JPS62535A - 連続式プラズマ処理装置 - Google Patents

連続式プラズマ処理装置

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JPS62535A
JPS62535A JP13909585A JP13909585A JPS62535A JP S62535 A JPS62535 A JP S62535A JP 13909585 A JP13909585 A JP 13909585A JP 13909585 A JP13909585 A JP 13909585A JP S62535 A JPS62535 A JP S62535A
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JP
Japan
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chamber
plasma processing
chambers
plasma
zone
Prior art date
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Pending
Application number
JP13909585A
Other languages
English (en)
Inventor
Junichi Kasai
純一 河西
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Isuzu Motors Ltd
Original Assignee
Isuzu Motors Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Isuzu Motors Ltd filed Critical Isuzu Motors Ltd
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Publication of JPS62535A publication Critical patent/JPS62535A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/087Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
    • B01J19/088Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J3/00Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
    • B01J3/006Processes utilising sub-atmospheric pressure; Apparatus therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/14Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment

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  • Organic Chemistry (AREA)
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  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
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  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、不連続形状、例えば線維状、フィルム状等と
異なり単品形状の樹脂成形品、容器に収容した重合体原
料等を、プラズマ処理、例えばプラズマによる表面処理
、重合、エツチング等を行うだめの連続式装置に関する
〔従来の技術〕
従来、樹脂成形品、特に塗装性及び接着性の悪い樹脂成
形品の改質のための表面処理方法、単量体の重合、物体
のエツチング等に例えば特開昭57−67636号公報
に記載のようなブラズマ処理が採用されている。しかし
ながら、従来のプラズマ処理でバッチ方式を採用する場
合には、作業性、経済性が悪く、また被処理物の出し入
れに際する接触により、破損、次工程における不都合を
生じる等の問題点があった。
〔発明が解決しようとする問題点〕
また、バッチ式の問題点を解決するための連続装置も提
案されているが、それらは被処理物の形状が連続的な繊
維状又はフィルム状のものに限られておシ、単品形状の
ものに対する満足な連続装置の開発が望まれているのが
現状である。
本発明の目的は、バッチ方式の欠点を改良し、更に処理
効率及び製品特性を向上することができる連続式プラズ
マ処理装置を提供することKある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明を概説すれば、本発明は連続式プラズマ処理装置
に関する発明であって、不連続形状の物体をプラズマ処
理する装置において、一貫連通した処理室を、減圧下で
も開閉可能な遮断とひらによシ各々1以上の予備減圧室
及び/又はパージ室、及びプラズマ処理室を含む各小室
に分割し各個ごとに密閉可能とした各個室、該各個室を
貫通して被処理物体を移動させる搬送設備、及び各個室
において必要な付帯設備を包含し、かつプラズマ処理の
ために必要な各個室は、予備減圧帯域、プラズマ処理帯
域及びパージ帯域の順に配備されていることを特徴とす
る。
したがって、本発明の実施態様には、下記の各事項など
が含まれる。
(1)該予備減圧室とパージ室とを、別室でなく同一の
室を用いて共用する、(2)該予備減圧室の手前に、同
じく個室を1以上用意して、それを紫外線照射帯域及び
/又は脱脂、洗浄帯域とする、(3)プラズマ処理を2
段階以上に分けて行うように各個室を配備し、かつその
中間(すなわち2段階目以降の予備減圧室の手前)に個
室21以上用意して、それを脱脂、洗浄帯域とする。
なお、これらの紫外線照射、及び脱脂、洗浄は、従来の
プラズマ処理において、公知又は提案された処理である
以下、本発明の装置における各設備について具体的に説
明する。
(1)  プラズマ処理帯域 プラズマ処理室(真空)には、被処理物を移動させるた
めの設備が内蔵されているため、プラズマの発生は処理
室外部−で行い、そのガスを処理室内に導く設備が望ま
しい。処理室内にはプラズマガスシャワー管を設け、そ
の面と処理する面が正対するように移動設備などを配置
する。処理室は耐圧性の観点から金属製が好ましい。
プラズマ発生源としては、例えばマイクロ波:約245
0 MHz又はラジオ波:IL56MHzが使用可能で
ある。
プラズマ処理は、1種のガスを用いて行ってよいが、2
種以上の混合ガスを用いて行ってもよく、あるいは2種
以上のガスを用いて、同時(別個の導入管よシ)又は多
段式で行つてもよい。
(2)  予備減圧帯域 予備減圧室の外部に真空ポンプとバルブ、必要に応じて
圧力計、真空ポンプとパルプの中間に真空室を取付ける
。この減圧室は、同じく金属製が好ましい。この予備減
圧室の手前で溶剤蒸気による脱脂、洗浄を行った場合、
この減圧室内、又はその手前に、熱風ブロー若しくは強
制排気設備を取付けて、溶剤の揮発、除去を行ってもよ
い。
(3)  パージ帯域 上記(2)と同じ室であるが、パージする点が異なる。
パージガスには、窒素、大気等を用いるが、大気を用い
る場合には、フィルターを設備し、はこり等の汚れを防
止することが望ましい。
(4)・遮断とびら 減圧下でも開閉可能なものであシ、周知のいずれのもの
を用いてもよい。シールは、ゴム材、0−リングで行う
。とびらの開閉方向は、上下、左右又は回転、あるいは
シャッタ一式等がちシ、1枚とびらでも、2分割される
ものでも、又は上記のように、写真のシャッターのよう
に開閉するものでもよい。開閉はエアシリンダー又は油
圧シリンダー等で行うことができ、真空のシールには磁
性流体を利用することもできる。
(5)搬送設備 常用のベルトコンベア一式、ローラ一式等を用いて直接
搬送することができる。あるいは被処理物を治具に取付
け、その治具をベルトコンベアー、ローラー上に移動さ
せるか、治具をチェーンに取付けたシ、自己の駆動力で
移動させてもよい。いずれにしても、室の外部から、モ
ーターとギアの組合せ等の常法で、その移動速度、位置
を制御できるようにすることが好ましい。また、コンベ
アー等を分割して用い、特定の個所で被処理物が上昇又
は下降できるようにして、移動又は処理ガスとの距離を
調節できるようにしてもよい。
(6)付帯設備 前記した各室、設備の付帯設備の外に、被処理物の位置
、真空度、とびらの開閉の具合等をチェックするために
、常用の光電管、圧力センサー、スイッチ、及び計器等
を設置するのが、当然有利である。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例によシ更に具体的に説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されない。
実施例1 本発明装置の1例を第1図に示す。すなわち、第1図は
本発明の連続式プラズマ処理装置の1例の概要図であシ
、第1図において、符号1はプラズマ発生源、例えばマ
イクロ波発損装置、2は導波管(電極)、3は反応ガス
ボンベ、4はプラズマシャワー管、5はプラズマ処理室
、6は予備減圧室、7はパージ室、8−1.8−2及び
8−3は真空ポンプ、?−1,9−2,9−5、?−4
及び9−5は被処理物搬送設備、10.11.12及び
13は遮断とびら、14−1及び14−2はノ(−ジガ
スを意味する。
第1図は、本発明装置の最も基本的設備を示しており、
被処理物は、9−1〜9−5のコンベアーベルト上を、
6.5.7の順に通ってプラズマ処理される。各室を更
に分割して条件を変えてもよい。
第1図において室6の手前の室を紫外線照射室としても
よい。
また第1図に示す装置を直列に2つ連結し、その中間を
、脱脂、洗浄室として2段プラズマ処理を行ってもよい
更に第1図に示す室5の出口端を閉じ、被処理物を室5
内でUターンさせ、室6をパージ室として併用してもよ
い。
〔発明の効果〕 以上説明したように、本発明の連続式プラズマ処理装置
では、プラズマ処理を効率良く行うことができる。例え
ば従来のバッチ方式では、4個を1設備につけ回転させ
ながらプラズマ照射を行っているので、プラズマひいて
は電力の無駄を生じていた。それに対して、本発明装置
では被処理物の隙間にプラズマ照射することはないので
、時間、電力の無駄が省けると共に、処理むらもなくな
る。また、1個ずつ順次処理できるので、バッチ方式の
ように被処理面への接触による欠陥の発生を大幅に防止
することができるという顕著な効果が奏せられる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明装置の1例の概要図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、不連続形状の物体をプラズマ処理する装置において
    、一貫連通した処理室を、減圧下でも開閉可能な遮断と
    びらにより各々1以上の予備減圧室及び/又はパージ室
    、及びプラズマ処理室を含む各小室に分割し各個ごとに
    密閉可能とした各個室、該各個室を貫通して被処理物体
    を移動させる搬送設備、及び各個室において必要な付帯
    設備を包含し、かつプラズマ処理のために必要な各個室
    は、予備減圧帯域、プラズマ処理帯域及びパージ帯域の
    順に配備されていることを特徴とする連続式プラズマ処
    理装置。 2、該予備減圧室とパージ室とを同一室で共用してなる
    特許請求の範囲第1項記載の連続式プラズマ処理装置。 3、該予備減圧室の手前の1以上の該個室が、紫外線照
    射帯域及び/又は脱脂、洗浄帯域である特許請求の範囲
    第1項又は第2項記載の連続式プラズマ処理装置。 4、プラズマ処理を2段階以上に分けて行うよう各個室
    を配備し、かつその中間の1以上の該個室が脱脂、洗浄
    帯域である特許請求の範囲第1項〜第3項のいずれかに
    記載の連続式プラズマ処理装置。
JP13909585A 1985-06-27 1985-06-27 連続式プラズマ処理装置 Pending JPS62535A (ja)

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