JPS6250335A - プラズマ処理装置 - Google Patents
プラズマ処理装置Info
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- JPS6250335A JPS6250335A JP19161385A JP19161385A JPS6250335A JP S6250335 A JPS6250335 A JP S6250335A JP 19161385 A JP19161385 A JP 19161385A JP 19161385 A JP19161385 A JP 19161385A JP S6250335 A JPS6250335 A JP S6250335A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
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- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
- B29C59/142—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment of profiled articles, e.g. hollow or tubular articles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2031/00—Other particular articles
- B29L2031/30—Vehicles, e.g. ships or aircraft, or body parts thereof
- B29L2031/3044—Bumpers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の目的
（産業上の利用分野）
本発明は、収容室内の回転支持円盤に取着された複数個
のハンガーにバンパーその他の合成樹脂成形品を載置し
、その表面にプラズマ処理を施すことにより塗料などの
密着性を向上させるプラズマ処理装置に係り、詳しくは
プラズマを噴射するためのプラズマ噴射管に関するもの
である。
のハンガーにバンパーその他の合成樹脂成形品を載置し
、その表面にプラズマ処理を施すことにより塗料などの
密着性を向上させるプラズマ処理装置に係り、詳しくは
プラズマを噴射するためのプラズマ噴射管に関するもの
である。
（従来の技術）
ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）などの
ポリオレフィン系熱可塑性樹脂あるいは各種熱硬化性樹
脂は塗料や接着剤に対する密着性に乏しく、これらを塗
布しても塗膜の剥離が生じやすい。そのため、各種の前
処理法が採用されているが、近年、減圧下における放電
処理により合成樹脂基材表面を改質するプラズマ処理法
が多用されるようになった。
ポリオレフィン系熱可塑性樹脂あるいは各種熱硬化性樹
脂は塗料や接着剤に対する密着性に乏しく、これらを塗
布しても塗膜の剥離が生じやすい。そのため、各種の前
処理法が採用されているが、近年、減圧下における放電
処理により合成樹脂基材表面を改質するプラズマ処理法
が多用されるようになった。
上記プラズマ処理を行うための装置としては本願出願人
が先に出願した特願昭５８−２３６５４６号に示す装置
を例示することができる。
が先に出願した特願昭５８−２３６５４６号に示す装置
を例示することができる。
すなわち、第５図に示すプラズマ処理装置であって、被
処理品である合成樹脂製バンパーＢなどを収納する気密
可能な収容室５１と、その内壁に配設され、被処理品に
プラズマガスを噴射する一本のプラズマ噴射管５２と、
収容室５１内を減圧するための排気口５５と、回転軸５
７の回りで一体回転する一対の支持円盤５３ａ、５３ｂ
と、これら一対の支持円盤５３ａ、５３ｂ間に相対回動
可能に取着され、被処理品が載置される複数台のハンガ
ー５４とを備えた構成になっている。
処理品である合成樹脂製バンパーＢなどを収納する気密
可能な収容室５１と、その内壁に配設され、被処理品に
プラズマガスを噴射する一本のプラズマ噴射管５２と、
収容室５１内を減圧するための排気口５５と、回転軸５
７の回りで一体回転する一対の支持円盤５３ａ、５３ｂ
と、これら一対の支持円盤５３ａ、５３ｂ間に相対回動
可能に取着され、被処理品が載置される複数台のハンガ
ー５４とを備えた構成になっている。
なお、上記プラズマ噴射管５２は導入管５６を介して図
示しないプラズマ発生装置に接続されており、同発生装
置から供給される酸素プラズマガスを収容室５１内に噴
射するようになっている。
示しないプラズマ発生装置に接続されており、同発生装
置から供給される酸素プラズマガスを収容室５１内に噴
射するようになっている。
（発明が解決しようとする問題点）
ところが、上記装置においてプラズマ噴射管は収容室内
に一本しかないため、バンパーなどの大型成形品の処理
面全体を均一にプラズマ処理する場合には長時間を要す
るという問題点がある。
に一本しかないため、バンパーなどの大型成形品の処理
面全体を均一にプラズマ処理する場合には長時間を要す
るという問題点がある。
そこで処理時間を短縮するための手段として、プラズマ
噴射管を多数本設ける構成が採用されているが、プラズ
マ処理装置が複雑化し、製造コストが高価なものになる
などの問題点が生ずる。
噴射管を多数本設ける構成が採用されているが、プラズ
マ処理装置が複雑化し、製造コストが高価なものになる
などの問題点が生ずる。
本発明はこれらの問題点に鑑みてなされたものであって
、バンパーなどの大型成形品の処理に際し、プラズマ処
理装置を複雑化することなく、短時間で被処理品を均一
にプラズマ処理する手段を提供するものである。
、バンパーなどの大型成形品の処理に際し、プラズマ処
理装置を複雑化することなく、短時間で被処理品を均一
にプラズマ処理する手段を提供するものである。
発明の構成
（問題点を解決するための手段）
すなわち、本発明は合成樹脂バンパー等の被塗装品を収
容する収容室と、同収容室内へプラズマガスを噴射する
プラズマ噴射管と、同収容室内を減圧する排気口と、回
転軸の周りで一体回転する一対の支持円盤およびこの一
対の支持円盤間に相対回動可能に取着され、被塗装品が
載置される複数個のハンガーからなる回転装置とを備え
たプラズマ処理装置において、前記回転軸および／また
はハンガーがプラズマ噴射管であることを特徴とするプ
ラズマ処理装置を採用することにより、上記問題点の解
決を図ったものである。
容する収容室と、同収容室内へプラズマガスを噴射する
プラズマ噴射管と、同収容室内を減圧する排気口と、回
転軸の周りで一体回転する一対の支持円盤およびこの一
対の支持円盤間に相対回動可能に取着され、被塗装品が
載置される複数個のハンガーからなる回転装置とを備え
たプラズマ処理装置において、前記回転軸および／また
はハンガーがプラズマ噴射管であることを特徴とするプ
ラズマ処理装置を採用することにより、上記問題点の解
決を図ったものである。
（作用）
前記回転軸は被処理品が載置された各ハンガーの中心部
に位置し、しかも被処理品から至近距離にある。そのた
め、この回転軸から噴射されるプラズマガスは各ハンガ
ーに載置された被処理品に対し均等に拡散され、しかも
被処理品への照射量も十分である。また、ハンガーの一
部をプラズマ噴射管として構成した場合にも、隣接する
ハンガーに載置された被処理品に対しプラズマガスを十
分に照射することが可能となる。
に位置し、しかも被処理品から至近距離にある。そのた
め、この回転軸から噴射されるプラズマガスは各ハンガ
ーに載置された被処理品に対し均等に拡散され、しかも
被処理品への照射量も十分である。また、ハンガーの一
部をプラズマ噴射管として構成した場合にも、隣接する
ハンガーに載置された被処理品に対しプラズマガスを十
分に照射することが可能となる。
従って、これらの構成を採用することにより、被処理品
を短時間で、かつ、均一に処理することができる。
を短時間で、かつ、均一に処理することができる。
（実施例）
以下、本発明を車両用バンパーの表面をプラズマ処理す
る装置に具体化した一実施例につき、第１〜３図に従っ
て説明する。
る装置に具体化した一実施例につき、第１〜３図に従っ
て説明する。
本実施例のプラズマ処理装置の収容室１は第１図に示す
ように、その−側端に出入口２を備え、この出入口２に
は扉４が開閉可能に取着されている。さらに、この収容
室１の裏側壁中央部には図示しない吸引ポンプに接続さ
れた排気口３が設けられ、収容室１内を減圧可能として
いる。
ように、その−側端に出入口２を備え、この出入口２に
は扉４が開閉可能に取着されている。さらに、この収容
室１の裏側壁中央部には図示しない吸引ポンプに接続さ
れた排気口３が設けられ、収容室１内を減圧可能として
いる。
また、収容室１内の底部には一対のレール５が所定間隔
を置いて配設され、収容室１内のほぼ全長にわたって延
びており、回転支持台６を扉４方向に移動可能に支持し
ている。
を置いて配設され、収容室１内のほぼ全長にわたって延
びており、回転支持台６を扉４方向に移動可能に支持し
ている。
第１〜３図に示すように、この回転支持台６は支持フレ
ーム７と、その支持フレーム７上に水平軸線の回りで回
転可能に支持された回転装置８とにより構成され、支持
フレーム７の下部両側にはレール５に沿って転勤する複
数個の車輪９が回転可能に取着されている。また、回転
装置８は中央の回転軸１０とその両端近傍に固定された
一対の支持円盤１１とにより構成されている。
ーム７と、その支持フレーム７上に水平軸線の回りで回
転可能に支持された回転装置８とにより構成され、支持
フレーム７の下部両側にはレール５に沿って転勤する複
数個の車輪９が回転可能に取着されている。また、回転
装置８は中央の回転軸１０とその両端近傍に固定された
一対の支持円盤１１とにより構成されている。
上記回転輪１０は一端が封止された中空円筒状のステン
レス鋼からなり、他端には導入管２５が図示しないロッ
ク機構によって着脱可能に装着されている。また、上記
導入管２５の他端は図示しないプラズマ発生装置に接続
されている。
レス鋼からなり、他端には導入管２５が図示しないロッ
ク機構によって着脱可能に装着されている。また、上記
導入管２５の他端は図示しないプラズマ発生装置に接続
されている。
さらに、この回転軸１０には全周にわたってほぼ均一に
多数の噴射口２６が形成されており、プラズマ発生装置
から供給される酸素プラズマガスが収容室ｌ内に噴射さ
れるようになっている。
多数の噴射口２６が形成されており、プラズマ発生装置
から供給される酸素プラズマガスが収容室ｌ内に噴射さ
れるようになっている。
また、回転軸１０の右端には山車１２が、また左側には
スプロケットホイール１３がそれぞれ固定されている。
スプロケットホイール１３がそれぞれ固定されている。
このスプロケットホイール１３と対応して支持フレーム
７の左側板には第二のスプロケットホイール１４および
歯車１５が支え軸１６により一体回転可能に支持される
とともに両スプロケットホイール１３．１４間にはチェ
ーン１７が掛装されている。また、収容室１の外側には
モーター１８が支持板１９を介して配設され、そのモー
ター軸２０が軸受筒２１を介して収容室１内に突出して
いる。そして、このモーター軸２０の内端には歯車２２
が固定され、収容室１内への回転支持台６の移動に伴っ
て支持フレーム７上の歯車１５に保合離脱するようにな
っている。
７の左側板には第二のスプロケットホイール１４および
歯車１５が支え軸１６により一体回転可能に支持される
とともに両スプロケットホイール１３．１４間にはチェ
ーン１７が掛装されている。また、収容室１の外側には
モーター１８が支持板１９を介して配設され、そのモー
ター軸２０が軸受筒２１を介して収容室１内に突出して
いる。そして、このモーター軸２０の内端には歯車２２
が固定され、収容室１内への回転支持台６の移動に伴っ
て支持フレーム７上の歯車１５に保合離脱するようにな
っている。
第１．２図に示すように、前記回転支持台６の両支持円
盤１１間には複数台（本実施例では６台）のハンガー２
３がその左右両側板の上端部で支え軸２４により相対回
転可能に取着され、その上部に被処理品である合成樹脂
製の自動車用バンパーＢなどが載置されるようになって
いる。
盤１１間には複数台（本実施例では６台）のハンガー２
３がその左右両側板の上端部で支え軸２４により相対回
転可能に取着され、その上部に被処理品である合成樹脂
製の自動車用バンパーＢなどが載置されるようになって
いる。
次に、以上の構成からなるプラズマ処理装置を用いたバ
ンパーＢの処理工程を説明する。
ンパーＢの処理工程を説明する。
まず、収容室１の扉４を開いてその中央部に収納された
回転装置８を支持フレーム７とともに手前にスライドさ
せ、プラズマ処理の施されるバンパーＢを各ハンガー２
３の所定位置に載置する。
回転装置８を支持フレーム７とともに手前にスライドさ
せ、プラズマ処理の施されるバンパーＢを各ハンガー２
３の所定位置に載置する。
さらに、回転装置８を収容室ｌの中央部に戻して導入管
２５の先端と回転軸１０の先端とをロック機構を介して
嵌着し、次いで、扉４を閉じた後、排気口３に設けられ
た図示しない開閉バルブを開放して収容室１内の気圧が
０．５〜０．６Ｔｏｒｒ程度になるまで減圧する。
２５の先端と回転軸１０の先端とをロック機構を介して
嵌着し、次いで、扉４を閉じた後、排気口３に設けられ
た図示しない開閉バルブを開放して収容室１内の気圧が
０．５〜０．６Ｔｏｒｒ程度になるまで減圧する。
収容室ｌ内が所定圧まで減圧されたら開閉バルブを閉し
、モーター１８を作動して支持円盤１１を回転させる。
、モーター１８を作動して支持円盤１１を回転させる。
一方、支持円盤１１の回転と同時にプラズマ発生装置も
始動し、この発生装置から供給されるプラズマガスが導
入管２５を経てプラズマ噴射管である回転軸ｌＯの各噴
射口２６から収容室１内に噴射される。なお、このとき
排気口３に設けられた開閉バルブが若干開放され、プラ
ズマガスの噴射による収容室ｌ内の気圧上昇を防止して
いる。
始動し、この発生装置から供給されるプラズマガスが導
入管２５を経てプラズマ噴射管である回転軸ｌＯの各噴
射口２６から収容室１内に噴射される。なお、このとき
排気口３に設けられた開閉バルブが若干開放され、プラ
ズマガスの噴射による収容室ｌ内の気圧上昇を防止して
いる。
以上のように、」二記プラズマ処理装置においては、バ
ンパーＢの近傍である回転軸１０からプラズマガスが噴
射されるため、短時間で均一なプラズマ処理を施すこと
が可能となる。
ンパーＢの近傍である回転軸１０からプラズマガスが噴
射されるため、短時間で均一なプラズマ処理を施すこと
が可能となる。
次に、第４図は本発明の他の実施例を示すものであって
、回転軸１０のみならずハンガー２３のフレーム２８も
プラズマ噴射管として構成されており、隣接するハンガ
ー２３に載置されたバンパーＢに十分なプラズマガスが
照射されるようになっている。従って、より短時間で均
一なプラズマ処理を施すことが可能となり、バンパーＢ
のみならず、特に表面形状の複雑な被処理品のプラズマ
処理に採用することができる。
、回転軸１０のみならずハンガー２３のフレーム２８も
プラズマ噴射管として構成されており、隣接するハンガ
ー２３に載置されたバンパーＢに十分なプラズマガスが
照射されるようになっている。従って、より短時間で均
一なプラズマ処理を施すことが可能となり、バンパーＢ
のみならず、特に表面形状の複雑な被処理品のプラズマ
処理に採用することができる。
なお、本発明は上記各実施例に限定されるものではなく
、例えば噴射口の数を増加したり、その断面形状を楕円
形にしたりしてもよく、さらに、回転軸の口径や材質を
変更するなど、その要旨を逸脱しない範囲で細部の仕様
を自由に変更することが可能である。
、例えば噴射口の数を増加したり、その断面形状を楕円
形にしたりしてもよく、さらに、回転軸の口径や材質を
変更するなど、その要旨を逸脱しない範囲で細部の仕様
を自由に変更することが可能である。
発明の効果
以上詳述したように、本発明にあってはバンパーなどの
被処理品の至近距離にある回転軸および／またはハンガ
ーからプラズマガスが噴１・１されるため、プラズマ処
理装置を大型化することなく、短時間で均一なプラズマ
処理が可能になるという効果を発揮し、バンパーのみな
らず各種の合成樹脂成形品のプラズマ処理に適用できる
優れた発明である。
被処理品の至近距離にある回転軸および／またはハンガ
ーからプラズマガスが噴１・１されるため、プラズマ処
理装置を大型化することなく、短時間で均一なプラズマ
処理が可能になるという効果を発揮し、バンパーのみな
らず各種の合成樹脂成形品のプラズマ処理に適用できる
優れた発明である。
第１図は本発明を具体化したプラズマ処理装置の一実施
例を示す縦断面図、第２図は同装置の斜視図、第３図は
同′ｊ装置の部分拡大側断面図、第４図は他の実施例を
示す斜視図、また、第５図は従来のプラズマ処理装置を
示す斜視図である。 ■・・収容室、１０・・回転軸、２３・・ハンガー、Ｂ
・・バンパー。 ３１２図 ｊＩ４ＢＫＩ 第５図 手続ｒ市１Ｅ吉（方式） ２、発明の名称 プラズマ処理装置 ３、補正をする者 事ｆ１との関係： 特許出願人 住 所 愛知県西春日井郡春日村大字落合字良畑１
番地氏 名 豊田合成 株式会社 （名 称） 代表者 根本 正大 ４、代即人
例を示す縦断面図、第２図は同装置の斜視図、第３図は
同′ｊ装置の部分拡大側断面図、第４図は他の実施例を
示す斜視図、また、第５図は従来のプラズマ処理装置を
示す斜視図である。 ■・・収容室、１０・・回転軸、２３・・ハンガー、Ｂ
・・バンパー。 ３１２図 ｊＩ４ＢＫＩ 第５図 手続ｒ市１Ｅ吉（方式） ２、発明の名称 プラズマ処理装置 ３、補正をする者 事ｆ１との関係： 特許出願人 住 所 愛知県西春日井郡春日村大字落合字良畑１
番地氏 名 豊田合成 株式会社 （名 称） 代表者 根本 正大 ４、代即人
Claims (1)
- １、合成樹脂バンパー（Ｂ）等の被塗装品を収容する収
容室（１）と、同収容室（１）内へプラズマガスを噴射
するプラズマ噴射管と、同収容室（１）内を減圧する排
気口（３）と、回転軸（１０）の周りで一体回転する一
対の支持円盤（１１）および前記一対の支持円盤（１１
）間に相対回動可能に取着され、被塗装品が載置される
複数個のハンガー（２３）からなる回転装置（８）とを
備えたプラズマ処理装置において、前記回転軸（１０）
および／またはハンガー（２３）がプラズマ噴射管であ
ることを特徴とするプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19161385A JPS6250335A (ja) | 1985-08-29 | 1985-08-29 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19161385A JPS6250335A (ja) | 1985-08-29 | 1985-08-29 | プラズマ処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6250335A true JPS6250335A (ja) | 1987-03-05 |
Family
ID=16277545
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19161385A Pending JPS6250335A (ja) | 1985-08-29 | 1985-08-29 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6250335A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0658416A3 (ja) * | 1993-11-23 | 1995-07-26 | Heinze Dyconex Patente |
-
1985
- 1985-08-29 JP JP19161385A patent/JPS6250335A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0658416A3 (ja) * | 1993-11-23 | 1995-07-26 | Heinze Dyconex Patente |
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