JPS6254585A - 電子ビ−ム溶接装置 - Google Patents
電子ビ−ム溶接装置Info
- Publication number
- JPS6254585A JPS6254585A JP19321985A JP19321985A JPS6254585A JP S6254585 A JPS6254585 A JP S6254585A JP 19321985 A JP19321985 A JP 19321985A JP 19321985 A JP19321985 A JP 19321985A JP S6254585 A JPS6254585 A JP S6254585A
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- Japan
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- electron beam
- beam current
- circuit
- switching element
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- Pending
Links
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- 238000003466 welding Methods 0.000 title claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000011324 bead Substances 0.000 claims abstract description 8
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
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Landscapes
- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、被溶接材の、溶接箇所からの反射電子ビーム
電流を検出して電子ビーム電流を制御することにより、
被溶接材の裏面に均一な裏ビードを形成させる、特に薄
板の裏波溶接や異釉金属溶接に好適な電子ビーム溶接装
置に関するものである。
電流を検出して電子ビーム電流を制御することにより、
被溶接材の裏面に均一な裏ビードを形成させる、特に薄
板の裏波溶接や異釉金属溶接に好適な電子ビーム溶接装
置に関するものである。
この種の溶接装置による溶接時において、電子ビーム電
流と反射電子ビーム電流の関係は第2図に示す通りであ
る。すなわち電子ビーム電流が増加すると、電子ビーム
が被溶接材を貫通していない状態(非貫通状態)では反
射電子ビーム電流も増加するが、貫通している状態(貫
通状態)では逆に反射電子ビーム電流は減少する。
流と反射電子ビーム電流の関係は第2図に示す通りであ
る。すなわち電子ビーム電流が増加すると、電子ビーム
が被溶接材を貫通していない状態(非貫通状態)では反
射電子ビーム電流も増加するが、貫通している状態(貫
通状態)では逆に反射電子ビーム電流は減少する。
このため反射電子ビーム電流値をフィードバックし、電
子ビーム電流を制御する場合には、上記貫通状態のみの
特性によって電子ビーム電流を制御するようにしただけ
では、その際にのみ有効な制御ができるに過ぎず、従来
、これについての改善が要望されていた。
子ビーム電流を制御する場合には、上記貫通状態のみの
特性によって電子ビーム電流を制御するようにしただけ
では、その際にのみ有効な制御ができるに過ぎず、従来
、これについての改善が要望されていた。
本発明は上記のような要望に鑑みてなされたもので、被
溶接材に対して電子ビームが非貫通状態にあっても、貫
通状態にあっても電子ビーム電流を有効に制御でき、よ
り均一な裏ビードを形成させ得る電子ビーム溶接装置を
提供することを目的とする。
溶接材に対して電子ビームが非貫通状態にあっても、貫
通状態にあっても電子ビーム電流を有効に制御でき、よ
り均一な裏ビードを形成させ得る電子ビーム溶接装置を
提供することを目的とする。
本発明装置は、反射ビーム電流検出値を設定値と比較し
、その比較信号に応じて電子ビーム電流を制御する方式
において、上記比較信号のフィードバック系にスイッチ
ング素子を介挿し、電子ビームが被溶接材を貫通してい
るときにはそのスイッチング素子を閉じて反射ビーム電
流検出値による電子ビーム電流の制御を行い、貫通して
いないときには同スイッチング素子を開いて電子ビーム
電流設定値による電子ビーム電流の制御を行うことによ
り上述目的を達成するようにしたものである。
、その比較信号に応じて電子ビーム電流を制御する方式
において、上記比較信号のフィードバック系にスイッチ
ング素子を介挿し、電子ビームが被溶接材を貫通してい
るときにはそのスイッチング素子を閉じて反射ビーム電
流検出値による電子ビーム電流の制御を行い、貫通して
いないときには同スイッチング素子を開いて電子ビーム
電流設定値による電子ビーム電流の制御を行うことによ
り上述目的を達成するようにしたものである。
以下図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明による電子ビーム溶接装置の一実施例を
示すブロック図で、図中1は電子を発生するためのフィ
ラメント、2はフィラメント1を加熱するだめの電源、
3はフイラメン)lから発生した電子を加速するための
加速電源、4は陰極、5は陰極4に印加される電圧を制
御するバイアス電源、6は電子ビーム、7は陽極、8は
陽極7を通過した電子ビーム6を集束する集束コイル、
9は被溶接材、10は被溶接材9の溶接箇所である。
示すブロック図で、図中1は電子を発生するためのフィ
ラメント、2はフィラメント1を加熱するだめの電源、
3はフイラメン)lから発生した電子を加速するための
加速電源、4は陰極、5は陰極4に印加される電圧を制
御するバイアス電源、6は電子ビーム、7は陽極、8は
陽極7を通過した電子ビーム6を集束する集束コイル、
9は被溶接材、10は被溶接材9の溶接箇所である。
また11は溶接箇所10よシ反射された反射電子、12
は反射電子11を集める電極、 13は電極12に集め
られる反射電子の量、換言すれば反射電子ビーム電流の
値を検出する反射電子ビーム電流検出器、14は所望の
反射電子ビーム電流値を設定する第1設定器、15は反
射電子ビーム電流検出器13の出力値(反射電子ビーム
電流検出値)と第1設定器14の出力値(反射電子ビー
ム電流設定値)とを比較する第1比較回路である。さら
に16は所望の電子ビーム電流値を設定する第2設定器
、17はスイッチング素子、18はスイッチング素子1
7が閉じているとき、第1比較回路15の出力値を第2
設定器16の出力値(を子ビーム電流設定値)に加算す
る演算回路、19は電子ビーム電流検出器、20は演算
回路18の出力値と電子ビーム電流検出器19の出力値
(1!子ビーム電流検出値)とを比較する第2比較回路
である。この第2比較回路20は、前記バイアス電源5
に比較結果に応じた信号を出力するもので、これによシ
バイアスミ源5は電子ビーム6、すなわち電子ビーム電
流を制御する制御回路として作動する。なお、図中一点
鎖線で示す部分は高真空容器である。
は反射電子11を集める電極、 13は電極12に集め
られる反射電子の量、換言すれば反射電子ビーム電流の
値を検出する反射電子ビーム電流検出器、14は所望の
反射電子ビーム電流値を設定する第1設定器、15は反
射電子ビーム電流検出器13の出力値(反射電子ビーム
電流検出値)と第1設定器14の出力値(反射電子ビー
ム電流設定値)とを比較する第1比較回路である。さら
に16は所望の電子ビーム電流値を設定する第2設定器
、17はスイッチング素子、18はスイッチング素子1
7が閉じているとき、第1比較回路15の出力値を第2
設定器16の出力値(を子ビーム電流設定値)に加算す
る演算回路、19は電子ビーム電流検出器、20は演算
回路18の出力値と電子ビーム電流検出器19の出力値
(1!子ビーム電流検出値)とを比較する第2比較回路
である。この第2比較回路20は、前記バイアス電源5
に比較結果に応じた信号を出力するもので、これによシ
バイアスミ源5は電子ビーム6、すなわち電子ビーム電
流を制御する制御回路として作動する。なお、図中一点
鎖線で示す部分は高真空容器である。
次に上述本発明装置の動作について説明するが、電子ビ
ーム6による通常の溶接動作は従来装置と特に変わると
ころがないので、ここでは反射電子ビーム電流による電
子ビーム電流の制御動作について述べる。すなわち、溶
接動作が行われていると反射電子11が生じ、反射電子
ビーム電流検出器13により反射電子ビーム電流が検出
される。第1比較回路15は、反射電子ビーム電流検出
器13の出力値(以下IRと略称する)が、第1設定器
14の出力値(以下工、と略称する)よ)大きいときK
は十の値の信号を出力し、逆にIRが工、よシ小さいと
きには−の値の信号を出力する。ここでスイッチング素
子17が閉の場合、演算回路18は第2設定器16の出
力値(以下■いと略称する)と第2比較回路15の出力
値(以下IDと略称する)の加算を行う。すなわち演算
回路18の出力値(以下I。
ーム6による通常の溶接動作は従来装置と特に変わると
ころがないので、ここでは反射電子ビーム電流による電
子ビーム電流の制御動作について述べる。すなわち、溶
接動作が行われていると反射電子11が生じ、反射電子
ビーム電流検出器13により反射電子ビーム電流が検出
される。第1比較回路15は、反射電子ビーム電流検出
器13の出力値(以下IRと略称する)が、第1設定器
14の出力値(以下工、と略称する)よ)大きいときK
は十の値の信号を出力し、逆にIRが工、よシ小さいと
きには−の値の信号を出力する。ここでスイッチング素
子17が閉の場合、演算回路18は第2設定器16の出
力値(以下■いと略称する)と第2比較回路15の出力
値(以下IDと略称する)の加算を行う。すなわち演算
回路18の出力値(以下I。
と略称する)は■い+1゜となり、■。が+ならは工。
は増加、■。が−ならば工。は減少する。次に第2比較
回路20は、電子ビーム電流検出器19の出力値(以下
IBと略称する)と工。を比較し、■、が工。
回路20は、電子ビーム電流検出器19の出力値(以下
IBと略称する)と工。を比較し、■、が工。
よシ大きければ電子ビーム電流を減少し、逆に■8が■
。よ)小さければ電子ビーム電流を増加させる信号をバ
イアス電源5に出力し、バイアス電源5は制御回路とし
て電子ビーム電流をそのように制御する。したがってI
、>I3のとき、■。は+の値となって1゜は増加し、
電子ビーム電流は増加する。
。よ)小さければ電子ビーム電流を増加させる信号をバ
イアス電源5に出力し、バイアス電源5は制御回路とし
て電子ビーム電流をそのように制御する。したがってI
、>I3のとき、■。は+の値となって1゜は増加し、
電子ビーム電流は増加する。
ここで、電子ビーム電流と反射電子ビーム電流の関係は
、第2図に示す通シ、被溶接材9を電子ビーム6が貫通
しているか否かで特性が変化するため、常時上述したよ
うに動作させることはできない。すなわち貫通状態では
、I、>I、のときに、上述した通り電子ビーム電流は
増加するため反射電子ビーム電流は減少し、逆にI、(
I、の時は、電子ビーム電流は減少するため反射電子ビ
ーム電流は増加する。これによシ常にI、=I5に保持
されることになり、被溶接材9の裏面には均一な裏ビー
ドが形成される。一方、被溶接材9を電子ビーム6が貫
通していない状態では、これとは逆の動作となるためI
、=I5に保持させることはできない。
、第2図に示す通シ、被溶接材9を電子ビーム6が貫通
しているか否かで特性が変化するため、常時上述したよ
うに動作させることはできない。すなわち貫通状態では
、I、>I、のときに、上述した通り電子ビーム電流は
増加するため反射電子ビーム電流は減少し、逆にI、(
I、の時は、電子ビーム電流は減少するため反射電子ビ
ーム電流は増加する。これによシ常にI、=I5に保持
されることになり、被溶接材9の裏面には均一な裏ビー
ドが形成される。一方、被溶接材9を電子ビーム6が貫
通していない状態では、これとは逆の動作となるためI
、=I5に保持させることはできない。
そこで本発明装置では、適宜構成のスイッチング素子開
閉手段により、被溶接材9を電子ビーム6が貫通してい
るときにはスイッチング素子17を閉じて上述したよう
に動作させ、貫通していないときにはスイッチング素子
17を開くことにより、貫通、非貫通状態にかかわらず
被溶接材9の裏面に均一な裏ビードを形成させるもので
ある。なお、スイッチング素子17が開いているとき(
電子ビーム6非貫通状態)には、■いが■8と第2比較
回路20で比較され、その比較結果に応じてバイアス電
源5を制御して電子ビーム6(電子ビーム電流)を制御
し、■い=I、に保持させるもので、これにより被溶接
材9の裏面に均一な裏ビードを形成させる。
閉手段により、被溶接材9を電子ビーム6が貫通してい
るときにはスイッチング素子17を閉じて上述したよう
に動作させ、貫通していないときにはスイッチング素子
17を開くことにより、貫通、非貫通状態にかかわらず
被溶接材9の裏面に均一な裏ビードを形成させるもので
ある。なお、スイッチング素子17が開いているとき(
電子ビーム6非貫通状態)には、■いが■8と第2比較
回路20で比較され、その比較結果に応じてバイアス電
源5を制御して電子ビーム6(電子ビーム電流)を制御
し、■い=I、に保持させるもので、これにより被溶接
材9の裏面に均一な裏ビードを形成させる。
以上述べたように本発明によれば、被溶接材9に対して
電子ビーム6が非貫通状態にあっても、貫通状態にあっ
ても電子ビーム電流を有効に制御でき、より均一な裏ビ
ードを形成させることができるという効果がある。
電子ビーム6が非貫通状態にあっても、貫通状態にあっ
ても電子ビーム電流を有効に制御でき、より均一な裏ビ
ードを形成させることができるという効果がある。
第1図は本発明装置の一実施例を示すブロック図、第2
図は電子ビーム溶接における電子ビーム電流と反射電子
ビーム電流の関係を示すグラフである。 5・・・バイアス電源(電子ビーム電流制御回路)、6
・・・電子ビーム、9・・・被溶接材、10・・・溶接
箇所、11・・・反射電子、13・・・反射電子ビーム
電流検出器、15.20・・・第1.第2比較回路、1
7・・・スイッチング素子、18・・・演算回路、19
・・・電子ビーム電流検出器、IR・・・検出器13出
力値(反射電子ビーム電流設定値)、■い・・・設定器
16出力値(電子ビーム電流設定値)、王、・・・検出
器19出力値(1!子ビーム電流検出値)。
図は電子ビーム溶接における電子ビーム電流と反射電子
ビーム電流の関係を示すグラフである。 5・・・バイアス電源(電子ビーム電流制御回路)、6
・・・電子ビーム、9・・・被溶接材、10・・・溶接
箇所、11・・・反射電子、13・・・反射電子ビーム
電流検出器、15.20・・・第1.第2比較回路、1
7・・・スイッチング素子、18・・・演算回路、19
・・・電子ビーム電流検出器、IR・・・検出器13出
力値(反射電子ビーム電流設定値)、■い・・・設定器
16出力値(電子ビーム電流設定値)、王、・・・検出
器19出力値(1!子ビーム電流検出値)。
Claims (1)
- 被溶接材の溶接箇所からの反射電子ビーム電流を検出し
て電子ビーム電流を制御することにより、前記被溶接材
の裏面に均一な裏ビードを形成させる電子ビーム溶接装
置において、検出された前記反射電子ビーム電流の値を
反射電子ビーム電流設定値と比較する第1比較回路と、
この第1比較回路の出力値を電子ビーム電流設定値に加
算する演算回路と、この演算回路の出力値を電子ビーム
電流検出値と比較する第2比較回路と、この第2比較回
路の出力信号により前記電子ビーム電流を制御する制御
回路と、前記第1比較回路と演算回路の間に設けられた
スイッチング素子と、前記被溶接材を電子ビームが貫通
しているときには前記スイッチング素子を閉じ、貫通し
ていないときには前記スイッチング素子を開くスイッチ
ング素子開閉手段とを具備することを特徴とする電子ビ
ーム溶接装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19321985A JPS6254585A (ja) | 1985-09-03 | 1985-09-03 | 電子ビ−ム溶接装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19321985A JPS6254585A (ja) | 1985-09-03 | 1985-09-03 | 電子ビ−ム溶接装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6254585A true JPS6254585A (ja) | 1987-03-10 |
Family
ID=16304292
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19321985A Pending JPS6254585A (ja) | 1985-09-03 | 1985-09-03 | 電子ビ−ム溶接装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6254585A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5317116A (en) * | 1989-08-02 | 1994-05-31 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Pulse welding apparatus |
-
1985
- 1985-09-03 JP JP19321985A patent/JPS6254585A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5317116A (en) * | 1989-08-02 | 1994-05-31 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Pulse welding apparatus |
| US5416299A (en) * | 1989-08-02 | 1995-05-16 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Pulse welding apparatus |
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