JPS6257140A - パタ−ン基板作成方法 - Google Patents
パタ−ン基板作成方法Info
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- JPS6257140A JPS6257140A JP19647685A JP19647685A JPS6257140A JP S6257140 A JPS6257140 A JP S6257140A JP 19647685 A JP19647685 A JP 19647685A JP 19647685 A JP19647685 A JP 19647685A JP S6257140 A JPS6257140 A JP S6257140A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 32
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
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Landscapes
- Transmission And Conversion Of Sensor Element Output (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は基板上にパターンを形成するパターン基板作成
方法に関する。
方法に関する。
本発明は、基板上にパターンを形成するパターン作成方
法において、基板に取付は位置決め部を形状加工し、こ
の取付は位置決め部を用いて、最終組立時の被取付は部
材と略同一形状の仮位置決め部材に基板を最終組立時と
略同一係合状態で仮取付けし、この仮位置決め部材を位
置基準にして基板にパターン転写を行ない、パターン形
成を行なう各工程から成るパターン基板作成方法を用い
たことにより、取付は位置決め部に対するパターンの位
置が正確になり、パターン基板を被取付は部材に最終組
立てする際にパターンの位置を精密に取付けることを可
能としたものである。
法において、基板に取付は位置決め部を形状加工し、こ
の取付は位置決め部を用いて、最終組立時の被取付は部
材と略同一形状の仮位置決め部材に基板を最終組立時と
略同一係合状態で仮取付けし、この仮位置決め部材を位
置基準にして基板にパターン転写を行ない、パターン形
成を行なう各工程から成るパターン基板作成方法を用い
たことにより、取付は位置決め部に対するパターンの位
置が正確になり、パターン基板を被取付は部材に最終組
立てする際にパターンの位置を精密に取付けることを可
能としたものである。
従来のパターン基板の作成方法は、第２図に示す如く、
基板６に（ａ）ｉずパターン７を成形しくｂ）、次にパ
ターンに合せて基板形状、取付位置決め部を加工する（
Ｃ）ものであった。
基板６に（ａ）ｉずパターン７を成形しくｂ）、次にパ
ターンに合せて基板形状、取付位置決め部を加工する（
Ｃ）ものであった。
〔発明が解決しようとする問題点及び目的〕しかし、前
述の従来技術では、パターンに合せて基板形状をする際
に、形状加工の加工精度がないため、パターンと取付は
位置決め部との位置関係が合わないという欠点を有し、
精密な取付位置決めが必要とされる場合は、基板の取付
は位置決め部を用いて取付けることが出来ず、−個一個
基板の取付は位置を、顕微鏡等を見て調整しながら取付
けなければならないという問題点を有していた０ そこで本発明では、従来のこのような問題点を解決する
もので、その目的とするところは、パターン基板の取付
は位置決め部に対するパターンの位置が正確であるパタ
ーン基板作成方法を提供することにより、前述−の取付
は時の調整を不要とし、かつ調整時に発生する位置誤差
を減少させるものである。
述の従来技術では、パターンに合せて基板形状をする際
に、形状加工の加工精度がないため、パターンと取付は
位置決め部との位置関係が合わないという欠点を有し、
精密な取付位置決めが必要とされる場合は、基板の取付
は位置決め部を用いて取付けることが出来ず、−個一個
基板の取付は位置を、顕微鏡等を見て調整しながら取付
けなければならないという問題点を有していた０ そこで本発明では、従来のこのような問題点を解決する
もので、その目的とするところは、パターン基板の取付
は位置決め部に対するパターンの位置が正確であるパタ
ーン基板作成方法を提供することにより、前述−の取付
は時の調整を不要とし、かつ調整時に発生する位置誤差
を減少させるものである。
本発明のパターン基板作成方法は、
ｂ）基板に取付は位置決め部を形状加工し、Ｃ）この取
付は位置決め部を用いて、最終組立時の被取付は部材と
略同一形状の仮位置決め部材に基板を最終組立時と略同
一係合状態で仮取付けし、 ｄ）この仮位置決め部材を位置基準にして基板にパター
ン転写を行ない、 ｅ）ノゞターン形成を行なう各工程から成ることを特徴
とする。
付は位置決め部を用いて、最終組立時の被取付は部材と
略同一形状の仮位置決め部材に基板を最終組立時と略同
一係合状態で仮取付けし、 ｄ）この仮位置決め部材を位置基準にして基板にパター
ン転写を行ない、 ｅ）ノゞターン形成を行なう各工程から成ることを特徴
とする。
本発明の上記のパターン基板作成方法によれば、基板の
取付は位置決め部を位置基準にパターンの転写形成が行
なわれるため、取付は位置決め部に対するパターンの位
置が正確になる。そのため、基板の最終取付は時の調整
が不要となる。
取付は位置決め部を位置基準にパターンの転写形成が行
なわれるため、取付は位置決め部に対するパターンの位
置が正確になる。そのため、基板の最終取付は時の調整
が不要となる。
〔実施例−１〕
第１図は本発明の一実施例によるパターン基板作成の工
程図であり、エンコーダの回転スリット板に応用したも
のである。１は基板であるガラス基板であり、パターン
をフォトリングラフイー技術を用いて形成するために、
ガラス上にクロムの膜およびフォトレジスト層が形成さ
れている。２は取付は位置決め部である取付は穴であり
、正確な位置決めが可能となるように角穴が明けである
。
程図であり、エンコーダの回転スリット板に応用したも
のである。１は基板であるガラス基板であり、パターン
をフォトリングラフイー技術を用いて形成するために、
ガラス上にクロムの膜およびフォトレジスト層が形成さ
れている。２は取付は位置決め部である取付は穴であり
、正確な位置決めが可能となるように角穴が明けである
。
３は最終組立時の被取付は部材と略同一形状の仮位置決
め部材である仮位置決め用軸であり、最終組立時のガラ
ス基板の被取付は部材であるエンコーダ軸６と同じ軸径
の円筒形をしている。
め部材である仮位置決め用軸であり、最終組立時のガラ
ス基板の被取付は部材であるエンコーダ軸６と同じ軸径
の円筒形をしている。
第３図はガラス基板を仮位置決め用軸に仮取付けした際
の保合状態を示す図であり、第１図（Ｃ）を上から見た
図に相当する。ガラス基板１は仮位置決め軸３に角穴一
つの隅を押しつけるようにして位置決めを行なう。この
ため、ガラス基板とエンコーダ軸は、接触点９および１
０での二点接触をなす保合状態となる。このため、位置
決めは再現性のある正確なものとなる。４はガラス基板
にパターンを転写するためのフォトマスクであり、スリ
ットパターンのマスクが形成しである。このフォトマス
クには位置決め用に基板と同様な角穴が開けてあり、位
置決め用軸３に角穴の一つの角を押しつけるようにして
位置決めする。なおこのフォトマスクの角穴は、基板の
取付は穴２と異なり、パターンの位置に合せて、精密に
形状を作り込んだものである。５はエンコーダのスリッ
トパターンである。第１図に基づいてパターン基板作成
方法の工程を説明する。パターン作成前のガラス基板の
状ｆｌ（ａ）にまず取付は位置決め部２および外形の形
状加工を行なう（ｌの次に取付は穴２の一つの隅を仮位
置決め用軸３に押しつけ・二点接触をなすようにして位
置決めを行なうことにより、仮位置決め部材に基板を最
終組立時と略同一係合状態で仮取付けを行なう（Ｃ）。
の保合状態を示す図であり、第１図（Ｃ）を上から見た
図に相当する。ガラス基板１は仮位置決め軸３に角穴一
つの隅を押しつけるようにして位置決めを行なう。この
ため、ガラス基板とエンコーダ軸は、接触点９および１
０での二点接触をなす保合状態となる。このため、位置
決めは再現性のある正確なものとなる。４はガラス基板
にパターンを転写するためのフォトマスクであり、スリ
ットパターンのマスクが形成しである。このフォトマス
クには位置決め用に基板と同様な角穴が開けてあり、位
置決め用軸３に角穴の一つの角を押しつけるようにして
位置決めする。なおこのフォトマスクの角穴は、基板の
取付は穴２と異なり、パターンの位置に合せて、精密に
形状を作り込んだものである。５はエンコーダのスリッ
トパターンである。第１図に基づいてパターン基板作成
方法の工程を説明する。パターン作成前のガラス基板の
状ｆｌ（ａ）にまず取付は位置決め部２および外形の形
状加工を行なう（ｌの次に取付は穴２の一つの隅を仮位
置決め用軸３に押しつけ・二点接触をなすようにして位
置決めを行なうことにより、仮位置決め部材に基板を最
終組立時と略同一係合状態で仮取付けを行なう（Ｃ）。
次にフォトマスク４を前述のように仮位置決め用軸３を
基進に位置決めし、露光を行なうことにより一基板にパ
ターン転写を行なう（ｄ）。次に露光を行なったガラス
基板を現像、エツチングしてスリットパターン５を形成
したガラス基板が出来上がる（、）。スリットパターン
を形成したガラス基板はエンコーダ軸６に取付は穴２の
一つの隅を押しつけるようにして位置決めし、接着によ
り、取付は固定を行なっている（ｆ）。
基進に位置決めし、露光を行なうことにより一基板にパ
ターン転写を行なう（ｄ）。次に露光を行なったガラス
基板を現像、エツチングしてスリットパターン５を形成
したガラス基板が出来上がる（、）。スリットパターン
を形成したガラス基板はエンコーダ軸６に取付は穴２の
一つの隅を押しつけるようにして位置決めし、接着によ
り、取付は固定を行なっている（ｆ）。
このように、基板の取付は位置決め部を用い、これを基
準にスリットパターンの転写、形成を行なったため、取
付は穴２の形状精度が多少悪くても、最終組立時にエン
コーダ軸乙にスリットパターンを形成したガラス基板を
取り付けた場合、スリットパターンの位置はエンコーダ
軸に対して正確な位置に取付けることが可能となった。
準にスリットパターンの転写、形成を行なったため、取
付は穴２の形状精度が多少悪くても、最終組立時にエン
コーダ軸乙にスリットパターンを形成したガラス基板を
取り付けた場合、スリットパターンの位置はエンコーダ
軸に対して正確な位置に取付けることが可能となった。
しだがって従来のように顕微鏡等を見ながら調整、取付
けを行なう必要が全くなくなった。
けを行なう必要が全くなくなった。
〔実施例２〕
エンコーダの固定−スリット板に応用したものを第４図
に示す。なお、パターン基板作成の工程は実施例−１と
ほぼ同じなので省略する。第４図は固定スリット板用の
ガラス基板１１を仮位置決めした際の保合状態を示す図
であり、１３は仮位置決め用軸、１４はもう一つの仮位
置決め用軸であり、二本で一組となっている。ガラス基
板１１は、接触点１５，１６．１７の三点接触をなす係
合状態で仮位置決めする。パターン基板作成は、まず基
板の外径および位置決め部を加工し、次に第４図に示す
仮位置決め状態でスリットパターン１２を前述の仮位置
決め用軸１！１．１４を基準に転写し、パターン形成を
行なう。以上のようにしてパターン基板を作成したため
、パターン基板をエンコーダに最終組立した際に、パタ
ーン位置を精密に取付けることが可能となった。１８は
切断用のみそであり、最終組立後接着が完了してから不
要部分である左側部を折り取って使用する。
に示す。なお、パターン基板作成の工程は実施例−１と
ほぼ同じなので省略する。第４図は固定スリット板用の
ガラス基板１１を仮位置決めした際の保合状態を示す図
であり、１３は仮位置決め用軸、１４はもう一つの仮位
置決め用軸であり、二本で一組となっている。ガラス基
板１１は、接触点１５，１６．１７の三点接触をなす係
合状態で仮位置決めする。パターン基板作成は、まず基
板の外径および位置決め部を加工し、次に第４図に示す
仮位置決め状態でスリットパターン１２を前述の仮位置
決め用軸１！１．１４を基準に転写し、パターン形成を
行なう。以上のようにしてパターン基板を作成したため
、パターン基板をエンコーダに最終組立した際に、パタ
ーン位置を精密に取付けることが可能となった。１８は
切断用のみそであり、最終組立後接着が完了してから不
要部分である左側部を折り取って使用する。
なお、実施例−１では取付は穴として角穴を用いたが、
その他再現性のある位置決め方法ならばいろいろな位置
決め方法を用いることも出来る。
その他再現性のある位置決め方法ならばいろいろな位置
決め方法を用いることも出来る。
またフォトマスクの位置決め方法は、本実施例のように
基板と同様な位置決め方法を用いる必要はない。パター
ンの作成方法は本実施例のようなエツチングを用いろも
のの他、選択デポジット等いろいろな作成方法を用いる
ことができる。本発明によるパターン形成方法は、本実
施例のような、ガラスのスリット板の他、モータ基板の
ＦＧ回路パターン形成などいろいろなものに適用するこ
とが可能であること１は言うまでもない。
基板と同様な位置決め方法を用いる必要はない。パター
ンの作成方法は本実施例のようなエツチングを用いろも
のの他、選択デポジット等いろいろな作成方法を用いる
ことができる。本発明によるパターン形成方法は、本実
施例のような、ガラスのスリット板の他、モータ基板の
ＦＧ回路パターン形成などいろいろなものに適用するこ
とが可能であること１は言うまでもない。
〔発明の効果〕
本発明によれば、基板に取付は位置決め部を形状加工し
、この取付は位置決め部を用いて、最終組立時の被取付
は部材と略同一形状の仮位攬決め部材に基板を最終組立
時と略同一係合状態で仮取付けし、この仮位置決め部材
を位置基準にして基板にパターン転写を行ない、パター
ン形成を行なう各工程から成るパターン基板作成方法を
用いたことにより、取付は位置決め部に対するパターン
の位置が正確になり、パターン基板を被取付は部材に最
終組立てする際にパターンの位置をきわめて精密に取付
けることが容易となった◇
、この取付は位置決め部を用いて、最終組立時の被取付
は部材と略同一形状の仮位攬決め部材に基板を最終組立
時と略同一係合状態で仮取付けし、この仮位置決め部材
を位置基準にして基板にパターン転写を行ない、パター
ン形成を行なう各工程から成るパターン基板作成方法を
用いたことにより、取付は位置決め部に対するパターン
の位置が正確になり、パターン基板を被取付は部材に最
終組立てする際にパターンの位置をきわめて精密に取付
けることが容易となった◇
？ｌｃＩ図（＆）〜（ｆ）は本発明によるパターン形成
の工程図、 第２図（ａ）〜（Ｃ）は従来のパターン形成の工程図、
第３図は保合状態図、 第４図は係合状態図、。 １・・・・・・ガラス基板 ２・・・・・・取付は穴 ３・・・・・・仮位置決め用軸 ４・・・山フォトマスク ５・・・・・・スリットバター ｙ ６・旧・・エンコーダ軸 ７・・・・・・ガラス基板 ８・・・・・・パターン ９．１０・・団・接触点 １１・・・・・・ガラス基板 １２・・・・・・スリットパターン １３．１４・・・・・・仮位置決め用軸１５．１６．１
７・旧・・接触点 １８・・・・・・切断用みぞ 以 上 第２ ＠ （ｏ−） 第一２図＜ｂ） 第２図（Ｃ） 鍵−Ｊｃ−はターン形成二程回 第２図 第 １＠（Ｌン 第１図（ら２ ぽワーン俄Ｉ撓工鴫し１ 第１図 第１図＜Ａ＞ 第り図（ａ） 第１ｒｌＡ“ゝ
の工程図、 第２図（ａ）〜（Ｃ）は従来のパターン形成の工程図、
第３図は保合状態図、 第４図は係合状態図、。 １・・・・・・ガラス基板 ２・・・・・・取付は穴 ３・・・・・・仮位置決め用軸 ４・・・山フォトマスク ５・・・・・・スリットバター ｙ ６・旧・・エンコーダ軸 ７・・・・・・ガラス基板 ８・・・・・・パターン ９．１０・・団・接触点 １１・・・・・・ガラス基板 １２・・・・・・スリットパターン １３．１４・・・・・・仮位置決め用軸１５．１６．１
７・旧・・接触点 １８・・・・・・切断用みぞ 以 上 第２ ＠ （ｏ−） 第一２図＜ｂ） 第２図（Ｃ） 鍵−Ｊｃ−はターン形成二程回 第２図 第 １＠（Ｌン 第１図（ら２ ぽワーン俄Ｉ撓工鴫し１ 第１図 第１図＜Ａ＞ 第り図（ａ） 第１ｒｌＡ“ゝ
Claims (4)
- （１） ａ）基板上にパターンを形成するパターン基板作成方法
において、 ｂ）基板に取付け位置決め部を形状加工し、 ｃ）該取付け位置決め部を用いて、最終組立時の被取付
け部材と略同一形状の仮位置決 め部材に基板を最終組立時と略同一係合状態で仮取付け
し、 ｄ）該仮位置決め部材を位置基準にして基板にパターン
転写を行ない、 ｅ）パターン形成を行なう各工程から成るパターン基板
作成方法。 - （２）前記係合状態が二点接触をなすことを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載のパターン基板作成方法。 - （３）前記取付け位置決め部形状が角穴であり、前記仮
位置決め部材が円筒形である特許請求の範囲第１項およ
び第２項に記載のパターン基板作成方法。 - （４）前記係合状態が三点接触をなすことを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載のパターン基板作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19647685A JPS6257140A (ja) | 1985-09-05 | 1985-09-05 | パタ−ン基板作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19647685A JPS6257140A (ja) | 1985-09-05 | 1985-09-05 | パタ−ン基板作成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6257140A true JPS6257140A (ja) | 1987-03-12 |
Family
ID=16358432
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19647685A Pending JPS6257140A (ja) | 1985-09-05 | 1985-09-05 | パタ−ン基板作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6257140A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0913669A3 (de) * | 1997-10-31 | 2000-10-25 | Dr. Johannes Heidenhain GmbH | Verfahren zum Anbringen einer Winkelteilung an einer Teilscheibe für Rotationsmesssysteme sowie Teilscheibe mit Winkelteilung für Rotationsmesssysteme |
-
1985
- 1985-09-05 JP JP19647685A patent/JPS6257140A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0913669A3 (de) * | 1997-10-31 | 2000-10-25 | Dr. Johannes Heidenhain GmbH | Verfahren zum Anbringen einer Winkelteilung an einer Teilscheibe für Rotationsmesssysteme sowie Teilscheibe mit Winkelteilung für Rotationsmesssysteme |
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