング機構
１３は、上端が受け台１２に固着されたガイドピ
ン１４と、回転テーブル１１に装着され一対のベ
アリング（図略）を介してガイドピン１４を上下
動自在に嵌合保持するケーシング１５と、ガイド
ピン１４の上部側に外装され受け台１２を常時上
方へ付勢するスプリング１６と、ガイドピン１４
の下端に装着固定され、ケーシング１５と係合し
て受け台１２の回転テーブル１１に対する上方向
への移動量を抑制するためのストツパ１７とから
なつている。

シーム溶接本体１の適当な高さのところには、
上部電極１８、下部電極１９がそれぞれ回転可能
に配設されている。上部電極１８は図示しない加
圧シリンダ装置によつてAA′方向に移動自在に設
けられ、また、下部電極１９は図示しない回転駆
動源に直結されブラケツト（図略）に固定して設
置されている。

なお、上部電極１８と下部電極１９の摩擦損耗
に起因して、受け台１２に載置された被溶接物
Ｗ，W′の溶接部が第１図中A′方向に下降したと
しても、前述のフローテイング機構１３により受
け台１２は弾性的に支えられているので、前記溶
接部の下降に対応して受け台１２が速やかに追従
して下降できるようになつている。

２０は前記リンクアーム１０の適所に固着した
アームで、アーム２０の上端は上部電極１８より
も上方の高さ位置まで延び、該アーム２０の上端
側の水平部分には、回転テーブル１１の中心線に
一致して上下方向に延びる中空状ブラケツト２１
が固着されている。ブラケツト２１には、被溶接
物Ｗを保持するためのクランプ部材２２が上下動
自在に内嵌合し、クランプ部材２２の上端はブラ
ケツト２１の上部に設けたクランプシリンダ装置
２３のシリンダロツド部に連結されている。

２４は被溶接物Ｗ，W′の溶接線の直線部を案
内するためのガイドレールで、前記ブラケツト
２，３の先端に水平に固着されている。第３図は
ガイドレール２４を拡大して示す正面図で、ガイ
ドレール２４の適所には、円弧部２５ａを有する
カムストツパ２５が設けられ、円弧部２５ａは後
述の半月カムピン３４の円弧に合わせて形成され
ている。２６はガイドレールに形成されたガイド
溝である。

ガイドレール２４の上面側には、第４図にも示
すように、複数個の段付き状の穿孔２７が形成さ
れ、該穿孔２７には、傾斜面２８ａと垂直面２８
ｂを有するラチエツト２８が出没自在に挿入され
ている。ラチエツト２８と穿孔２７の底部との間
には、ラチエツト２８を常時上方に弾発付勢する
スプリング２９が装着されている。穿孔２７の底
部側には穿孔２７に連絡してエア供給路（流体供
給路）３０が形成され、エア供給路３０は図示し
ないエア供給源（流体供給源）に接続連通してい
る。３１はラチエツト２８が穿孔２７から離脱す
ることを防止するための押え板、３２はブツシユ
である。

したがつて、ラチエツト２８は、前記スプリン
グ２９による上方付勢のみならず、エア供給源よ
りエア供給路３０を介して穿孔２７内に供給され
る圧縮エアによつても上方に付勢されることとな
る。このため、前記スプリング２９の装着を除去
して圧縮エアのみによるエアスプリングの付勢力
でラチエツト２８を浮上させる構成としてもよ
い。

３３はラチエツト２８の垂直面２８ｂと係合し
て被溶接物Ｗ，W′の溶接線の直線部を案内する
ための倣い板で、前記回転テーブル１１の外周の
直線部に装着固定されている。３４はガイドレー
ル２４に設けたカムストツパ２５と係合して被溶
接物Ｗ，W′の溶接線の円弧部を案内するための
半月カムピンで、回転テーブル１１の前記溶接線
の円弧部の円弧中心に装着固定されている。半月
ピン３４は、該半月カムピン３４に形成されたコ
字状カム溝（第４図参照）３４ａの垂直面が、次
に溶接すべき直線部と平行になるように、回転テ
ーブル１１に位置決め固定されている。

このように構成された被溶接物誘導装置の作用
について説明すると、先ず、被溶接物Ｗ，W′を
受け台１２に載置し、クランプシリンダ装置２３
を作動してクランプ部材２２により被溶接物Ｗ，
W′を確実にクランプする。そして、上部電極１
８と下部電極１９は予め開放状態（上部電極１８
が上昇端に位置している状態）にあるので、シー
ム溶接機本体１の上部に装着されている加圧シリ
ンダ装置（図示せず）をオンに入れると、上部電
極１８は下降し、被溶接物Ｗ，W′の溶接部を下
部電極１９とにより挾持し、これと同時にエア供
給源より圧縮エアがエア供給路３０を経て穿孔２
７内に供給され、穿孔２７内に供給された圧縮エ
アは、穿孔２７、ラチエツト２８とブツシユ３２
との僅かな隙間を通つて穿孔２７の外部へ上昇し
て噴出する。

そこで、前記両電極１８，１９を回転しつつ通
電・加圧して外部から冷却水を被溶接物Ｗ，
W′の溶接部に注ぎながら、該被溶接物Ｗ，W′の
溶接部のシーム溶接を行なつていく。第２図にお
いて、被溶接物Ｗ，W′の溶接線の直線部の溶接
が完了すると、次に溶接すべき円弧部を案内する
半月カムピン３４が、図示しない補助ラチエツト
を押し下げて通過し、ガイドレール２４に設けた
カムストツパ２５の円弧部２５ａに当接する。

半月カムピン３４がカムストツパ２５の円弧部
２５ａに当接すると、前記補助ラチエツトが上昇
し、半月カムピン３４をその後方より支持し、該
半月カムピン３４はその位置において該半月カム
ピン３４に形成したコ字状カム溝３４ａが前記カ
ムストツパ２５と嵌合する回転位置まで回転す
る。すなわち、半月カムピン３４が回転中心とな
つて被溶接物Ｗ，W′の溶接線の円弧部の溶接を
行う。

前記被溶接物Ｗ，W′の円弧部の溶接が進行す
るに伴つて、次に溶接すべき直線部を案内する倣
い板３３が、ラチエツト２８に形成した傾斜面２
８ａに当接するようになり、然る後、スプリング
２９の弾発力およびエア圧（スプリング２９が介
在されていない場合はエア圧のみ。以下同じ。）
に抗してラチエツト２８を徐々に押し下げてい
き、円弧部の溶接がすべて完了すると同時に、倣
い板３３はラチエツト２８を通過し、該ラチエツ
ト２８はスプリング２９の弾発力とエア圧とによ
り上昇し、次いで、倣い板３３はラチエツト２８
の垂直面２８ｂと面接触して被溶接物Ｗ，W′の
溶接線の直線部を円滑に案内する。

以下、このようにして被溶接物Ｗ，W′の直線
部と円弧部の溶接が順々に行なわれていき、すべ
ての溶接が完了すると一溶接サイクルが終了す
る。

ここで、溶接サイクル中に溶接部にかけられる
冷却水、溶接スパツタ、前記両電極１８，１９
（電極１８，１９は溶接時に図示しない整形バイ
トで整形されている。）の切粉などの異物が、ガ
イドレール２４の形成した穿孔２７、ラチエツト
２８とブツシユ３２の間の僅かな隙間から進入し
ようとするが、前述のように該隙間から穿孔２７
の外部へ向けて圧縮エアが常時噴出しているの
で、強力なエアカーテンが形成され、穿孔２７へ
の異物の進入は確実に拒まれることとなる。

（考案の効果） 以上のように本考案によれば、穿孔とラチエツ
トとの僅かな隙間から常時流体を噴出させ得るよ
うに構成したので、たとえ外部水冷式シーム溶接
機であつても、冷却水、スパツタ、電極の切粉な
どの異物が穿孔とラチエツトとの僅かな隙間から
穿孔内へ進入するようなことが確実に防止され、
その結果、ラチエツトは常時円滑で速やかな出没
動作を行い、被溶接物をその溶接線に沿つて正確
に案内し、もつて溶接欠陥が防止され溶接品質を
高めると共に、コスト低減を可能にするという効
果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例を示す概略側面図、
第２図は第１図の概略平面図、第３図は第１図の
ガイドレールを拡大して示す正面図、第４図は第
１図の半月カムピンとカムストツパの係合状態を
拡大して示す要部断面図である。 １……シーム溶接機本体、２……回転テーブ
ル、１８……上部電極、１９……下部電極、２４
……ガイドレール、２５……カムストツパ、２５
ａ……円弧部、２７……穿孔、２８……ラチエツ
ト、３０……エア供給路（流体供給路）、３４…
…半月カムピン、Ｗ，W′……被溶接物。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 上部電極と下部電極の間に被溶接物を挾持し、
   該被溶接物を前記両電極によつて通電・加圧しつ
   つ溶接を行うシーム溶接機において、シーム溶接
   機本体に設けられた被溶接物を案内するためのガ
   イドレールの上面に、穿孔を形成して該穿孔にラ
   チエツトを出没自在に挿入すると共に、該穿孔の
   底部側に流体供給路を連通して形成したことを特
   徴とするシーム溶接機の被溶接物誘導装置。